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教育部科学技术研究重点项目(207013)

作品数:10 被引量:25H指数:4
相关作者:刘保亭孙杰赵庆勋王玉强李曼更多>>
相关机构:河北大学华北电力大学更多>>
发文基金:河北省自然科学基金教育部科学技术研究重点项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电气工程电子电信更多>>

文献类型

  • 10篇中文期刊文章

领域

  • 7篇理学
  • 2篇电气工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇铁电
  • 4篇退火
  • 3篇快速退火
  • 3篇PZT
  • 3篇ZR
  • 3篇PB
  • 2篇导电
  • 2篇导电机制
  • 2篇电容
  • 2篇电容器
  • 2篇铁电薄膜
  • 2篇铁电电容器
  • 2篇脉冲激光
  • 2篇脉冲激光沉积
  • 2篇溅射
  • 2篇SR
  • 2篇BST薄膜
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇第一性原理

机构

  • 10篇河北大学
  • 1篇华北电力大学

作者

  • 10篇刘保亭
  • 5篇孙杰
  • 4篇赵庆勋
  • 4篇王玉强
  • 3篇周阳
  • 3篇王宽冒
  • 3篇陈剑辉
  • 3篇彭英才
  • 3篇李曼
  • 3篇赵敬伟
  • 2篇娄建忠
  • 2篇陈江恩
  • 1篇刘卓佳
  • 1篇郭哲
  • 1篇李丽
  • 1篇霍骥川
  • 1篇马蕾
  • 1篇张新
  • 1篇杨林
  • 1篇郭建新

