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中国科学院知识创新工程重要方向项目(KGCX2-SW-115)

作品数:1 被引量:1H指数:1
相关作者:颜廷静林孟喆陈良惠曹青更多>>
相关机构:中国科学院更多>>
发文基金:中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电阻
  • 1篇接触电阻
  • 1篇接触电阻率
  • 1篇表面处理
  • 1篇触电

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇曹青
  • 1篇陈良惠
  • 1篇林孟喆
  • 1篇颜廷静

传媒

  • 1篇半导体光电

年份

  • 1篇2009
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
Ni基电极淀积前后表面处理对p-GaN欧姆接触的影响被引量:1
2009年
在p-GaN上蒸发Ni/Au电极前,采用王水、HCl、缓冲HF进行前表面处理,O2气氛下退火后,比较各电极样品的I-V特性和表面形貌。结果显示无表面处理时接触电阻最小,且溶剂处理后残留的电解质会影响电极的电流特性和稳定性。用俄歇电子能谱(AES)测试不同元素随深度分布情况,发现高温退火过程中NiO的形成有自动清洁p-GaN表面的作用,因此对于Ni基电极前表面处理不是必需的。再将样品用10%草酸溶液处理,其I-V特性显示接触电阻率明显下降;X射线光电子能谱(XPS)测试显示草酸溶液处理后电极表面Ni含量显著减少,而Au元素信号峰增强,说明表面高阻p型NiO被有效除去,对改善接触性能具有实际意义。
林孟喆曹青颜廷静陈良惠
关键词:接触电阻率表面处理
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