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国家自然科学基金(50132040)

作品数:13 被引量:66H指数:5
相关作者:谢家纯蔺玉胜孟阿兰胡林辉谢长坤更多>>
相关机构:中国科学技术大学青岛科技大学中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国科学院知识创新工程更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 13篇中文期刊文章

领域

  • 6篇理学
  • 4篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇化学工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 7篇碳化硅
  • 5篇SIC
  • 4篇半导体
  • 2篇带隙
  • 2篇单晶
  • 2篇电子结构
  • 2篇子结构
  • 2篇肖特基
  • 2篇纳米
  • 2篇宽带隙
  • 2篇Β-SIC
  • 2篇半导体材料
  • 1篇单晶生长
  • 1篇第一性原理
  • 1篇第一性原理计...
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学性能
  • 1篇电特性
  • 1篇阳极氧化法
  • 1篇氧化锌

机构

  • 7篇中国科学技术...
  • 3篇青岛科技大学
  • 2篇中国科学院

作者

  • 4篇谢家纯
  • 3篇孟阿兰
  • 3篇徐法强
  • 3篇徐彭寿
  • 3篇蔺玉胜
  • 3篇潘海斌
  • 3篇谢长坤
  • 3篇胡林辉
  • 2篇易波
  • 2篇肖兵
  • 2篇庄击勇
  • 2篇陈之战
  • 2篇徐军
  • 2篇施尔畏
  • 2篇李镇江
  • 2篇王丽玉
  • 1篇王光信
  • 1篇张淼
  • 1篇刘峥嵘
  • 1篇郭俊福

传媒

  • 3篇中国科学技术...
  • 2篇稀有金属材料...
  • 1篇传感器技术
  • 1篇科学通报
  • 1篇物理学报
  • 1篇无机化学学报
  • 1篇核技术
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇材料导报
  • 1篇Scienc...

