天津市自然科学基金(023613611)
- 作品数：5 被引量：32H指数：3
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- 磁场对麦瓦(MEVVA)离子源电荷密度分布的影响
- 2003年
- 为解决麦瓦(MEVVA)离子源束流的径向分布均匀性问题,采取了加入会切磁场的方法.会切磁场的安放位置不同得到束流分布均匀性的程度不同.另外,如安放一纵向磁场对分布的均匀性也有改善,但不如在合适位置安放会切磁场的效果好.
- 刘谦祥郭希铭赵杰
- 关键词：电荷密度
- 不同能量离子束辅助沉积对形成氮化钛薄膜性能的影响被引量：16
- 2004年
- 用不同能量离子束辅助沉积方法在医用不锈钢317L和Si(100)基底上沉积TiN薄膜。通过X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的结构特征;测试了薄膜与基底的附着力和耐磨性;用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank′s模拟体液中的耐腐蚀性能;最后采用成纤维细胞、骨髓细胞体外培养试验考察了生长于不同薄膜表面的细胞粘附、增殖、展布情况及细胞的形态。研究结果表明:用高、低能氮离子兼用的IBAD方法制备的TiN多晶薄膜比只用高能或低能沉积的薄膜具有更强的附着力和耐磨性,在Hank′s模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力,并在细胞体外培养中显示出良好的细胞相容性。
- 李立赵杰李德军顾汉卿
- 关键词：细胞体外培养
- 类金刚石碳膜和氮化钛的摩擦学性能研究被引量：5
- 2003年
- 报道了在相同条件下用磁控溅射方法在硅片上制备类金刚石膜和氮化钛薄膜的研究结果,比较了两种镀膜在机械性能和结构上的效果.实验结果表明,氮化钛薄膜虽有很高的表面硬度,但其摩擦系数、表面粗糟度比类金刚石膜要高得多.而类金刚石膜虽有很低的摩擦系数和光滑的表面,但表面硬度比氮化钛薄膜小.因此,结合两种膜的优点有可能制备高硬度、耐磨性强、表面光滑的新型复合材料.
- 刘谦祥郭希铭赵杰李德军
- 关键词：类金刚石碳膜氮化钛薄膜磁控溅射表面强化工艺摩擦学
- Si基底上TiN膜不同参数(分压,膜厚,束流强度)下的PAT缺陷分析
- 用IBAD(ion beam assisted deposition)方法镀TiN膜不但有很好的膜基结合力,而且纳米硬度、耐腐、耐磨性能可通过高低能结合的方法来提高.本文作者用PAT(positron annihilat...
- 冯宏剑赵杰
- 关键词：IBADPAT
- 文献传递
- Si基底上TiN膜不同参数(分压,膜厚,束流强度)下的PAT缺陷分析被引量：2
- 2004年
- 用IBAD(ion beam assisted deposition)方法镀TiN膜不但有很好的膜基结合力,而且纳米硬度、耐腐、耐磨性能可通过高低能结合的方法来提高.本文作者用PAT(positron annihilation technique)技术分析了在同一高低能条件下不同参数对Si基底的缺陷的影响,解释并论证了改进实验的方法.
- 冯宏剑赵杰
- 关键词：IBADPAT
- 离子束辅助沉积氮化钛陶瓷薄膜的生物相容性研究被引量：12
- 2003年
- 采用离子束辅助沉积 (Ion Beam Assisted Deposition)方法在医用不锈钢 317L表面制备氮化钛 (Ti N)陶瓷薄膜 ,并利用 AES和 XRD表征了薄膜的成分和相组成。采用显微划痕仪检测了薄膜附着力。运用电化学腐蚀方法测试了薄膜在 37℃的 Hank s模拟体液中的耐腐蚀性能 ,并通过成纤维细胞、骨髓细胞体外培养方法考察了薄膜表面的细胞相容性。结果表明 :沉积 Ti N薄膜后 ,材料表面结构和性能发生明显改变。在 37℃的 Hank s模拟体液中 ,Ti N薄膜样品的稳定自腐蚀电位和孔蚀击穿电位均高于 317L,表现出更好的耐全面腐蚀和孔蚀性能。且离子束辅助沉积制备的 Ti N薄膜无明显细胞毒性 ,比 317L具有更好的细胞相容性 。
- 李立赵杰顾汉卿
- 关键词：离子束辅助沉积氮化钛陶瓷薄膜生物相容性
