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国家科技重大专项(022011ZX02701)

作品数：1 被引量：25H指数：1
相关作者：田凯军陈力李沙瑜许箭王双青更多>>
相关机构：中国科学院更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇光刻
  • 1篇光刻胶

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇杨国强
  • 1篇胡睿
  • 1篇王双青
  • 1篇许箭
  • 1篇李沙瑜
  • 1篇陈力
  • 1篇田凯军

传媒

  • 1篇影像科学与光...

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
先进光刻胶材料的研究进展被引量：25
2011年
本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.
许箭陈力田凯军胡睿李沙瑜王双青杨国强
关键词：光刻胶
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