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中国科学院知识创新工程重要方向项目(KGCX2-SW-108)

作品数:2 被引量:8H指数:2
相关作者:许宝建赵建龙金庆辉乔治更多>>
相关机构:中国科学院更多>>
发文基金:中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇微阵列
  • 1篇深反应离子刻...
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇刻蚀
  • 1篇计算流体力学...
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻胶
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀
  • 1篇SU-8
  • 1篇SU-8光刻...
  • 1篇
  • 1篇表面处理

机构

  • 2篇中国科学院

作者

  • 2篇金庆辉
  • 2篇赵建龙
  • 2篇许宝建
  • 1篇乔治

传媒

  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 2篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
硅微喷阵列芯片的设计、制作与应用研究被引量:3
2006年
介绍了一种用于制作生物微阵列的新型微喷阵列芯片。基于半导体光刻技术和干法刻蚀技术,成功制作了喷孔外侧含有间隙环的硅微喷阵列芯片,解决了溶液进样难、微阵列样品点缺失、样品点漂移以及液体回流等问题。在5 kPa气压驱动下,该芯片中的样品能在3.4 mm×3.4 mm的玻璃片上制成5×5样品微阵列,25个点的直径平均值为356μm,直径的变异系数(25个点直径的标准偏差与算术平均值的比值)为2.8%。计算流体力学模拟结果和实验结果均表明,该微喷阵列芯片能快速、稳定地制作出样品点大小均一的微阵列,进一步推动了微阵列芯片的应用和发展。
许宝建乔治金庆辉赵建龙
关键词:微阵列深反应离子刻蚀计算流体力学模拟
基于多层SU-8结构的微喷阵列芯片的制作与应用研究被引量:5
2006年
采用光刻胶SU-8的光刻成型技术和“多次光刻、一次显影”工艺制备了基于三层SU-8结构的微喷阵列芯片,重点研究了SU-8胶工艺过程中平整度、温度和曝光剂量对多层微结构的影响,解决了芯片结构有裂纹、发生破裂和喷孔堵塞等问题。利用O2等离子体处理了芯片微管道内表面,使液体样品在进样后能够进行自动传输、分配和贮存。持续10ms的10kPa气压驱动下,该芯片可以在3.4mm×3.4mm的尼龙膜上制成5×5样品微阵列,25个点直径平均值为384μm,变异系数为2.6%。利用该芯片制成的DNA微阵列的信号强度变异系数达到4.5%,直径大小变异系数达到3.2%,符合生物微阵列分析的要求。
许宝建金庆辉赵建龙
关键词:SU-8光刻胶微阵列表面处理
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