国家高技术研究发展计划(AA338020)
- 作品数：3 被引量：2H指数：1
- 相关作者：刘安东吴先映张荟星顾畅丁晓纪更多>>
- 相关机构：北京师范大学北京大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划北京市科技新星计划更多>>
- 相关领域：核科学技术金属学及工艺更多>>
- 100型MEVVA源注入机注入均匀性研究
- 提高金属蒸汽真空弧(Metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键。为此开展了100型MEVVA源注入机大批量注入均匀性的研究。...
- 吴先映李强张荟星刘安东彭建华
- 关键词：离子注入
- 文献传递
- Mevva离子源凸形引出电极的研制
- 介绍了Mevva离子源的凸形引出电极的研制。研究表明凸形引出电极可以完成离子束的强制发散功能,从而在较短的引出距离和较小的引出电极面积的条件下得到大的束斑和均匀可应用的束流分布。
- 吴先映张孝吉李强张胜基张荟星刘安东
- 关键词：引出电极
- 文献传递
- Ti＋C双离子注入GCr15钢表面改性工艺研究被引量：1
- 2008年
- 采用Ti＋C双离子注入GCr15轴承钢，使其表面硬度增加，摩擦系数降低，增强了GCr15钢表面抗磨损特性。同时发现，离子注入时金属基体的温升效应对表面改性效果具有显著的影响。通过对比分析，获取了最佳处理工艺参数。
- 顾永俶丁晓纪顾畅
- 关键词：离子注入表面改性回火
- MEVVA离子源凸形引出电极的研制被引量：1
- 2006年
- 介绍了金属蒸气真空弧(Metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源的凸形引出电极的研制。研究表明, 凸形引出电极可以完成离子束的强制发散功能,从而在较短的引出距离和较小的引出电极面积的条件下得到大的束斑和均匀可应用的束流分布。通过对几种不同的电极结构的比较研究,得到了满足应用要求的凸形引出电极。
- 吴先映张孝吉李强张胜基张荟星刘安东
- 关键词：引出电极
- 100型MEVVA源注入机注入均匀性研究
- 2007年
- 提高金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键。为此开展了100型MEVVA源注入机大批量的工件注入均匀性的研究。本文介绍了100型MEVVA源注入机的靶室结构和靶盘分布,研究了0°定位自转、靶盘公转自转、45°定位自转的注入离子浓度分布。这三种方式的注入离子浓度分布都不能满足大批量均匀注入的需要。但45°定位自转的注入离子浓度分布的趋势与另两种相反,这意味着将45°定位自转与0°定位自转或靶盘公转自转相结合进行复合注入,可以得到均匀的注入效果。通过对几种注入方式的拟合计算来确定复合注入的注入比例。最后通过实验研究了靶盘不同运动状态的复合注入,得到了相当均匀的注入效果。
- 李强吴先映张荟星刘安东彭建华王桂岳
- 关键词：离子注入
- 100型MEVVA源离子注入机
- 提高金属蒸汽真空弧(Metal vapor VaCUUm arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键。为此设计研制了采用高占空比、大引出面积、凸形高透过率引出电极...
- 吴先映李强张荟星刘安东彭建华
- 关键词：离子注入
- 文献传递
