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山东省自然科学基金(ZR2009GL010)

作品数:5 被引量:3H指数:1
相关作者:韩培高高博文孟婧王庆张蓓蓓更多>>
相关机构:曲阜师范大学更多>>
发文基金:山东省自然科学基金国家自然科学基金浙江省科技厅公益性技术应用研究(分析测试)计划项目更多>>
相关领域:理学机械工程更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇理学
  • 4篇机械工程

主题

  • 4篇光谱
  • 2篇质子
  • 2篇质子转移
  • 2篇谱学
  • 2篇相位
  • 2篇相位差
  • 2篇激发态
  • 2篇激发态质子转...
  • 2篇光谱学
  • 2篇光学
  • 2篇光轴
  • 2篇波片
  • 1篇调频
  • 1篇新型光敏剂
  • 1篇折射率
  • 1篇石英
  • 1篇石英晶体
  • 1篇双光子
  • 1篇双光子吸收
  • 1篇双折射

机构

  • 6篇曲阜师范大学

作者

  • 3篇韩培高
  • 2篇闫珂柱
  • 2篇孟婧
  • 2篇高博文
  • 2篇张蓓蓓
  • 1篇王海龙
  • 1篇张景虎
  • 1篇郝殿中
  • 1篇付世荣
  • 1篇吴福全
  • 1篇朱久凯
  • 1篇齐瑞云
  • 1篇王庆

传媒

  • 2篇光谱学与光谱...
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇曲阜师范大学...
  • 1篇激光技术
  • 1篇豫赣黑苏鲁五...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
5 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
新型光敏剂HA的激发光物理特性与敏化单态氧测量系统
2010年
为了进一步揭示HA(hypocrellinA)的激发态能级结构和物理机制,我们采用了强激光激发的方法进行了实验验证.结果表明利用HA的强激发辐射效应从一个侧面证实了ESIPT的存在,对于HA分子需要双光子吸收才能实现ESIPT过程.在此基础上建立了一种新的测量HA单态氧荧光光谱和量子产率的方法,定量测定了HA光敏剂敏化单态氧的量子产率.结果表明:测定单态氧在1270nm的荧光光谱,是在红外区精确测量HA敏化单态氧量子产率的直观方法.
孟婧高博文王海龙
关键词:光谱学竹红菌甲素激发态质子转移量子产率PDT
基于椭偏光谱仪的石英波片光轴方位探测被引量:1
2013年
波片的光轴方向是波片应用中最重要的参数之一。在椭偏光谱仪透射模式下,利用琼斯矩阵对波片旋转过程中P和S两方向上位相的变化进行分析,设计了一种判断石英波片光轴方向的新方法。应用此方法判断光轴方向,具有光路结构简单,检测速度快的特点,且具有很好的实用性。
张蓓蓓韩培高付世荣朱久凯闫珂柱
关键词:光谱波片光轴相位差
基于椭偏光谱仪的石英波片光轴方位探测
随着偏光技术的发展,石英波片作为各类光学仪器的基本器件,已经被广泛应用。光轴方向是波片的一个重要参量,波片在使用中必须先确定光轴方向。在椭偏光谱仪透射模式下,利用琼斯矩阵对波片旋转过程中P、S两方向上位相的变化进行分析,...
张蓓蓓韩培高闫珂柱
关键词:光谱波片光轴相位差
文献传递
新型激光光源染料HA宽带调谐发光物理机制被引量:1
2011年
为了研究和揭示竹红菌甲素(HA)的宽带调谐发光物理机制,采用强激光激发的方法,主要研究了HA的强激发辐射效应,从一个侧面证实了激发态质子转移(ESIPT)的存在,同时进行了理论分析和实验验证,并给出了HA分子能级模型。结果表明,对于HA分子需要双光子吸收才能实现ESIPT过程。这一结果对进一步认识HA的发光物理机制是有帮助的。
高博文孟婧张景虎
关键词:光谱学激发态质子转移宽带调频双光子吸收
基于椭偏光谱仪的石英晶体1310nm处双折射率的精密测量
2012年
为了对石英晶体在通讯波段1 310nm处的双折射率进行精密测量,基于椭偏光谱仪对P和S两方向上偏振光相位差的精密测量原理,在透射模式下,通过对琼斯矩阵的分析,设计了一种精密测量晶体双折射率的方法,并在室温(22℃)下对通讯波段1 310nm处石英晶体的双折射率进行了精密测量,测量结果和对误差的分析显示,此方法给出的双折射率测量值的精度高达10-6量级,为目前可查阅的最高精度,对于提高石英晶体相位延迟器件的设计精度具有重要的意义。
韩培高郝殿中宋连科苏富芳史萌吕廷芬吴福全李国华
关键词:晶体光学双折射率石英
沉积温度对HfO_2薄膜应力及光学特性的影响被引量:1
2011年
采用电子枪蒸镀法制备了不同沉积温度下的HfO2薄膜样品,利用ZYGO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、X射线衍射(XRD)仪和冷场发射扫描电镜(SEM)对样品进行了测试。结果表明,在实验所选择的沉积温度下,制备的薄膜都是非晶态结构;残余应力和本征应力均为张应力,沉积温度低于220℃时热应力对残余应力起主要作用;沉积温度高于220℃时,本征应力对残余应力起主要作用,且沉积温度220℃时残余应力最小;HfO2折射率随沉积温度的升高而增大,不同沉积温度下制备的薄膜折射率都是正常色散;沉积温度220℃下制备的薄膜平整度最好。这些结果可以为镀制高质量HfO2薄膜提供参考。
齐瑞云吴福全郝殿中王庆韩培高
关键词:残余应力HFO2薄膜沉积温度光学特性
共1页<1>
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