浙江省科技攻关计划(2009C11123)
- 作品数：2 被引量：10H指数：2
- 相关作者：汪爱英成浩孙丽丽陈锋光柯培玲更多>>
- 相关机构：中国科学院宁波材料技术与工程研究所更多>>
- 发文基金：浙江省科技攻关计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 真空阴极电弧制备TiAlN涂层的硬度及摩擦学性能研究被引量：4
- 2012年
- 采用真空阴极电弧制备了TiAlN涂层,研究了N2气压和基体负偏压对涂层硬度的影响规律,分析了涂层的致硬机理,探讨了硬度对摩擦学性能的影响。结果表明,N2降低入射离子能量,降低增原子扩散,导致晶粒细化;基体负偏压增大入射离子能量,导致涂层致密化并依次出现(200)、(111)、(220)、(200)择优取向。TiAlN涂层的硬度受Ti、Al、N原子间键能,生长面择优取向及晶粒显微组织的影响,其中最薄弱因素起决定作用。摩擦学性能研究表明,高硬度TiAlN涂层易形成磨粒磨损,摩擦系数和磨损率高;低硬度TiAlN涂层易发生粘着磨损,摩擦系数和磨损率低。
- 陈锋光柯培玲汪爱英
- 关键词：TIALN摩擦学
- 阴极电弧制备TiAlN薄膜工艺参数的正交分析研究被引量：6
- 2011年
- 为深入理解不同工艺参数对阴极电弧制备TiAlN薄膜性质的影响重要性,文中设计了L9(34)正交试验表,研究了基体负偏压、N2流量、阴极弧流对TiAlN沉积速率、表面粗糙度的影响,给出了工艺参数优化组合。结果表明:负偏压对TiAlN薄膜的沉积速率影响最大,其次是N2流量、弧流;对表面粗糙度的影响次序则为N2流量、弧流、负偏压。薄膜沉积速率随N2流量的升高而增大,随负偏压增加先增加后降低,随弧流的增大变化不明显。薄膜表面粗糙度随N2流量的升高逐渐减小,随负偏压的增加而增加,随弧流的增大而增大。
- 陈锋光孙丽丽成浩柯培玲汪爱英
- 关键词：TIALN沉积速率表面粗糙度
