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国家自然科学基金(60601027)

作品数:2 被引量:4H指数:1
相关作者:温永强宋延林高鸿钧杨青林李珩更多>>
相关机构:中国科学院北京航空航天大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:自动化与计算机技术理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 1篇单层膜
  • 1篇修饰
  • 1篇有机分子
  • 1篇体硅
  • 1篇自组装
  • 1篇晶体硅
  • 1篇可逆
  • 1篇硅表面
  • 1篇分子
  • 1篇分子修饰
  • 1篇改性
  • 1篇STM
  • 1篇表面改性
  • 1篇超高密度信息...

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇北京航空航天...

作者

  • 2篇宋延林
  • 2篇温永强
  • 1篇李珩
  • 1篇杨青林
  • 1篇高鸿钧

传媒

  • 1篇物理
  • 1篇化学进展

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
自组装有机分子薄膜的可逆超高密度信息存储被引量:3
2006年
信息技术的迅速发展对信息存储密度提出了越来越高的要求.采用自组装方法研究了有机分子4′-氰基-2,6-二甲基-4-羟基偶氮苯(4′-cyano-2,6-dimethyl-4-hydroxy azobenzene)的成膜特性.通过在扫描隧道显微镜的针尖和基底之间加脉冲电压在薄膜上进行信息点的写入,得到了直径为1.8nm的信息点,并分析了信息点形成的机理.
温永强宋延林高鸿钧
关键词:超高密度信息存储STM自组装
有机分子修饰硅表面被引量:1
2008年
硅作为一种重要的半导体材料,在微电子领域发挥着极其重要的作用。有机单分子层修饰硅表面是近年来硅表面化学领域的一个研究热点,引起了研究者的广泛重视。以共价键嫁接在硅表面的有机单分子层能形成稳定、高质量的杂化连接,将赋予传统硅材料更多新功能,具有许多其他表面难以比拟的优点。本文针对有机分子修饰硅表面的方法、单层膜的表征和应用,对近年来的最新研究进展进行了综述,并对该方向今后的发展进行了展望。
李珩温永强杨青林宋延林
关键词:晶体硅单层膜有机分子表面改性
共1页<1>
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