湖北省自然科学基金(2011CDB418)
- 作品数：35 被引量：81H指数：7
- 相关作者：钟志有康淮陈首部顾锦华张腾更多>>
- 相关机构：中南民族大学广西科技师范学院更多>>
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- 相关领域：电气工程理学电子电信一般工业技术更多>>
- 磁控溅射法制备ZnO:Ga薄膜的结晶质量及其应力研究被引量：4
- 2015年
- 以氧化锌(Zn O)掺杂氧化镓(Ga2O3)的陶瓷靶作为溅射靶材,采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了透明导电的掺镓氧化锌(Zn O:Ga)薄膜.通过X射线衍射仪测试研究了衬底温度对薄膜结晶性能及其残余应力的影响.研究结果表明:所有Zn O:Ga薄膜均为六角纤锌矿型的多晶结构并具有(002)方向的择优取向特性,其结晶性能和残余应力与衬底温度密切相关.随着衬底温度的升高,薄膜的(002)择优取向程度和晶粒尺寸呈现出先增大后减小的变化趋势,而薄膜的残余压应力则单调减小.当衬底温度为400℃时,Zn O:Ga薄膜具有最大的晶粒尺寸(75.1 nm)、最大的织构系数TC(002)(2.995)、较小的压应力(-0.185 GPa)和最好的结晶性能.
- 钟志有兰椿龙路陆轴
- 关键词：磁控溅射氧化锌薄膜掺杂
- 二氧化钛纳米管的制备及其特性研究被引量：3
- 2015年
- 以金属钛板作为阳极材料,采用阳极氧化方法制备了二氧化钛(Ti O2)纳米管,通过X射线衍射仪和扫描电子显微镜等测试,研究了制备工艺条件和超声波源对样品性能的影响.结果表明:纳米管的形貎和结晶性能与工艺参数和超声波源密切相关,退火处理能使样品由不定形相转成由锐钛矿相和金红石相组成的混合相,其生长速度、管径和管壁厚度明显受到阳极氧化时平均电流密度的影响.氧化电压为60 V时所制备Ti O2纳米管样品的管径为90 nm、管壁厚度为21 nm、长度为8μm.
- 陈首部孙奉娄
- 关键词：二氧化钛纳米管阳极氧化
- 掺钛GZO透明半导体薄膜的光学性质研究被引量：1
- 2015年
- 以钛掺杂氧化锌镓(GZO)陶瓷靶作为溅射源材料,采用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了掺钛GZO(GZO:Ti)透明半导体薄膜,利用光谱拟合方法计算了GZO:Ti薄膜的折射度、消光系数和厚度等光学参数,研究了氩气压强对GZO:Ti薄膜光学性质的影响.结果表明:拟合光谱曲线与实验测量光谱曲线一致,薄膜的光学性质与氩气压强密切相关,GZO:Ti薄膜折射率随波长增大而逐渐减小,表现出正常的色散性质.另外还采用包络法计算了GZO:Ti薄膜的折射率和厚度,两种方法所获得的结果是基本相符的.
- 钟志有陆轴龙路
- 关键词：光学常数
- 衬底温度对铝掺杂氧化锌薄膜生长及其微结构性能的影响被引量：2
- 2015年
- 以铝掺杂氧化锌(Zn O:Al)陶瓷靶作为溅射材料,采用RF磁控溅射技术,在玻璃衬底上制备了Zn O:Al半导体薄膜,通过X射线衍射(XRD)测试研究了衬底温度对Zn O:Al薄膜生长特性及其微结构性能的影响.研究表明:衬底温度对薄膜生长和微结构均具有明显的影响;随着衬底温度的升高,薄膜(002)晶面取向度和平均晶粒尺寸表现为先增大后减小的变化趋势,而半高宽、微应变和位错密度则呈现出先减小后增大的变化趋势.当衬底温度为650 K时,Zn O:Al薄膜具有最高的(002)晶面取向度、最大的晶粒尺寸、最窄的半高宽、最低的微应变、最小的位错密度,其结晶性能和微结构性能最佳.
- 陈首部韦世良
- 关键词：氧化锌X射线衍射微结构
- 掺镓锌镁氧化物透明导电薄膜的光学和电学性能研究(英文)被引量：4
- 2020年
- 采用磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了掺镓锌镁氧化物透明导电薄膜,通过霍耳效应仪和紫外-可见分光光度计的测试分析,研究了工作压强对薄膜光学和电学性能的影响.结果表明,所制备薄膜的电光性能与工作压强密切相关.当工作压强为3.6 Pa时,样品的电阻率最低为1.54×10^-3Ω·cm、可见光区平均透过率最高为87.72%、品质因数最大为4.72×10^3Ω^-1·cm^-1,具有最好的光电综合性能.采用外推方法获得了薄膜样品的直接光学能隙,结果显示其数值大于未掺杂的氧化锌.
