您的位置: 专家智库 > >

湖南省科技厅科技计划项目(2008SK4024)

作品数:2 被引量:22H指数:2
相关作者:谭万春王云波稂友明郑思鑫更多>>
相关机构:长沙理工大学更多>>
发文基金:湖南省科技厅科技计划项目湖南省教育厅科研基金更多>>
相关领域:环境科学与工程建筑科学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇建筑科学
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 2篇有机废水
  • 2篇废水
  • 2篇高浓度
  • 2篇高浓度有机废...
  • 2篇FENTON...
  • 1篇有机硅
  • 1篇有机硅废水
  • 1篇废水研究
  • 1篇COD
  • 1篇FENTON
  • 1篇FENTON...

机构

  • 2篇长沙理工大学

作者

  • 2篇王云波
  • 2篇谭万春
  • 1篇郑思鑫
  • 1篇稂友明

传媒

  • 1篇水科学与工程...
  • 1篇环境工程学报

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
二级Fenton氧化高浓度有机硅废水研究被引量:19
2010年
采用二级Fenton氧化技术对可生化性差的高浓度有机硅废水进行处理,考察了不同因素对COD去除率的影响,对比了一级氧化和二级氧化的效果。结果表明对于COD为9600mg/L的高浓度有机硅废水,pH为3,[H2O2]/[Fe2+]=2:1为最佳的反应条件,COD去除率随着H2O2的投加量的增大先增大而后减小,每200mL水样中先投加20%的硫酸亚铁12mL,然后分2次投加30%的H2O2各4mL,氧化完成后调整pH值为7~8静止沉淀,COD去除率达89.2%。对于某绝缘电器厂的生产废水经二级Fenton氧化处理后,出水有机物浓度显著降低,可生化性提高,Fenton二级氧化可以作为高浓度有机硅废水的预处理工艺。
王云波谭万春郑思鑫稂友明李娟
关键词:高浓度有机废水有机硅FENTON
Fenton氧化处理高浓度有机硅废水影响因素研究被引量:10
2009年
采用Fenton氧化技术进行处理有机硅废水的主要影响因素,考察了pH值、[H2O2]∶[Fe2+]、Fe2+投加量、温度、反应时间对COD去除效果的影响。结果表明随着反应温度的升高,COD去除率会增大,但温度过高又会降低;随着反应时间的延长,COD的去除效果先增大,随后趋于稳定。在pH值为3,[H2O2]∶[Fe2+]=2∶1时,COD去除效果最佳,调整出水的pH值沉淀后会提高去除效果。对于COD为9600mg/L的高浓度有机硅废水在每200mL水样投加30%的H2O2 12mL,20%的硫酸亚铁36mL,调整出水pH值为7~8,沉淀后,COD去除率达88.6%。
李娟安鹏王云波谭万春
关键词:高浓度有机废水FENTON氧化COD
共1页<1>
聚类工具0