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北京市科委基金(Y0404013040211)

作品数：1 被引量：0H指数：0
相关作者：陈庆永张巧红马亮郑鹉更多>>
相关机构：首都师范大学更多>>
发文基金：北京市科委基金更多>>
相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电子技术
  • 1篇巨磁电阻
  • 1篇交换偏置
  • 1篇NI
  • 1篇CR
  • 1篇MN
  • 1篇磁电
  • 1篇磁电阻
  • 1篇磁性能
  • 1篇NIP

机构

  • 2篇首都师范大学

作者

  • 1篇梁珂
  • 1篇郑鹉
  • 1篇马亮
  • 1篇姜宏伟
  • 1篇张巧红
  • 1篇陈庆永

传媒

  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
界面插入Cr层对NiFe／PtMn交换偏置的影响
用磁控溅射法制备了NiFe／PtMn双层膜, 研究了在界面加入少量的Cr对交换偏置场的影响。结果发现:在Pt成分较高时,界面加Cr对反铁磁层为临界厚度时的交换偏置场影响最大,增大了1．5倍,达到了最大值。XRD结果表明加...
梁珂姜宏伟
关键词：交换偏置巨磁电阻
文献传递
热处理对NiP/CoNiP薄膜织构和磁性能的影响
2007年
用化学镀的方法制取了NiP/CoNiP薄膜并将样品进行真空热处理。用XRD、VSM、EDS等测试手段分析了热处理影响薄膜结构和磁性能变化的原因。结果发现,热处理使薄膜的结构发生了由α-Co向β-Co的同素异构转变;经热处理后晶粒尺寸长大到30 nm左右;经350℃热处理后薄膜的矫顽力升高到5.57×104 A/m;经400℃热处理后矩形比达到0.28。
张巧红郑鹉马亮陈庆永
关键词：电子技术磁性能
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共1页<1>
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