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安徽省自然科学基金(05021015)

作品数：1 被引量：5H指数：1
相关作者：肖沛孙霞丁泽军张增明更多>>
相关机构：中国科学技术大学更多>>
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相关领域：电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇低能
  • 1篇低能电子
  • 1篇电子束光刻
  • 1篇掩膜
  • 1篇英文
  • 1篇蒙特卡罗模拟
  • 1篇CARLO模...
  • 1篇MONTE
  • 1篇MONTE_...

机构

  • 2篇中国科学技术...

作者

  • 2篇张增明
  • 2篇丁泽军
  • 2篇孙霞
  • 1篇肖沛

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 2篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
低能电子光刻的蒙特卡罗模拟(英文)
＜正＞Electron beam lithography（EBL）has been play- ing an important role in the fabrication of large-scale integr...
张增明肖沛陈套孙霞丁泽军
文献传递
投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟被引量：5
2006年
利用基于Mott散射截面和介电函数模型的Monte Carlo方法模拟了电子穿透掩膜的能量损失分布,其计算结果与实验结果符合很好.由此进一步计算了角度限制投影电子束光刻(SCALPEL)掩膜的穿透率和衬度,结果表明:散射体的厚度对衬度的影响较大,衬度随散射体厚度的增加而增强,而支撑体对衬度的影响较小;增大限制孔的孔径角时,透射率相应增大,但衬度会降低;衬度随入射电子的能量增加而减小.
肖沛张增明孙霞丁泽军
关键词：MONTECARLO模拟电子束光刻掩膜
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