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福建省教育厅科技项目(JA06060)

作品数:2 被引量:14H指数:2
相关作者:李文望孙道恒王翔郑高峰更多>>
相关机构:厦门理工学院厦门大学更多>>
发文基金:福建省教育厅科技项目教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:轻工技术与工程电子电信理学化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇理学

主题

  • 2篇纳米
  • 2篇纳米纤维
  • 1篇电场
  • 1篇电场分布
  • 1篇电纺
  • 1篇图案化
  • 1篇空间电场
  • 1篇基底

机构

  • 2篇厦门大学
  • 2篇厦门理工学院

作者

  • 2篇孙道恒
  • 2篇李文望
  • 1篇郑高峰
  • 1篇王翔

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇华侨大学学报...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
电纺直写纳米纤维在图案化基底的定位沉积被引量:12
2010年
为进一步提高单根电纺丝纳米纤维的定位沉积和形貌控制水平,基于近场静电纺丝技术,研究了单根直写纳米纤维在无图案硅基底的沉积行为;仿真分析了图案化硅基底上方的空间电场分布;采用图案化硅基底作为收集板,实验考察了微图案形状、收集运动速度等因素对单根纳米纤维定位沉积的影响规律。实验结果显示,电纺直写技术具有良好的定位精度,可将直径为100~800 nm的纳米纤维精确定位于直径仅为1.6μm的圆形微图案阵列上表面;收集板运动速度较小时,受电场力影响纳米纤维沉积轨迹将朝微图案偏移7μm;收集板运动速度进一步减小时,纳米纤维在基底微图案附近或上表面产生聚集;长条形微图案对纳米纤维沉积过程具有良好的引导与约束作用。得到的结果表明,基于近场静电纺丝的直写技术可较好地实现单根纳米纤维在图案化硅基底的精确定位沉积。
李文望郑高峰王翔孙道恒
关键词:纳米纤维
空间电场对单根纳米纤维沉积的影响分析被引量:3
2009年
基于近场静电纺丝,分别讨论单根纳米纤维在平面硅片、图案化硅片基底上的沉积规律.当收集板运动速度大于纳米纤维喷射速度时,将获得直线状纳米纤维;而当收集板运动速度小于纳米纤维喷射速度,纳米纤维易受电场力和电荷排斥力的影响而产生弯曲鞭动,并缠绕成纳米纤维带或螺旋状结构.采用图案化硅基作为收集板时,电场分布发生变化,微结构表面电场强度大于其他区域.纳米纤维在微结构表面产生聚集,且微结构表面电场的增强也加快纳米纤维喷射速度.
李文望孙道恒
关键词:纳米纤维电场分布
共1页<1>
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