传媒

  • 5篇人工晶体学报
  • 2篇河北大学学报...
  • 1篇原子与分子物...
  • 1篇材料导报
  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 6篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
退火工艺对含Ti-Al阻挡层的硅基Pb(Zr_(0.4),Ti_(0.6))O_3铁电电容器结构和性能影响的研究被引量:2
2010年
应用非晶的Ti-Al薄膜为导电阻挡层,采用射频磁控溅射法和溶胶-凝胶法在Si衬底上制备了La0.5Sr0.5CoO3/Pb(Zr0.4,Ti0.6)O3/La0.5Sr0.5CoO3/Ti-Al/Si(LSCO/PZT/LSCO/Ti-Al/Si)异质结,研究了550℃常规退火(CTA)和快速退火(RTA)工艺对LSCO/PZT/LSCO/Ti-Al/Si结构和性能的影响。实验发现非晶Ti-Al薄膜在经过不同退火工艺后仍具有非晶结构,快速退火6min的样品具有较好的物理性能。在418kV/cm的外加电场下,LSCO/PZT/LSCO电容器的剩余极化强度和矫顽电场强度分别为22μC/cm2和83kV/cm。LSCO/PZT/LSCO电容器的漏电行为不依赖于退火工艺,当电场强度低于46.7kV/cm时为欧姆导电,高于46.7kV/cm时为肖特基导电机制。
郭颖楠刘保亭赵敬伟王宽冒王玉强孙杰陈剑辉
关键词:退火工艺PZT磁控溅射法溶胶-凝胶法
SrRuO_3导电层对快速退火制备Pb(Zr,Ti)O_3薄膜结构和性能的影响被引量:6
2010年
采用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si基片上,制备了Pt/Pb(Zr,Ti)O3(PZT)/Pt和SrRuO3(SRO)/PZT/SrRuO3(SRO)异质结电容器,并研究了快速退火条件下SRO导电层对PZT结构和性能的影响。XRD测试表明,两种结构电容器中的PZT薄膜均为钙钛矿结构,SRO/PZT/SRO、Pt/PZT/Pt均具有较好的铁电性和脉宽依赖性,5V电压下两电容器的剩余极化强度Pr和矫顽电压Vc分别为28.3μC/cm2、1.2V和17.4μC/cm2、2.1V。在经过1010次翻转后,SRO/PZT/SRO铁电电容器疲劳特性相对于Pt/PZT/Pt电容器有了较大的改善,但SRO导电层的引入也带来了漏电流增大的问题。
王宽冒刘保亭倪志宏赵敬伟李丽李曼周阳
关键词:锆钛酸铅快速退火
Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3电子结构的第一性原理研究被引量:5
2007年
采用基于密度泛函理论的赝势平面波方法计算了Pb(Zr0.4Ti0.6)O3五层超晶胞的顺电相和铁电相的电子结构.由态密度、电子密度和能带结构的计算结果发现顺电相下钛氧八面体Ti-O6和锆氧八面体Zr-O6在铁电相中分裂为由1个O1离子和4个O2离子组成的金字塔结构Ti-O5和Zr-O5;与顺电相相比,铁电相中钛离子的3d电子和氧离子的2p电子存在更强的轨道杂化,这种杂化降低了离子间的短程排斥力,使得具有铁电性的四方结构更为稳定,而且钛离子与氧离子的相互作用对于铁电相Pb(Zr0.4Ti0.6)O3沿c轴自发极化的贡献大于锆离子与氧离子的相互作用;由电子密度的分布可推断立方结构的Pb-O键呈现离子键特征,而铁电相下Pb-O键则有较大的共价成分,铅离子与氧离子的这种轨道杂化对Pb(Zr0.4Ti0.6)O3的铁电性起重要作用.所得结果对深入理解Pb(Zr0.4Ti0.6)O3铁电性的微观机理具有参考价值.
赵庆勋王书彪关丽刘保亭
关键词:铁电体电子结构第一性原理
脉冲激光沉积法制备的Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3铁电薄膜漏电机理
2009年
利用准分子脉冲激光器在Pt/Ti/SiO2/Si(111)衬底上制备了Pb(Zr0.4Ti0.6)O3(PZT)铁电薄膜.利用掩膜技术,采用磁控溅射法在PZT薄膜上生长Pt上电极,构架了Pt/PZT/Pt铁电电容器异质结.采用X射线衍射和电容耦合测试技术分别表征了PZT铁电薄膜的微结构和电学性能.研究发现:在5 V的测试电压下,在560℃较低的沉积温度下生长的PZT薄膜电容器的剩余极化强度为187 C/m2、矫顽电压为2.0 V、漏电流密度为2.5×10-5A/cm2.应用数学拟合的方法研究了Pt/PZT/Pt的漏电机理,发现当电压小于1.22 V时,Pt/PZT/Pt电容器对应欧姆导电机理;当电压大于2.30 V时,对应非线性的界面肖特基传导(Schottky emission)机理.
陈剑辉刘保亭孙杰霍骥川赵敬伟王玉强赵庆勋
关键词:铁电薄膜脉冲激光沉积
沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响被引量:2
2010年
采用射频磁控溅射法在(001)SrTiO3基片上制备了SrRuO3薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪等分析方法系统研究了沉积温度对SrRuO3薄膜结构、表面形貌及输运性质的影响。实验结果表明:当生长温度低于550℃时,SrRuO3薄膜为多晶结构;当温度在550~650℃范围内变化时,SrRuO3薄膜可以在SrTiO3基片上外延生长,薄膜的最低电阻率约为0.5mΩ.cm。
