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国家重点基础研究发展计划(6136Z061)

作品数:1 被引量:4H指数:1
相关作者:彭斌谭科蒋洪川张万里汪渊更多>>
相关机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇丝网印刷
  • 1篇铁氧体
  • 1篇偏置
  • 1篇自偏置
  • 1篇钡铁氧体
  • 1篇钡铁氧体厚膜

机构

  • 1篇电子科技大学

作者

  • 1篇汪渊
  • 1篇张万里
  • 1篇蒋洪川
  • 1篇谭科
  • 1篇彭斌

传媒

  • 1篇磁性材料及器...

年份

  • 1篇2010
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
钡铁氧体厚膜在自偏置微带结环行器中的应用被引量:4
2010年
采用丝网印刷工艺制备钡铁氧体厚膜,研究了玻璃粉含量对钡铁氧体厚膜结构和磁性能的影响。基于所制备的钡铁氧体厚膜设计并制备了自偏置微带结环行器。结果表明,所制备的钡铁氧体厚膜具有明显的c轴择优取向,随着玻璃含量的适当增加,钡铁氧体厚膜的剩磁比和矫顽力增大,磁性能提高。钡铁氧体厚膜在c轴方向上的最大剩磁比为0.72,矫顽力最高为286.6kA/m。钡铁氧体厚膜应用于微带结环行器,在中心频率38.6GHz处插入损耗为18dB,隔离度为40dB。
谭科蒋洪川彭斌张万里汪渊
关键词:钡铁氧体厚膜丝网印刷自偏置
共1页<1>
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