国家自然科学基金(31200189)
- 作品数：1 被引量：3H指数：1
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- 不同浓度NH_4^+和K^+处理对拟南芥突变体amos2侧根发育的影响被引量：3
- 2013年
- K+在缓解植物NH4+毒害过程中扮演着重要的角色。本文研究培养基中添加不同浓度(0.6、1.2和5.0mmol·L-1)的K+时,高NH4+(30或40mmol·L-1)对拟南芥野生型Col-0和NH4+超敏感突变体amos2侧根生长的影响。结果表明,在较低外源K+浓度(0.6和1.2mmol·L-1)下,30mmol·L-1NH4+使amos2的侧根数量减少85%~90%,超过对Col-0的2倍;外源K+浓度提高到5.0mmol·L-1时更显著缓解高NH4+对amos2侧根数量的抑制作用。高NH4+对Col-0和amos2新生根区侧根数量的抑制比对成熟根区的大。时间动态的结果表明:在低K+条件下,高NH4+处理的初始阶段,amos2侧根的发育已开始受到比Col-0更显著的抑制,且amos2侧根的出现受到更明显的延时;将外源K+浓度提高到5.0mmol·L-1能缓解这种延时效应。可见,在低K+条件下,AMOS2位点可能在拟南芥抵抗高NH4+对侧根的抑制过程中发挥作用,降低NH4+/K+比可能是提高拟南芥高NH4+抗性的手段。
- 冯晓宇李光杰董刚强施卫明
- 关键词：拟南芥突变体K^+侧根生长NH4^+
