国家教育部博士点基金(20030335057) 作品数:7 被引量:29 H指数:4 相关作者: 潘颐 杨光义 吴仁兵 陈建军 翟蕊 更多>> 相关机构: 浙江大学 浙江理工大学 台湾成功大学 更多>> 发文基金: 国家教育部博士点基金 国家自然科学基金 更多>> 相关领域: 一般工业技术 化学工程 电子电信 理学 更多>>
针尖状SiC纳米线的合成与机理分析 被引量:1 2009年 采用热蒸发硅的方法,于1650℃反应不同的时间,在聚丙烯腈(PAN)碳纤维上原位生长碳化硅纳米线。通过X射线衍射,场发射扫描电镜及透射电子显微镜分析和观察,发现制得的产物为β-SiC单晶纳米线,具有明显的针尖状头部,且呈放射状生长在碳纤维上,形成试管刷状阵列。基于在反应不同阶段所得到产物的不同形貌,结合对制备条件和制备原料的分析,提出不同于传统VLS机理的VL’S机理。 朱奇妙 陈建军 吴仁兵 李宝生 潘颐关键词:碳化硅 纳米线 金属硅化物熔体中不同形貌SiC晶体的生长 2007年 以过渡族金属硅化物为溶剂,采用自发熔渗法和溶液法来研究不同形貌SiC晶体在金属硅化物熔体中的生长情况.利用光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、体视显微镜等对熔渗试样和采用溶液法生长的单晶和晶须的形貌结构进行了观察和表征,利用X射线衍射仪(XRD)对采用溶液法生长的晶体和晶须进行了相组成和晶型的表征,并讨论了SiC晶须和SiC单晶的生长机理.结果表明,Fe5Si3、CoSi、Co4.5CrSi4.5、Ti2.3Si7.7等熔体适合生长SiC单晶,FeSi、FeSi2等熔体适合生长SiC晶须,而当Fe3Si熔体渗入SiC预制件后,仅有石墨相析出. 杨光义 吴仁兵 陈建军 高明霞 翟蕊 吴玲玲 林晶 潘颐关键词:碳化硅单晶 液相法 碳化硅晶须 硅热蒸发法制备SiC纳米线及其结构表征 被引量:8 2008年 采用简单热蒸发法使硅蒸气和碳纳米管反应生成了碳化硅纳米线.反应产物首先经X射线衍射(XRD)确定为3C-SiC.再用场发射扫描电镜(FESEM)和高分辨透射电镜(HRTEM)等进行形貌和结构研究,发现3C-SiC纳米线部分呈直线六棱柱形状,大多为3C-SiC单晶,其[111]方向与纳米线长度方向一致,间或有折线,弯曲和螺旋形.在这些结果的基础上,提出3C-SiC纳米线形核生长的气液固(VLS)机制:硅蒸气(V)溶于碳纳米管端部残留金属催化剂液滴(L),与碳纳米管反应(S),生成3C-SiC晶核并沿碳纳米管长度方向生长. 吴玲玲 吴仁兵 杨光义 陈建军 翟蕊 林晶 潘颐关键词:SIC纳米线 Yb_2O_3掺杂氮化硅复合材料的高温动态疲劳行为 被引量:1 2006年 研究了N2气氛加压烧结制备的6 wt%Yb2O3和2 wt%Al2O3掺杂氮化硅复合材料在高温下的动态疲劳行为。用维氏压痕法在试样上获得规范的预制裂纹。分别在1000℃、1200℃、1300℃、1400℃下,以1、0.5、0.1、0.01 mm/min的不同压头速率对试样进行四点弯曲试验。不同温度下疲劳应力-加载速率函数曲线的对比表明,这种材料在1200℃时,对亚临界裂纹生长具有最高的抵抗力(即具有最大的亚临界裂纹生长指数N)。