年份

  • 1篇2008
  • 3篇2005
  • 5篇2003
  • 4篇2002
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
大面积SiC纳米线网的合成及形成机理被引量:1
2005年
利用气相化学反应法,在相对低的温度下,于自制石墨反应室中合成出二维半导体β-SiC纳米线网.该方法使用球磨及研磨混合后的Si和SiO2混合粉体及C3H6气体为原材料,通过调整基片与原料混合粉在石墨反应室的摆放位置、C3H6通入流量和时间、保温时间及其它工艺参数,可获得二维半导体β-SiC纳米线网.场发射扫描电镜、能量损失谱、X-Ray衍射、高分辨透射电镜结果表明:纳米线彼此相连形成二维纳米线网,并且纳米线的直径大约在20 nm~70nm左右.值得注意的是绝大多数纳米线网的连接点是由3根纳米线交汇而成.纳米线是具有立方结构的β-SiC,其生长方向是〈111〉,并且存在大量面缺陷.最后对这种新型二维SiC纳米线网的形成机理进行了探讨.
孟阿兰李镇江张灿英蔺玉胜张淼
镊子状GaN纳米材料的合成、机理及光致发光特性
2005年
报道了1种新形态的GaN低维纳米材料--镊子状纳米GaN的合成及其新颖的光致发光特性.首先,对单晶MgO基片表面进行化学刻蚀,使其表面形成规则的小山峰样突起结构.随后,通过金属镓与氨气反应,在经上述特殊处理后的立方MgO单晶基片上,首次成功地合成出镊子状纳米GaN.场发射扫描电镜、能量损失谱、X-Ray衍射、透射电镜及选区电子衍射结果表明:镊子状纳米GaN是由底部的1根直径大约为100 nm~150 nm的纳米棒和上部的2根直径大约为40 nm~70nm的纳米针组成;纳米镊子是具有立方闪锌矿结构的GaN单晶.光致发光谱研究表明,镊子状纳米GaN在450nm左右有1个宽的强发光峰,该发光峰处于蓝带发光区.此外,在418 nm,450 nm及469 nm处各有1个劈裂峰.
孟阿兰汪传生蔺玉胜侯俊英李镇江
关键词:光致发光特性
α-SiC“非汉字符号”表面结构的第一性原理计算被引量:4
2002年
用全势缀加平面波方法 (FPLAPW)计算了α SiC及其非极性 (10 10 )表面的原子与电子结构 .计算出的α SiC晶体结构参量 :晶格常量和体积弹性模量与实验值符合得很好 .用平板超原胞模型来计算α SiC(10 10 )表面的原子与电子结构 ,结果表明表面顶层原子发生键长收缩并扭转的弛豫特性 ,表面阳离子Si,C向体内方向发生不同程度的位移 .表面重构的机理为Si,C原子由原来的sp3杂化方式退化为sp2 杂化 ,与其三配位异种原子近似以平面构型成键 .另外 。
谢长坤徐彭寿徐法强潘海斌
关键词:第一性原理计算碳化硅电子结构半导体材料
SiC单晶生长研究进展被引量:3
2002年
SiC单晶生长是一个引人注目的研究热点,受到各国政府、科研人员的广泛关注。本文综述了SiC单晶生长的研究进展,对目前广泛采用的PVT法进行了详细介绍,讨论了原料、籽晶、温度、温度梯度、载体气压对单晶生长和质量的影响。对今后的研究方向提出了看法。
陈之战施尔畏肖兵庄击勇
关键词:SIC单晶生长碳化硅半导体材料
Theoretical calculations on the atomic and electronic structure of β-SiC(110) surface被引量:1
2002年
We present a theoretical calculation of the atomic and electronic structure of β-SiC and its non-polar (110) surface using the full potential linear augmented plane wave (FPLAPW) approach. The calculated lattice constant and bulk modulus of p-SiC crystal are in excellent agreement with experimental data. The atomic and electronic structure of β-SiC(110) surface has been calculated by employing the slab and supercell model. It is found that the surface is characterized by a top-layer bond-length-contracting rotation relaxation in which the Si-surface atom moves closer towards the substrate while the C-surface atom moves outward. This relaxation is analogous to that of Ⅲ-Ⅴ semiconductor surface. The driving mechanism for this atomic rearrangement is that the Si atom tends to a planar sp2-like bonding situation with its three N neighbors and the N atom tends to a p3-like bonding with its three Si neighbors. Furthermore, surface relaxation induces the change from metallic to semiconducting
Changkun Xie
关键词:FPLAPWSURFACEATOMICSTRUCTURESURFACE
ZnO纳米线的电化学制备研究被引量:28
2005年
0引言氧化锌(ZnO)是一种重要的宽禁带、直接带隙(3.37 eV)半导体材料.它具有极好的抗氧化和抗腐蚀能力、高的熔点、良好的机电耦合性及环保性.因此作为一种重要的工业原料,已被广泛应用于工业用品、化妆品及药物的生产和加工.
孟阿兰蔺玉胜王光信
关键词:ZNO纳米线电化学性能阳极氧化法氧化锌
碳化硅紫外探测器的研究被引量:4
2003年
采用宽禁带半导体n 4H SiC和金属Au作肖特基接触 ,TiNiAg合金作背底形成欧姆接触 ,研制出Au/n 4H SiC肖特基紫外探测器 .测试分析了该器件的光谱响应特性 :响应范围为 2 0 0~ 4 0 0nm之间 ;在室温无偏压下 ,响应峰值在 31 0nm处 ,响应半宽为 85nm .同时测试分析了该器件的I V特性 :在室温下 ,正向开启电压为 0 .8V ,反向击穿电压大于 2 0 0V ,反向漏电流小于 1 0 -10 A ;工作温度大于 2 50℃ .实验表明 ,Au/n 4H
王丽玉谢家纯胡林辉王克彦
关键词:宽禁带SIC肖特基光谱响应
NSRL在宽带隙半导体能带结构的研究进展
2003年
综述了中国科技大学国家同步辐射实验室(NSRL)在宽带隙半导体能带结构的研究进展。首次利用全势线性Muffin-tin 轨道(FP-LMTO)方法,计算了ZnO及其几种本征点缺陷的能带结构,从理论上证明了Zn填隙是引起ZnO的本征n型导电性的主要原因,并讨论了它们对ZnO的光谱特性的影响。利用同步辐射角分辨光电子能谱技术研究了纤锌矿结构GaN(0001)体态和表面态的能带色散。首次通过全势缀加平面波(FPLAPW)方法,对β-SiC(110)表面进行了第一性原理计算。我们的计算结果显示出顶层Si-C键长收缩且发生扭转的驰豫特性,而表面弛豫实现了从金属性到半导体性质的转变。
徐彭寿谢长坤孙玉明徐法强邓锐潘海斌施朝淑
关键词:宽带隙半导体角分辨光电子能谱
原料对碳化硅单晶生长的影响被引量:6
2003年
研究了具有立方结构的碳化硅(β-SiC)粉料在单晶生长过程中的物相变化及对生长晶体均匀性、缺陷等的影响。实验发现,在晶体生长过程中原料的晶型转变和Si、C挥发不一致造成晶体沿生长方向存在一个Si/C摩尔比的最大值。晶体中的针孔等缺陷的形成与原料中的杂质和气相组分偏离Si/C=1摩尔比有关,并通过电子探针得到证实。
陈之战施尔畏肖兵庄击勇
关键词:碳化硅单晶相转变针孔
不同衬底材料的ZnO/Si异质结I-V及光电特性被引量:5
2008年
采用脉冲激光沉积(PLD)技术和微电子平面工艺,用不同表面掺杂的Si作为衬底制备了ZnO/Si异质结,并且以p-Si(p-)为衬底制备了ZnO(含Mn0.2%)/Si异质结、包含SiC缓冲层的ZnO/SiC/Si和ZnO(含Mn0.2%)/SiC/Si结构,测试了样品的XRD曲线、I-V特性曲线和P-E(光电响应)特性曲线.结果发现ZnO/n-Si结有很低的反向暗电流,SiC缓冲层能提高反向击穿电压,ZnO/p-Si(p+)异质结能有较强的光电响应,ZnO/n-Si(n-)更适合作为大波段区间的光探测器.还发现波长470,480,490nm处类似于声子伴线的光谱结构.
刘峥嵘谢家纯郭俊福李雪白赵朝阳刘文齐傅竹西
关键词:ZNO脉冲激光沉积深能级
共2页<12>
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