国家自然科学基金(51201076)
- 作品数：5 被引量：18H指数：2
- 相关作者：蔡宏中魏燕胡昌义郑旭祁小红更多>>
- 相关机构：昆明贵金属研究所昆明理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金云南省应用基础研究基金云南省技术创新人才培养基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺化学工程更多>>
- 沉积温度对化学气相沉积铼涂层性能的影响被引量：2
- 2017年
- 利用五氯化铼热分解反应,采用冷壁式现场氯化化学气相法在钼基体沉积铼涂层,分析不同沉积温度对铼涂层的物相组成、沉积规律、表面形貌、密度和硬度的影响。实验结果表明:沉积所得均为纯铼涂层,晶粒生长方向均以(002)晶面为主;随着沉积温度的上升,铼涂层的沉积速率和沉积效率大幅提升,表面形貌由复杂多面体态变为六棱锥状;涂层组织致密,相对密度最高可达99.9%,维氏硬度随沉积温度升高而升高,最高达6100 MPa。
- 赵封林胡昌义郑旭祁小红蔡宏中魏燕
- 关键词：铼化学气相沉积沉积速率表面形貌
- 贵金属高温材料的研究及应用进展被引量：10
- 2013年
- 现代工业和高技术领域中,部分高熔点的贵金属材料(Pt、Rh、Ir)及其合金、复合材料等作为耐高温耐腐蚀型材料具有重要应用。因其具有高熔点、高温抗氧化性、高的抗腐蚀性能及高温强度等一系列优点,近年来在高温材料领域的研究及应用有了突飞猛进的发展。综述了责金属材料在高温结构材料及高温抗氧化功能涂层方面的研究与应用进展,探索贵金属金属材料在高温领域的发展方向。
- 魏燕陈家林胡昌义蔡宏中郑旭祈小红陈力
- 关键词：金属材料高温材料贵金属
- CVD技术制备Ta/W层状复合材料被引量：1
- 2017年
- 运用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)技术制备了W体积分数分别10%,13%和18%的Ta/W两层层状复合材料,采用金相显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)和室温拉伸实验对复合材料的性能进行分析。结果表明:运用CVD技术可以制备W体积分数不同,且密度优于理论密度99.4%的层状复合材料;复合材料中Ta,W层的晶粒均为柱状晶粒,离界面越近,晶粒越细;沉积态复合材料的力学性能优于纯CVD Ta和CVD W;1600℃×2 h的热处理后,复合材料的界面扩散层宽度显著增大,力学性能高于沉积态的力学性能,最高抗拉强度可达660 MPa。
- 祁小红郑旭蔡宏中刘少鹏胡昌义魏燕
- CVD Ta/W复合材料的力学性能及影响因素被引量：4
- 2016年
- 使用拉伸试验机,扫描电镜,金相显微镜研究了采用CVD法制备的Ta/W层状复合材料的力学性能及影响因素。结果表明:W体积分数,热处理温度,热处理时间均对复合材料的力学性能有较大影响。W体积分数为13%的复合材料同时具有良好的抗拉强度和塑性。能够有效提高复合材料抗拉强度和塑性的热处理制度为1600℃/2 h,且热处理主要通过改变复合材料的晶粒大小及界面扩散层厚度来影响材料的力学性能。
- 祁小红胡昌义蔡宏中郑旭魏燕
- 关键词：CVD力学性能
- HfO_2薄膜或涂层的制备方法及相应特点被引量：2
- 2016年
- HfO_2因具有大的介电常数、宽的带隙、低的漏电流、与Si的导带偏移较大且与Si的晶格匹配良好,在半导体工业领域获得了广泛的应用;同时,Hf O2有着高的熔点,低的导热系数及蒸发率,优良的热相容、热障及热扩散屏障等性能,是目前高温抗氧化涂层材料最具希望的候选材料。本文简述了HfO_2薄膜几种常见的制备方法及相应特点。
- 刘少鹏蔡宏中魏燕祁小红胡昌义
- 关键词：HFO2晶体结构
