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Ni掺杂ZnO薄膜的结构与光学特性研究被引量：5: 2009年; 使用射频磁控溅射法成功制备了不同掺杂浓度(0—7at.%)的ZnO:Ni薄膜.X射线衍射的θ-2θ和摇摆曲线扫描结果表明,5at.%Ni掺杂ZnO薄膜具有沿c轴方向最佳的择优取向生长特性,(002)衍射峰向大角度方向移动揭示了Ni杂质被掺入ZnO晶格中占据Zn位.ZnO:Ni薄膜具有较好的可见光透明特性,拟合发现薄膜的光学带隙随Ni掺杂量的增加由3.272eV线性降低到3.253eV.未掺杂薄膜在550nm处呈现出一个绿色发光峰,掺入Ni杂质后薄膜主要表现了以430nm为中心的蓝色发光,分析认为它们分别源于薄膜中O空位和Zn填隙缺陷发光.; 兰伟唐国梅曹文磊刘雪芹王印月; 关键词：结构特性光学带隙光致发光

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磁学与磁性材料教育部重点实验室开放课题基金(MMM200807)