2024年12月15日
星期日
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
重庆市自然科学基金(cstc2012jiB70002)
作品数:
1
被引量:2
H指数:1
相关作者:
刘威
王松
李晖
孙迎军
陈勇
更多>>
相关机构:
重庆理工大学
更多>>
发文基金:
重庆市自然科学基金
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
金属学及工艺
更多>>
相关作品
相关人物
相关机构
相关资助
相关领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
金属学及工艺
主题
1篇
调质
1篇
涂层
1篇
溅射
1篇
溅射制备
1篇
CRN涂层
1篇
磁控
1篇
磁控溅射
1篇
磁控溅射制备
机构
1篇
重庆理工大学
作者
1篇
许洪斌
1篇
陈勇
1篇
孙迎军
1篇
李晖
1篇
王松
1篇
刘威
传媒
1篇
重庆理工大学...
年份
1篇
2013
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
调质40Cr磁控溅射制备CrN涂层工艺优化设计
被引量:2
2013年
为找到合适的工艺方案,使之能通过磁控溅射在调质40Cr表面制备得到性能良好的CrN涂层,采用正交试验的方法进行试验设计及数据分析。选取氮气流量、工作真空度、靶功率、沉积时间为主要因素,将涂层表面光洁度、涂层厚度、涂层硬度、涂层与基体的结合力作为衡量标准。结果表明最佳工艺方案为:N2流量为40 sccm,工作真空度为1.2 Pa,靶功率为150 W,沉积时间为120 min。
王松
李晖
陈勇
许洪斌
孙迎军
刘威
关键词:
磁控溅射
CRN涂层
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张