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国家自然科学基金(11204360)

作品数:2 被引量:1H指数:1
相关作者:禤铭东戴隆贵贾海强丁芃陈弘更多>>
相关机构:中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇砷化铟
  • 1篇锑化镓
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米孔
  • 1篇纳米阵列
  • 1篇刻蚀
  • 1篇激光
  • 1篇激光干涉
  • 1篇激光干涉光刻
  • 1篇光刻
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇分子束外延生...
  • 1篇氟碳
  • 1篇干涉光刻
  • 1篇
  • 1篇MLS
  • 1篇TYPE-I...
  • 1篇MID-IR

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇周均铭
  • 1篇陈弘
  • 1篇丁芃
  • 1篇贾海强
  • 1篇戴隆贵
  • 1篇禤铭东

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇Scienc...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
一种简单高效的制备硅纳米孔阵结构的方法被引量:1
2013年
本文介绍了一种简单高效的制备硅纳米孔阵结构的方法.利用激光干涉光刻技术,结合干法和湿法刻蚀工艺,直接将光刻胶点阵刻蚀为硅纳米孔阵结构,省去了图形反转工艺中的金属蒸镀和光刻胶剥离等必要步骤,在2英寸的硅(001)衬底上制备了高度有序的二维纳米孔阵结构.利用干法刻蚀产生的氟碳有机聚合物作为湿法刻蚀的掩膜,以及在干法刻蚀时对样品进行轻微的过刻蚀,使SiO2点阵图形下形成一层很薄的硅台面,是本方法的两个关键工艺步骤.扫描电子显微镜图片结果表明制备的孔阵图形大小均匀,尺寸可控,孔阵周期为450nm,方孔大小为200—280nm.
戴隆贵禤铭东丁芃贾海强周均铭陈弘
关键词:激光干涉光刻纳米阵列刻蚀
MBE growth of high absorption mid-IR type-II InAs/GaSb superlattices
2014年
Two kinds of short-period type II superlattices(SLs)InAs(6 monolayers(MLs))/GaSb(3 MLs)and InAs(8 MLs)/GaSb(8 MLs)which can serve for mid-infrared(MIR)detection have been grown by molecular beam epitaxy(MBE)on p-type GaSb(100)substrates.The cutoff wavelength for the two superlattices(SLs)was found to be around 4.8 lm at 300 K.The high resolution X-ray diffraction(HRXRD)measurements indicated that the InAs(8 MLs)/GaSb(8 MLs)SLs have better crystalline quality than that of the InAs(6 MLs)/GaSb(3 MLs)SLs.However,compared with infrared absorption in the 2.5–4.3 lm range,the optical absorption of InAs(6 MLs)/GaSb(3MLs)SLs was more excellent.This can be attributed to increase probability of the electron and hole wave function overlap in the thinner period thickness.
Geng WangLu WangHong ChenWenxin WangZhenwu ShiYulong ChenMiao HePingyuan LuWeining Qian
关键词:分子束外延生长锑化镓砷化铟MLS
共1页<1>
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