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国家自然科学基金(61006084)

作品数:5 被引量:11H指数:3
相关作者:范亚明韩军邢艳辉汪加兴邓旭光更多>>
相关机构:中国科学院北京工业大学苏州君耀光电有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金北京市自然科学基金国家杰出青年科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 3篇GAN
  • 3篇MOCVD
  • 2篇发光
  • 1篇电学
  • 1篇荧光粉
  • 1篇载流子
  • 1篇载流子浓度
  • 1篇载流子迁移率
  • 1篇增益
  • 1篇增益饱和
  • 1篇迁移率
  • 1篇显色
  • 1篇显色指数
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇辐射发光
  • 1篇白光
  • 1篇白光LED
  • 1篇OBLIQU...
  • 1篇ONE-SI...

机构

  • 4篇中国科学院
  • 3篇北京工业大学
  • 1篇苏州君耀光电...

作者

  • 4篇范亚明
  • 3篇邢艳辉
  • 3篇韩军
  • 2篇邓旭光
  • 2篇冯雷
  • 2篇汪加兴
  • 1篇刘建平
  • 1篇张宝顺
  • 1篇王怀兵
  • 1篇李影智
  • 1篇王峰
  • 1篇朱建军
  • 1篇陈翔
  • 1篇黄小辉

传媒

  • 2篇光电子.激光
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇半导体光电
  • 1篇Scienc...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
GaN基低色温高显色白光LED被引量:3
2011年
采用440 nm短波长InGaN/GaN基蓝光LED芯片激发高效红、绿荧光粉制得高显色性白光LED,研究了不同胶粉配比对LED发光性能的影响,结果表明,A胶、B胶、绿粉、红粉比重在0.5:0.5:0.2:0.03时,在440 nm蓝光激发下呈现了有两个谱带组成的发光光谱,分别是峰值为535 nm的特征光谱和643nm的特征光谱,胶粉通过均匀调配后能够有效的进行混光产生低色温白光,实验中最低色温可达3 251 K,显色指数高达88.8,这比传统蓝光激发YAG荧光粉制得的白光LED色温更低,显色指数提高了26%。
王峰黄小辉王怀兵刘建平范亚明祝运芝金铮
关键词:白光LED荧光粉显色指数
Characteristics of InGaN-based superluminescent diodes with one-sided oblique cavity facet
2014年
We have fabricated InGaN-based superluminescent diodes(SLDs)with one-sided oblique facet.The characteristics of the SLDs and laser diodes with the same cavity length(800 lm)were compared.The typical peak wavelength and the full width at half maximum of the spectrum in superluminescence regime are 445.3 and 7.7 nm for the SLDs with 800 lm cavity length.The characteristics of the SLDs with different cavity length were also demonstrated in a comparative way.It is found that the gain of the InGaN multi-quantum wells in blue spectral range is a linear function of the current density below gain saturation region.The lasing threshold current turns out to be higher for the shorter SLD(S-SLD)(400 lm),but the output light intensity of the longer SLD(800 lm)is higher than that of the S-SLD under the same current density.The gain saturation phenomenon was observed in S-SLD when it was biased at a current density larger than 27.5 kA/cm2.The increase of junction temperature was identified as the main reason for gain saturation through spectra analysis.
Chang ZengShuming ZhangJianping LiuDeyao LiDesheng JiangMeixin FengZengcheng LiKun ZhouFeng WangHuaibing WangHui WangHui Yang
关键词:辐射发光增益饱和
AlN成核层厚度对Si上外延GaN的影响被引量:5
2013年
采用低温AlN成核层,在Si(111)衬底上,用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长了GaN薄膜。采用高分辨X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜(AFM)研究了AlN成核层的厚度对GaN外延层的影响。对AlN的测试表明,AlN的表面粗糙度(RMS)随着厚度增加而变大。对GaN的测试表明,所有GaN样品在垂直方向处于压应变状态,并且随AlN厚度增加而略有减弱。GaN的(0002)_ω扫描的峰值半宽(FWHM)随着AlN成核层厚度增加而略有升高,GaN(10-12)_ω扫描的FWHM随着厚度增加而有所下降。(10-12)_ω扫描的FWHM与GaN的刃型穿透位错密度相关,A1N成核层的厚度较大时会降低刃型穿透位错密度,并减弱c轴方向的压应变状态。
邓旭光韩军邢艳辉汪加兴范亚明陈翔李影智朱建军
关键词:GANSI衬底
高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究被引量:4
2012年
研究了金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)系统外延高Al组分较厚AlGaN薄膜材料的生长技术。实验发现,AlGaN/GaN结构中的AlGaN材料的相分离现象可能是由于过低的生长V/III以及材料所受的张应力状态所致,而V/III过高时则会出现Al源的并入效率饱和。采用AlN过渡层技术,外延生长了表面无裂纹的45%Al组分较厚(100~200nm)AlGaN薄膜材料。所得材料的Al组分与气相Al组分相同,(0002)面X射线衍射(XRD)双晶摇摆曲线半高宽(FWHM)为376arcsec,并发现AlN过渡层的质量影响着其上AlGaN材料的Al组分与晶体质量。实验观察到AlGaN材料的表面形貌随着样品中Al组分的增加从微坑主导模式逐步转变为微裂主导模式,采用AlN过渡层可延缓这一转变。
冯雷韩军邢艳辉邓旭光汪加兴范亚明张宝顺
关键词:ALGAN表面形貌AL组分
生长压力对GaN材料光学与电学性能的影响
2012年
研究了采用MOCVD技术分别在100与500Torr反应室压力下生长的非故意掺杂GaN薄膜的光学与电学性能。研究表明,低压100Torr外延生长条件可以有效地降低Ga与NH3气相反应造成GaN薄膜的碳杂质沾污,从而抑制造成光致发光中黄光峰与蓝光峰的深受主的形成,所制备的材料表现出较好的光学性能。同时,不同生长压力下的GaN薄膜表现出相异的电学性能,即在500Torr下生长的样品通常表现出更高的载流子浓度((4.6~6.4)×1016 cm-3)与更高的迁移率(446~561cm2/(V.s)),而100Torr下生长的样品通常表现为更低的载流子浓度(1.56~3.99)×1016 cm-3与更低迁移率(22.9~202cm2/(V.s))。
冯雷韩军邢艳辉范亚明
关键词:GANMOCVD光致发光载流子浓度载流子迁移率
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