国家重点实验室开放基金(201011006)
- 作品数：4 被引量：3H指数：1
- 相关作者：汪渊陈顺礼安竹刘春海宋忠孝更多>>
- 相关机构：四川大学四川理工学院西安交通大学更多>>
- 发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家重点实验室开放基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学一般工业技术更多>>
- 氦对铜钨纳米多层膜界面稳定性的影响被引量：1
- 2012年
- 采用射频磁控溅射方法,分别在纯Ar和Ar,He混合气氛下制备了多个不同调制周期的Cu/W纳米多层膜.利用增强质子背散射(EPBS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分别对Cu/W多层膜中He含量、截面形貌和相结构进行了分析.结果表明:多层膜的界面稳定性是耐氦损伤的前提和保证.在适当的调制周期下,纳米多层膜能有抑制氦泡成核及长大的能力.
- 刘望邬琦琦陈顺礼朱敬军安竹汪渊
- 关键词：纳米多层膜
- 梯度α-Ta(N)/TaN扩散阻挡层的微结构与热稳性定
- 2012年
- 本文提出了一种梯度氮化法制备出低阻、高稳定性的α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层,该方法有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率.用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)进行薄膜电性能和微结构的表征.分析结果表明,梯度氮化工艺能调控金属Ta膜的相结构,从而获得低阻α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层结构.高温老化退火的实验结果进一步证明此结构具有高的热稳定性,失效温度高达800℃.
- 刘春海尹旭安竹宋忠孝汪渊
- 关键词：扩散阻挡层电阻率微结构
- 梯度α-Ta(N)/TaN双层阻挡层的制备及性能表征被引量：1
- 2012年
- 提出了一种梯度氮化法制备出低阻、高稳定性的α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层。该方法有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率。用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)进行薄膜电性能和结构的表征。分析结果表明,梯度氮化工艺能调控金属Ta膜的相结构和金属Ta中的N原子浓度,从而获得低阻α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层结构。600高温老化退火的实验结果进一步证明此结构具有高的热稳定性。
- 刘春海罗宏金永中宋忠孝陈顺礼汪渊安竹刘明
- 关键词：扩散阻挡层电阻率微结构
- Cu/Sn比率对Cu_2SnSe_3薄膜若干物理性质的影响被引量：1
- 2012年
- 利用射频(RF)磁控溅射在玻璃基片上共溅射沉积Cu-Sn预制膜。采用固态硒化法,制备Cu/Sn化学计量比在1.87～2.22之间的Cu2SnSe3薄膜。研究了Cu/Sn比率对Cu2SnSe3薄膜的晶体结构、微结构、光学性能以及电学性能的影响。X射线衍射(XRD)结果表明,所制备的Cu2SnSe3薄膜为立方晶体结构,具有(111)择优取向;贫铜的Cu2SnSe3薄膜光学带隙Eg随着Cu/Sn比率增大而增大;富铜的Cu2SnSe3薄膜光学带隙Eg随着Cu/Sn比率增大而不变。薄膜电阻率为1.67～4.62mΩ.cm。
- 张伟陈顺礼汪渊
- 关键词：物理性质