XRD、TEM分析表面晶界相的晶化、裂纹愈合可以提高亚临界裂纹生长指数。EDS分析表明,1200℃下氮化硅陶瓷断裂面的氧化有助于晶界相的晶化,但是在更高的温度下,则会产生不利影响。 吴仁兵 陈建军 杨光义 潘颐 李俊德 黄肇端关键词:氮化硅 热蒸发法碳化硅纳米晶须阵列的合成与表征 被引量:6 2007年 在1600℃不同真空度下,采用热蒸发硅的方法,在石墨基板和聚丙烯腈(PAN)炭纤维两种碳源基体原位生长具有一定取向的碳化硅纳米晶须——垂直于石墨片表面森林状和试管刷状碳化硅纳米晶须阵列。通过X射线衍射及场发射扫描电镜,发现晶须为3C-SiC,直径约100 nm,长度约50μm。炭纤维表面的产物顶端多为针尖状,而石墨片表面的产物多为六方棱柱状。因其纳米尺寸效应,在380 nm波长的光激发下,所制晶须在波长为468 nm附近出现光致发光峰。透射电镜、多点衍射电子衍射图表明,所制得的3C-SiC晶须为单晶,其生长方向为3C-SiC的[111]方向。基于反应过程中硅熔体与碳源分离的事实,讨论了3C-SiC晶须阵列生长的气固反应机理。 林晶 陈建军 杨光义 吴仁兵 翟蕊 吴玲玲 潘颐关键词:碳化硅 晶须 FeSi熔体中SiC晶须的VLS生长 被引量:5 2007年 在1500℃、1600℃、1650℃和1750℃氩气中保温3 h,使Fe-Si在石墨基板上熔化并敷展,分别在熔层表面获得SiC颗粒层、SiC颗粒与晶须混合层、SiC晶须层和SiC腾空薄膜。XRD分析确定所有产物均为3C-SiC;TEM和SAED分析表明,SiC晶须为3C-SiC单晶,生长方向为[111]。基于上述结果,提出不同温度下C与熔体中的Si经不同反应路径,生成不同形貌SiC的反应机理:低温时(≤1500℃),Fe提高了熔体中C的饱和溶解度,以液-固(LS)反应生成SiC颗粒;较高温度时(1500-1750℃),借助Fe的催化作用,以气-液-固(VLS)机理生成SiC晶须;更高温度时(≥1750℃),气-液-固(VLS)变得无序,生成SiC腾空连续膜。 翟蕊 杨光义 吴仁兵 陈建军 林晶 吴玲玲 潘颐关键词:SIC晶须 液相法 熔渗法制备SiC/Fe_xSi_y复合材料显微结构和性能 被引量:8 2005年 用FexSiy(Fe3Si,Fe5Si3,FeSi)熔体自发浸渗SiC粉体预制件制备出致密度高达96 5%的SiC/FexSiy复合材料。利用XRD、OM和SEM等对复合材料的相组成、显微结构和力学性能进行了分析和表征。研究发现,自发浸渗过程中SiC在FexSiy熔体中有溶解和析出,导致复合材料的相组成和显微结构发生变化。Fe3Si渗入后,复合材料中有碳析出,并生成Fe5Si3和FeSi两种新相;Fe5Si3和FeSi的渗入无碳析出,而是发生碳化硅烧结、粒子合并和晶粒长大;Fe5Si3熔体渗入超细碳化硅(0 5μm)粉体预制件后,生成大的碳化硅晶粒和碳化硅单晶。借助CHEMSAGE热力学数据库对1873K时Fe Si C体系的平衡相图进行了定量分析,研究了SiC在FexSiy熔体中的稳定性;解释了铁的三种硅化物浸渗后,SiC颗粒形态的变化。通过对复合材料显微硬度、弯曲强度和可靠性(威布尔系数)的测试,分析了熔渗法SiC/FexSiy复合材料结构和性能的关系。 杨光义 高明霞 潘颐关键词:碳化硅 碳化硅复合材料