山东省科技攻关计划(2012GGX10218)
- 作品数：4 被引量：4H指数：1
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- 相关领域：一般工业技术化学工程理学更多>>
- 甲烷通气速率/通气量对大量合成SiC一维纳米材料的影响规律
- 2013年
- 采用化学气相反应法(CVR),以球磨后的Si粉、SiO2粉及CH4气体为原料,镍为催化剂,在1 250℃下成功制备出大量SiC一维纳米材料。着重研究了甲烷通气速率/通气量对产物宏观产量、微观形貌的影响规律。采用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)等多种测试手段对所得产物进行了表征。结果表明:随CH4通气速率/通气量的减少,产物宏观颜色由深蓝色转变成灰白色,纳米线直径变得不均匀,纳米线的堆积密度逐渐增大。在通气速率为0.054L·min-1、通气时间36min、通气量1.4L优选工艺条件下,所制备的一维纳米材料为带有少许非晶SiO2包覆层的立方结构的β-SiC。
- 齐学礼李镇江李伟东孙莎莎
- 关键词：微观形貌
- 一步法制备N掺杂SiC纳米线及场发射性能研究
- 2017年
- 采用简单的化学气相沉积法,首次以尿素(CO(NH_2)_2)为N掺杂剂,与Si/SiO_2粉体混合,一步法实现了高质量的N掺杂SiC纳米线的制备,并系统研究了不同原料质量比m(Si/SiO_2)∶m(CO(NH_2)_2)、不同合成温度对N掺杂SiC纳米线场发射性能的影响规律。研究得出:原料质量比m(Si/SiO2)∶m(CO(NH_2)_2)为1∶3,合成温度为1 250℃时,产物具有最优的场发射性能,其开启电场和阈值电场分别为1.2V·μm-1和3.3V·μm-1。利用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X-射线衍射仪(XRD)、能谱仪(EDS)等测试手段对优选工艺条件下所得产物的微观形貌、元素组成和物相结构进行了系统表征,结果表明:所得产物为具有立方结构的β-SiC晶体,纳米线的直径均匀,约为80nm,长度可达数十微米,N元素在产物中的原子分数为3.28%。
- 张栋梁宋冠英李镇江李镇江
- 关键词：SIC纳米线N掺杂场发射性能
- La或N掺杂SiC纳米线的制备、场发射性能及第一性原理计算被引量：4
- 2015年
- 采用化学气相沉积法和气相掺杂法,分别制备了La或N掺杂的Si C纳米线.利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线能量色散谱(EDS)分析和X射线衍射(XRD)等测试手段对两种产物的微观形貌、元素组成和物相结构进行了系统表征.以合成产物作为阴极,对其场发射性能进行测试,结果表明:Si C纳米线的开启电场值和阈值电场值由未掺杂的2.3、6.6 V*μm-1分别降低为1.2、5.2 V*μm-1(La掺杂)和0.9、0.4 V*μm-1(N掺杂).采用Material Studio软件中的Castep模块建立(3×3×2)晶格结构模型,对未掺杂、La或N掺杂Si C的能带结构和态密度进行计算,结果显示:La或N掺杂后,在费米能级附近产生了新的La 5d或N 2p掺杂能级,导致禁带宽度(带隙)变窄,使得价带电子更容易跨越禁带进入导带,从而改善Si C纳米线的场发射性能.
- 李镇江马凤麟张猛宋冠英孟阿兰
- 关键词：场发射性能LA掺杂N掺杂SIC纳米线第一性原理
- SiC纳米线初期微观生长模式的理论计算与模拟研究
- 2017年
- 运用从头算分子动力学模拟的方法,模拟研究了气-液-固(VLS)生长机制下碳化硅纳米线(SiC NWs)在镍催化剂表面最初生长阶段的微观生长机理。结果表明:活性碳原子在镍催化剂表面上各位置的吸附能均大于活性硅原子,所以碳原子优先吸附在镍催化剂表面;随后,由于活性硅原子在已吸附在镍催化剂表面的碳原子上的吸附能要大于活性碳原子在其上的吸附能,使得活性硅原子优先吸附在碳原子上,形成活性碳原子与活性硅原子交替吸附生长的模式。
- 翟美欣李镇江
