云南省自然科学基金(2010zc251)
- 作品数：4 被引量：19H指数：4
- 相关作者：蔡宏中胡昌义魏巧灵陈力魏燕更多>>
- 相关机构：昆明贵金属研究所昆明理工大学更多>>
- 发文基金：云南省自然科学基金国家自然科学基金云南省应用基础研究基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学更多>>
- 反应气体流量对CVD钽性能影响研究被引量：4
- 2013年
- 介绍了化学气相沉积（CVD）技术制备难熔金属钽涂层的原理及方法。利用TaC15-H2·HCl反应体系，以冷壁式化学气相沉积法在钼基体表面沉积了钽涂层。利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线物相分析仪（XRD）、显微硬度计等分析手段，研究了反应气体（氢气、氯气）的流量变化对钽涂层的沉积速率、结构、表面形貌、硬度及密度等的影响；应用Harris公式，计算了钽涂层的织构系数，获得了钽涂层的择优取向。研究结果表明：随着氢气流量的增加，涂层沉积速率加快，随着氯气流量的增加，涂层的沉积速率则是先增加后减小；涂层由体心立方结构的钽（α—Ta）构成，表面形貌呈类金字塔形结构，涂层（200）晶面方向为最快生长方向；反应气体流量变化对涂层硬度及密度的影响均不明显；涂层维氏硬度在HV130．94～HV152．43之间，涂层致密性好，相对密度都在99．65％以上。
- 蔡宏中易健宏魏巧灵陈力魏燕胡昌义
- 关键词：反应气体化学气相沉积
- CVD温度对钽沉积层性能的影响被引量：7
- 2012年
- 介绍了化学气相沉积(CVD)制备难熔金属钽涂层的原理及方法。采用冷壁式化学气相沉积法,在钼基体上沉积出难熔金属钽层。分析研究了CVD温度对沉积层的沉积速率、组织、结构和硬度等的影响。结果表明:在1000～1200℃温度范围,沉积速率随温度升高而增大;当温度超过1200℃时,沉积速率随温度的升高反而略有减小;沉积层组织呈柱状晶并随温度的升高逐渐增大;沉积层的硬度及密度随温度的升高而逐渐降低。化学气相沉积钽的最佳温度在1100℃左右。
- 蔡宏中魏巧灵魏燕陈力郑旭胡昌义
- 关键词：化学气相沉积钽
- CVD Ta/W复合材料的力学性能及影响因素被引量：4
- 2016年
- 使用拉伸试验机,扫描电镜,金相显微镜研究了采用CVD法制备的Ta/W层状复合材料的力学性能及影响因素。结果表明:W体积分数,热处理温度,热处理时间均对复合材料的力学性能有较大影响。W体积分数为13%的复合材料同时具有良好的抗拉强度和塑性。能够有效提高复合材料抗拉强度和塑性的热处理制度为1600℃/2 h,且热处理主要通过改变复合材料的晶粒大小及界面扩散层厚度来影响材料的力学性能。
- 祁小红胡昌义蔡宏中郑旭魏燕
- 关键词：CVD力学性能
- CVD温度对钽涂层组成、显微组织及形貌的影响被引量：9
- 2012年
- 利用TaCl2-H2-HCl反应体系,采用冷壁式化学气相沉积法(CVD)在钼基体表面沉积钽涂层。通过X射线衍射仪、金像显微镜及扫描电镜等手段,对不同沉积温度下钽涂层的组成、组织及形貌进行了研究。结果表明:在1000～1300℃范围内,钽沉积层的相组成无变化,而对择优生长有一定影响;钽沉积层晶粒尺寸随沉积温度的升高而增大;钽沉积层表面颗粒呈金字塔形多面体且随沉积温度的升高而增大。
- 蔡宏中魏巧灵陈力王云胡昌义
- 关键词：化学气相沉积相组成显微组织形貌