- 顾锦华朱雅康淮龙浩
- 关键词：透明导电氧化物磁控溅射
- 磁控溅射沉积镓掺杂氧化锌薄膜的微观结构性质研究(英文)被引量：1
- 2021年
- 采用磁控溅射工艺在玻璃衬底上沉积镓掺杂氧化物透明导电薄膜样品,通过X-射线衍射仪的测试表征及其定量分析研究了薄膜样品的结晶性质和微观结构性能.结果表明,所沉积的样品均为六角纤锌矿型的多晶结构并具有(002)择优取向生长特性,其晶格常数、晶面间距和Zn-O键长等参数与标准值一致.当膜厚为570 nm时,薄膜样品的(002)织构系数和晶体尺寸最大、晶格应变和位错密度最小,具有最好的晶体质量和微观结构性能.
- 顾锦华顾锦华康淮
- 关键词：磁控溅射微观结构
- 氧化锌薄膜的微观结构及其结晶性能研究被引量：11
- 2017年
- 以普通玻璃作为衬底材料,采用射频磁控溅射方法制备了氧化锌(ZnO)透明导电薄膜,通过X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)测试,研究了衬底温度对薄膜微观结构及其结晶性能的影响.结果表明:所制备的ZnO薄膜均为(002)晶面择优取向生长的多晶薄膜,其微观结构和结晶性能与衬底温度密切相关.衬底温度对ZnO薄膜的织构系数TC(hkl)、平均晶粒尺寸、位错密度、晶格应变和晶格常数都具有不同程度的影响,当衬底温度为800 K时,ZnO薄膜样品的织构系数TC(002)最高(4.929)、平均晶粒尺寸最大(20.91 nm)、位错密度最小(2.289×10^(15)line·m^(-2))、晶格应变最低(2.781×10^(-3)),具有最高的(002)晶面择优取向生长性和最佳的微观结构性能.
- 陈首部陆轴兰椿
- 关键词：氧化锌微观结构
- 铝掺杂氧化锌薄膜的光学性能及其微结构研究被引量：9
- 2014年
- 以氧化铝(Al2O3)掺杂的氧化锌(Zn O)陶瓷靶作为溅射靶材,采用射频磁控溅射工艺在玻璃基片上制备了具有c轴择优取向的铝掺杂氧化锌(Zn O:Al)薄膜样品.通过可见-紫外光分光光度计和X射线衍射仪的测试表征,研究了生长温度对薄膜光学性能及其微结构的影响.实验结果表明:薄膜性能和微观结构与生长温度密切相关.随着生长温度的升高,样品的可见光平均透过率、(002)择优取向程度和晶粒尺寸均呈非单调变化,生长温度为640 K的样品具有最好的透光性能和晶体质量.同时薄膜样品的折射率均表现为正常色散特性,其光学能隙随生长温度升高而单调增大.与未掺杂Zn O块材的能隙相比,所有Zn O:Al薄膜样品的直接光学能隙均变宽.
- 顾锦华龙路兰椿钟志有
- 关键词：磁控溅射氧化锌薄膜掺杂光学性能
- 掺锡氧化铟导电玻璃的表面改性及其性能研究被引量：4
- 2014年
- 采用溶剂超声、H2SO4溶液浸泡和NaOH溶液处理等方法对掺锡氧化铟(In2O3:Sn)导电玻璃进行了表面改性,基于原子力显微镜(AFM)和接触角表征以及表面能计算,研究了改性方法对其表面形貎和润湿性能的影响.研究结果表明:In2O3:Sn导电玻璃的表面性能与改性方法密切相关,H2SO4溶液浸泡和NaOH溶液处理能够更为有效地降低表面粗糙度、改善表面形貎、提高表面能和表面极性度,并且In2O3:Sn导电玻璃表面能的变化主要来源于表面能极性分量的变化.
- 陈首部
- 关键词：表面处理接触角
- 生长温度对掺钛氧化锌薄膜光学性质的影响被引量：3
- 2012年
- 以氧化锌钛陶瓷靶作为溅射源,采用磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了掺钛氧化锌(TZO)透明导电薄膜,通过X射线衍射仪和分光光度计测试表征以及全光谱拟合法分析,研究了生长温度对TZO薄膜晶体结构和光学性质的影响.结果表明:所有TZO样品均为六角纤锌矿结构,并具有(002)择优取向,生长温度对薄膜晶粒尺寸和光学透射率的影响较明显,而对折射率、消光系数和光学能隙的影响较小.当生长温度为200℃时,TZO薄膜的晶粒尺寸最大,可见光范围平均透射率(含衬底)为76.1%,对应的直接光学能隙为3.45 eV.
- 钟志有汪浩张腾周金
- 关键词：磁控溅射微观结构光学常数
