陕西省教育厅科研计划项目(05JS03)
- 作品数:9 被引量:29H指数:4
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- 相关机构:西安工业大学南洋理工大学更多>>
- 发文基金:陕西省教育厅科研计划项目更多>>
- 相关领域:金属学及工艺机械工程自动化与计算机技术电子电信更多>>
- 面接触磁流变抛光中“彗尾”现象的分析被引量:2
- 2009年
- 针对面接触磁流变抛光中产生的"彗尾"划痕产生原因和解决方式进行了探讨.通过对面接触磁流变抛光材料去除量公式的研究,分析出"彗尾"现象的产生是工件各点在闭合环带磁场内所处的磁场强度不停的变化所引起.以理论推导为依据,进行了工艺实验,实验结果表明"彗尾"划痕的产生受到工件与抛光头之间的相对速度、磁场强度和工件初始破坏层深度等因素的影响.最后通过组合实验的方式,解决了面接触磁流变抛光中存在的"彗尾"现象,使得工件表面粗糙度值降低到Ra0.56 nm.
- 阳志强郭忠达刘卫国杭凌侠
- 关键词:磁流变抛光彗尾磁场强度表面粗糙度
- 磁流变抛光(MRF)技术的发展被引量:1
- 2007年
- 对磁流变抛光技术20多年来的发展作了简要的回顾,介绍了磁流变液的组成、抛光机理及磁流变抛光技术的产生、发展和最新研究情况,并对其发展未来进行了展望。
- 王伟郭忠达刘卫国许军锋
- 关键词:磁流变液磁流变抛光超光滑表面
- 触摸屏与PLC在磁流变抛光机中的应用
- 2007年
- 介绍了PLC和触摸屏在磁流变抛光机控制系统中的应用。主要阐述了系统组成和工作原理、方案设计及硬件组成,然后对组态的触摸屏主要画面进行了介绍。
- 杜书娟郭忠达余孝军
- 关键词:触摸屏PIC控制系统
- 一种磁流变抛光方法的探讨被引量:4
- 2009年
- 探讨了一种进行磁流变抛光的方法,针对该方法的运动方式进行了磁流变抛光过程中相对速度和驻留时间的计算,并模拟了相对速度与工件口径、相对速度和时间乘积与工件口径的关系曲线。在理论分析的基础上,进行了相应的工艺实验,分析了该磁流变抛光方法的去除特性,并对中心区域去除特性的不同原因进行了探讨。实验结果研究表明:采用该方法能够实现光学零件除中心区域外的均匀去除。
- 阳志强郭忠达陈智利刘卫国
- 关键词:磁流变抛光
- 磁流变抛光可塑性对彗尾疪病的影响被引量:4
- 2010年
- 分析了彗尾疪病产生的原因及去除方法.通过研究磁流变抛光的可塑性问题,从可塑性方面分析了彗尾疪病现象产生的过程.利用工艺实验研究彗尾疪病现象的消除方法,在自主设计的磁流变抛光装置上,采用磁场强度值分别为240 kA/m,210 kA/m,180 kA/m,150 kA/m,90 kA/m的五阶段优化磁场强度法后,使K9玻璃表面粗糙度值达到0.49 nm,消除了磁流变抛光过程中的彗尾疪病现象.实验表明磁场强度的大小影响链条结构的稳定,影响抛光粉颗粒对材料的去除,减小磁场强度可以有效的去除彗尾疵病.
- 郭忠达王新海阳志强刘卫国杭凌侠陈智利
- 关键词:磁流变抛光磁场强度
- 环带磁场在磁流变抛光技术中的应用被引量:8
- 2007年
- 磁流变抛光是获得光滑光学表面的理想工艺之一.为了获得一种可用于磁流变抛光中的环形磁场,设计了一种新型的环带式磁场结构,并对其进行模拟与分析,利用该磁场结构构造了一种面接触式的磁流变抛光设备.实际测量证明该磁场结构可形成满足磁流变抛光要求的高梯度磁场.将环形磁极浸入磁流变抛光液中,可使其形成圆环状的Bingham凸起;利用它对K9玻璃进行抛光,可使其表面粗糙度达到约为1 nm的水平.
- 郭忠达杜书娟刘卫国杭凌侠王伟
- 关键词:磁流变抛光表面粗糙度
- 环带式磁流变抛光加工石英光学零件实验分析被引量:1
- 2009年
- 针对磁流变抛光工艺参数对加工石英光学零件表面粗糙度的影响规律,进行了平面石英玻璃光学零件的工艺实验.应用正交实验方法分析了磁流变抛光中主要工艺参数:磁场强度、工件轴转速、平摆速度、抛光盘与工件间的间隙对石英玻璃表面粗糙度的影响规律,确定了石英玻璃磁流变抛光最优工艺因素.并分阶段采用不同工艺参数进行磁流变抛光,抛光后石英玻璃光学零件的表面粗糙度值达到0.6 nm.
- 郭忠达吴高军阳志强刘卫国杭凌侠
- 关键词:磁流变抛光表面粗糙度正交实验石英玻璃
- 环带旋转式磁流变抛光头设计被引量:5
- 2009年
- 在磁流变抛光技术中,磁流变抛光头是实现光学零件表面均匀去除的保证。根据实际磁流变加工要求设计了一种环带旋转式磁流变抛光头,并采用有限元分析软件ANSYS进行仿真了该抛光头,同时分析了其磁场强度分布情况。最后应用该磁流变抛光头进行了工艺实验,实验结果表明采用该抛光头能够实现高精度面形质量的光学零件加工。
- 阳志强郭忠达陈智利刘卫国
- 关键词:磁流变抛光面形
- 磁场强度对磁流变抛光表面粗糙度的影响被引量:15
- 2007年
- 在自制的磁流变抛光实验装置中,通过被加工零件和Bingham凸起相对运动产生的剪切力来实现抛光.在该装置上进行工艺实验,研究了磁流变抛光技术中磁场对表面粗糙度的影响.比较了不同磁场强度下的磁流变抛光情况,以及表面粗糙度和抛光效率的差别,然后,通过采用不同磁场强度组合加工,使初始表面粗糙度(Ra)为400 nm的K9玻璃材料的平面,磁流变抛光30 min,表面粗糙度值达到了0.86 nm,提高了被加工零件的抛光效率和表面质量.
- 阳志强郭忠达张明颂刘卫国杭凌侠
- 关键词:磁流变抛光磁场强度表面粗糙度