北京市科技计划项目(10231103) 作品数:6 被引量:28 H指数:3 相关作者: 彭丽军 熊柏青 解国良 解浩峰 王强松 更多>> 相关机构: 北京有色金属研究总院 江西理工大学 宁波兴业盛泰集团有限公司 更多>> 发文基金: 北京市科技计划项目 科研院所技术开发研究专项资金 国家高技术研究发展计划 更多>> 相关领域: 金属学及工艺 一般工业技术 冶金工程 更多>>
C17510弹性合金的固溶时效与组织性能的研究 被引量:3 2014年 采用OM、SEM、XRD和TEM分析手段对C17510合金的固溶时效与组织性能进行研究.结果表明,冷轧态C17510合金的合理固溶处理温度为950℃.时效态C17510合金的硬度与时间呈单峰型曲线,合金的电导率与时间呈先剧增,后缓慢增大,最后趋于稳定的趋势.冷轧态C17510合金经950℃×0.5 h固溶处理+525℃×4 h时效处理后,其维氏硬度为231,电导率为56%IACS. 黄国杰 洪松柏 郑国辉 赵洋 汪东亚 彭丽军关键词:固溶时效处理 维氏硬度 电导率 均匀化处理对Cu-Cr-Zr合金显微组织的影响 被引量:2 2014年 采用OM、SEM和TEM分析手段对Cu-Cr-Zr合金的铸态和均匀化组织进行研究.结果表明,Cu-Cr-Zr合金的铸态组织呈典型的枝晶状组织,主要由网状的Cr枝晶、共晶组织和基体组成,其中共晶组织是由基体和层片状的Cu5Zr相组成.在Cu-Cr-Zr合金的均匀化退火过程中,发生共晶组织的溶解和Cr相的析出.随着均匀化退火温度和时间的升高和延长,共晶组织逐渐溶解,Cr相的析出体积分数逐渐减小.合理的均匀化退火制度为900℃×12 h. 彭丽军 解浩峰 尹向前 杨振 米绪军关键词:CU-CR-ZR合金 显微组织 Cu-1.4Ni-1.2Co-0.6Si合金的析出与再结晶的交互行为 被引量:4 2014年 通过对施加30%~70%的冷变形量的Cu-1.4Ni-1.2Co-0.6Si合金时效过程中的显微硬度及导电率规律分析和透射电镜观察,发现固溶合金时效前冷变形可加速时效初期第二相析出,导电率得以快速上升。如合金经过30%形变400℃时效1 h后导电率可达43%IACS,而固溶后直接时效为40.7%IACS。经过冷轧-时效后,沿位错分布着许多细小的析出相,使位错在时效过程中运动困难,同时合金内形成了高密度的位错,析出相弥散细小分布在基体中,故可以获得较高的显微硬度,如经30%形变于400℃时效2 h其显微硬度可达HV223,而未加形变直接时效合金的显微硬度为HV202。形变析出与再结晶过程中再结晶时间tR和时效析出时间tP取决于形变量和时效制度,在一定的形变量和较高的时效温度的条件下,合金内晶粒易发生再结晶。合金70%变形500℃时效2 h,由于基体中产生高密度的位错,会降低再结晶激活能QR,故在显微组织中发现了亚晶粒,从而降低了合金的强化效果,此时其显微硬度为HV206。该合金在450℃时效处理时组织转变主要有两种:一是第二相弥散分布在铜基体中;另一种是析出与再结晶交互作用而产生的不连续析出。 肖翔鹏 黄国杰 柳瑞清 蔡薇 张建波关键词:CU-1 时效析出 再结晶 C17200合金时效早期相变行为 被引量:10 2013年 采用XRD与TEM分析手段研究了C17200铜合金早期时效相变行为及其对合金性能的影响。结果表明,该合金固溶处理后320℃时效,时效1 h内,铍原子借助铜基体中的空位进行上坡扩散,形成富铍区,造成了(200)主峰的左侧出现了比较明显低角度边带峰。合金发生了调幅分解,沿基体的(100)面上形成了圆盘状结构的GP区。利用Daniel-Lipson公式可得出,随时效时间的延长,成分调幅波长先增大后减小;同时,GP区则不断长大,且逐渐转化成板条状的γ'相。调幅分解和γ'相的析出是合金在时效过程中强度、电导率升高的主要原因。 彭丽军 熊柏青 解国良 洪松柏 郑国辉 王强松关键词:时效处理 调幅分解 QCr0.8铜合金的组织和性能 被引量:3 2012年 借助于金相、XRD、SEM、TEM等研究手段,对应用在特殊环境下的QCr0.8合金组织性能进行了研究。结果表明:该合金通过挤压等加工工艺后,组织中存在大量的纳米晶和孪晶,而大量孪晶的出现也表明该合金具有低的层错能;该合金在(111)方向上存在加工织构;该合金软化温度高于600℃,抗拉强度在600℃下仍能达到室温条件下的50%;Cr在基体中以5~15 nm和0.2~0.5μm弥散分布在基体中,其中纳米析出相与基体保持共格或半格关系。 王强松 黄国兴 娄花芬 米绪军 熊柏青关键词:铜合金 抗拉强度 时效态C17200合金的组织与性能 被引量:13 2013年 采用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨电子显微镜(HRTEM)等分析手段研究C17200合金时效过程中微观组织演变,测试不同时效工艺处理后合金的硬度和电导率等性能。结果表明:合金经320℃时效1 h后,基体(200)主峰的左侧出现比较明显的低角度边带峰,即合金发生调幅分解,使得在基体的(100)面上形成圆盘状结构的GP区。合金在时效过程中存在两种析出方式:晶界不连续析出和晶内连续析出,且连续析出序列为α过饱和固溶体→GP区→γ′→γ。调幅分解和γ′相析出是C17200合金在时效过程中硬度升高并达到峰值的主要原因。 彭丽军 熊柏青 解国良 洪松柏 解浩峰关键词:时效处理 调幅分解