山东省科技攻关计划(022090105)
- 作品数：16 被引量：37H指数：4
- 相关作者：张玉林孔祥东卢文娟宋会英魏强更多>>
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- 相关领域：电子电信机械工程自动化与计算机技术更多>>
- 电子束曝光中电子散射模型的优化被引量：8
- 2005年
- 提出了在0.1 keV^30 keV能量范围内进行电子束曝光Monte Carlo模拟的分段散射模型优化方案。在该方案中,对所有的弹性散射均采用精确的Mott弹性散射截面。而对非弹性散射,当能量处于E0≤10 keV,10 keV20 keV时,分别采用了Joy修正的Bethe公式、通常的Bethe公式和相对论效应修正的Bethe公式来计算总能量损失率;当E0≤20 keV和E0>20 keV时,分别采用了Gryzinsky截面和Moller截面计算离散的能量损失率。发现模拟结果与实验结果很好地吻合,这比采用单一的散射模型和不考虑二次电子的Bethe公式得到的模拟结果更加符合实际的电子散射过程,其精度更高。
- 宋会英张玉林魏强孔祥东
- 关键词：电子束曝光散射模型MONTECARLO方法二次电子
- 基于低能电子束的光刻技术被引量：1
- 2005年
- 讨论了聚焦电子束曝光中的邻近效应问题,阐述了扫描隧道显微镜的原理和工作方式。把扫描隧道显微技术用于低能电子束的光刻,不仅能提高图形的分辨率,而且使电子束加工工艺不再局限于真空环境。对曝光电子的能量和线条宽度之间的关系进行了分析。
- 魏强张玉林宋会英
- 关键词：扫描隧道显微镜电子束曝光隧道效应场发射
- 电子束重复增量扫描曝光方式的反应机理研究
- 2006年
- 从高分子辐射化学的角度分析了电子束曝光的实际反应机理,推导得出曝光辐射剂量与辐射降解程度间的关系,提出了重复增量扫描方式的电子束微三维加工方法。通过在SDS-3型电子束曝光机上对正性抗蚀剂PMMA进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的三维结构,验证了该方法的可行性。
- 卢文娟张玉林孔祥东郝惠娟
- 关键词：电子束光刻辐射降解
- 电子束重复增量扫描生成三维结构的研究被引量：2
- 2006年
- 针对三维曝光图形的结构特点,结合自行设计的图形发生器,提出了电子束重复增量扫描方式及曝光剂量与刻蚀深度关系和灵敏度的计算方法.根据计算得到的剂量关系,按照重复增量扫描方式,在SDS-3电子束曝光机上进行了曝光实验,显影后得到了轮廓清晰的梯锥和圆锥的三维结构.因此,重复增量扫描方式可以用于三维结构的加工,并且关于曝光剂量与刻蚀深度关系和灵敏度的计算可以为其提供符合实际曝光的参数.
- 郝慧娟张玉林卢文娟魏强
- 关键词：DSP图形发生器电子束光刻灵敏度
- 电子束光刻制造软刻蚀用母板的研究被引量：2
- 2007年
- 使用通用电子束曝光机,采用一种新的电子束微三维加工的重复增量扫描方式进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的微三维结构,以此为制作弹性印章的母模板,经硅烷化后可用来制作弹性印章,得到弹性印章后便可再利用软刻蚀相关技术进行微图形的复制。曝光实验的结论表明采用电子束重复增量扫描方式可用来制作微三维弹性印章的母版。
- 卢文娟张玉林孔祥东郝惠娟
- 关键词：电子束光刻母板
- MEMS的细电子束液态曝光技术研究被引量：1
- 2005年
- 提出了可用于微机电系统加工的细电子束液态曝光技术。对该工艺的曝光方式、真空度需求、抗蚀剂选择以及能量和剂量需求等问题进行了理论分析和实验研究。研究结果表明,在高于1.33×10-2Pa的真空度下、采用曝光机内部曝光的方式,电子束曝光机所提供的电子束的能量和剂量可以满足环氧618等液体抗蚀剂固化需求的结论;并采用SDS II型曝光机在5×10-3Pa的系统真空度、25 kV加速电压、3μC/cm2曝光剂量的条件下,成功地固化了3μm厚的环氧618液体,固化的图形结构与设计的图形基本一致,固化精度约为0.1μm,侧壁的陡直度较好。证明了细电子束液态曝光技术是可行的。电子束液态曝光技术具有可加工高精度、高分辨率、任意高深宽比三维微结构以及控制灵活等优势,但由于使用束斑为几个纳米的电子束来固化抗蚀剂,因而其最大缺点就是生产效率低,故该技术最适用于制作三维微结构模板。
- 孔祥东张玉林卢文娟
- 关键词：MEMS抗蚀剂
- 扫描电化学显微镜扫描图像处理的实现被引量：3
- 2006年
- 针对扫描电化学显微镜扫描出来的图像除了含有噪音外,常伴有一些小的亮细节,小波阈值降噪无法消除亮细节的情况,采用数学形态学对图像进行降噪并减弱亮细节,再用小波阈值对图像进行二次降噪,并将图像转换为三维图形,有较好的图像处理效果,该功能基于V isual C++与M atlab混合编程实现,代码简单易于实现。
- 崔蕾张玉林伍海龙王海峰李宾
- 关键词：扫描电化学显微镜数学形态学小波阈值混合编程
- CHI900扫描电化学显微镜图形处理软件的改进
- 2007年
- CHI900扫描电化学显微镜自带的软件不能直接将实验数据或者面扫描图形转换为三维扫描图形,由此提出了基于VC和Matlab混合编程的图形处理软件,实现了三维图形的转换,利用小波阈值对实验曲线降噪,取得了较好的处理效果。
- 崔蕾张玉林伍海龙郝慧娟崔娜
- 关键词：扫描电化学显微镜混合编程小波阈值
- 自适应控制在纳米加工微驱动器中的应用研究被引量：4
- 2006年
- 为提高扫描隧道显微镜微驱动器的响应速度和定位精度,提出了一种基于自适应理论的控制方法。微驱动器采用压电陶瓷驱动,在分析其结构的基础上,建立了驱动器的简化运动模型,利用最小二乘法对驱动器参数进行了在线辨识。把自适应控制理论引入到微驱动器的控制中,在参数自校正PID控制律的作用下,实现了PID控制器参数的自动整定。采用专用的压电陶瓷驱动电源,进行了位移的测试实验。结果表明,参考位移量为12.39μm时,相对于传统PID控制,动态响应时间由3 s缩短到1.4 s,稳态位移误差由3.2%减小到2.7%。
- 魏强张玉林宋会英于欣蕾
- 关键词：PID控制参数校正压电陶瓷
- 电子束液态曝光技术的甩胶原理研究被引量：2
- 2005年
- 在研究液体抗蚀剂受力分析的基础上,对液体抗蚀剂的甩胶原理,甩胶后抗蚀剂的液面形状、抗蚀剂涂层厚度与抗蚀剂黏度和马达转速之间的关系等进行了研究。结果表明,涂层表面形状为平面;随着马达转速的增加,涂层厚度逐渐减小;而随着抗蚀剂黏度的增大,涂层厚度却逐渐增大。在此基础上,以Epoxy 618为液体抗蚀剂进行了甩胶实验,得出了不同黏度下的转速-厚度曲线,验证了研究结果的正确性。最后给出了3μm厚的液体抗蚀剂Epoxy 618经SDS-II型电子束曝光机曝光后固化所得线条的JXA-8800R电子探针图。
- 孔祥东张玉林卢文娟
- 关键词：电子束抗蚀剂流体