王宽冒张沧生李曼周阳王玉强王侠彭英才刘保亭
关键词:SRRUO3磁控溅射
硅基集成电路中Cu互连阻挡层的研究被引量:5
2010年
随着集成电路向超大规模的发展,Cu互连技术已成为硅工艺领域的热点话题,其关键技术之一——扩散阻挡层的研究越来越受到人们的关注。结合课题组阻挡层的研究工作,介绍了当前Cu互连技术中难熔金属及其氮(碳、硅、氧)化物、多层膜、三元化合物等各类扩散阻挡层材料的研究发展现状,论述了阻挡层的厚度问题、阻挡层研究过程中的分析表征方法以及当前Cu互连的理论研究现状,归纳并分析了阻挡层的失效机制。
陈剑辉刘保亭赵冬月杨林李曼刘卓佳赵庆勋
关键词:CU互连扩散阻挡层
非晶Ni-Al阻挡层对快速退火制备的硅基Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜结构及物性影响的研究被引量:4
2010年
应用非晶Ni-Al薄膜作为扩散阻挡层,采用磁控溅射法和溶胶-凝胶法在Pt/TiO2/SiO2/Si(001)衬底上制备了Pt/Ni-Al/Ba0.6Sr0.4TiO3/Ni-Al/Pt电容器结构,研究了在650~800℃温度范围内快速退火(RTA)工艺对电容器结构和物理性能的影响。结果表明:在外加电场为-100 kV/cm时,700℃和750℃退火样品的介电常数达到最大,分别为150和170。非晶Ni-Al薄膜的应用可以有效地降低BST薄膜的漏电流密度。650℃退火样品在整个测试电场范围内满足欧姆导电机制;700℃、750℃和800℃退火样品分别在电压低于-3.67 V、-2.65 V和-2.14 V时满足欧姆导电机制,在电压高于-3.67 V、-2.65 V和-2.14 V时满足普尔-弗兰克导电机制。
孙杰刘保亭陈江恩娄建忠周阳
关键词:BST薄膜快速退火导电机制
La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3/Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3/La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3铁电电容器的结构和性能研究
2010年
采用磁控溅射法和脉冲激光沉积法,在SrTiO3(001)衬底上制备了La0.5Sr0.5CoO3(70 nm)/Pb(Zr0.4Ti0.6)O3(70 nm)/La0.5Sr0.5CoO3(70 nm)(LSCO/PZT/LSCO)铁电电容器异质结。X射线衍射结果表明:LSCO和PZT薄膜均为外延结构。在5 V的外加电压下,LSCO/PZT/LSCO电容器具有较低的矫顽电压(0.49 V),较高的剩余极化强度(41.7μC/cm2)和较低的漏电流密度(1.97×10-5A/cm2),LSCO/PZT/LSCO电容器的最大介电常数为1073。漏电流的分析表明:当外加电压小于0.6 V时,电容器满足欧姆导电机制;当外加电压大于0.6 V时,符合空间电荷限制电流(SCLC)导电机制。
陈江恩刘保亭孙杰郭延岭马蕾娄建忠彭英才
关键词:铁电电容器PZT导电机制
全钙钛矿La0.5Sr0.5CoO3/PbZr0.53Ti0.47O3/La0.5Sr0.5CoO3异质结的结构与性能
2008年
应用射频磁控溅射法在SrTiO3(STO)基片上制备了全钙钛矿结构La0.5Sr0.5CoO3/PbZr0.53Ti0.47O3/La0.5Sr0.5CoO3(LSCO/PZT/LSCO)电容器异质结,并进行了结构和性能的表征.X射线衍射(XRD)的研究表明,LSCO/PZT/LSCO异质结在SrTiO3(STO)基片上为外延生长.对该电容器铁电性能的研究发现,在5 V驱动电压下,电滞回线饱和趋势良好,矫顽场电压为1.8 V和剩余极化强度为21.5×10-6C/cm2,漏电流为8.9×10-8A/cm2.实验还证实该电容器具有良好的脉冲宽度依赖性及抗疲劳特性.
郭建新刘保亭魏丽静张新闫小兵赵庆勋
关键词:钙钛矿结构PZT异质结铁电薄膜
快速退火对Pt/BST/Pt电容器结构和性能的影响被引量:2
2009年
采用脉冲激光沉积(PLD)法在Pt/Ti/SiO2/Si(001)基片上制备了Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,对Pt/BST/Pt电容器在空气中进行400℃快速退火(RTA)处理,研究了快速退火对Pt/BST/Pt电容器的结构和性能的影响。结果表明:快速退火虽然对BST薄膜的结晶质量影响较小,但却极大改善了Pt/BST/Pt电容器的电学性能。当测试频率为100kHz、直流偏压为0V时,介电损耗从快速退火前的0.07减小到0.03,介电常数和调谐率略有增加。快速退火后负向漏电流过大现象得到了明显抑制,正负向漏电流趋于对称,在300×103V/cm电场强度下,漏电流密度为4.83×10–5A/cm2。
王玉强刘保亭孙杰郭哲范志东彭英才
关键词:BST薄膜快速退火氧空位脉冲激光沉积
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