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国家自然科学基金(50501004)

作品数:4 被引量:5H指数:1
相关作者:彭斌张万里蒋洪川汤如俊谢巧英更多>>
相关机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国防科技技术预先研究基金更多>>
相关领域:电气工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 5篇一般工业技术
  • 4篇电气工程

主题

  • 3篇应力
  • 3篇矫顽力
  • 3篇磁各向异性
  • 3篇磁特性
  • 2篇剩磁
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射气压
  • 2篇非晶
  • 2篇非晶薄膜
  • 2篇表面形貌
  • 1篇多层膜
  • 1篇磁畴

机构

  • 6篇电子科技大学

作者

  • 6篇张万里
  • 6篇彭斌
  • 5篇蒋洪川
  • 4篇汤如俊
  • 3篇谢巧英
  • 2篇兰中文
  • 2篇张文旭
  • 1篇沈博侃
  • 1篇刘均东

传媒

  • 3篇功能材料
  • 1篇材料导报

年份

  • 1篇2010
  • 5篇2007
4 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
应力生长FeCoSiB非晶薄膜的磁各向异性研究被引量:3
2007年
采用应力生长方法,制备出受压应力和张应力作用的FeCoSiB非晶磁弹性薄膜,研究了薄膜中的应变大小对FeCoSiB薄膜的磁滞回线、剩磁、应力诱导各向异性场等磁特性的影响.结果表明,无应变薄膜在薄膜面内呈现各向同性,而有应变的薄膜呈现出明显的各向异性。张应力诱导的各向异性与应力方向平行,而压应力形成垂直于应力方向的磁各向异性。各向异性场随应变的增大而线性增大。
彭斌张万里汤如俊蒋洪川兰中文
关键词:应力磁各向异性
溅射气压对FeCoSiB非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响
2007年
利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了FeCoSiB非晶薄膜,研究了溅射心气压强对薄膜表面形貌及磁特性的影响。结果表明,薄膜的表面形貌显著依赖于心气压强,随着山Ar压强的增加,薄膜表面颗粒增大,粗糙度增加并形成柱状微结构。心气压强对薄膜磁特性有显著的影响,随血压强增加,薄膜的矫顽力增加,而剩磁则呈下降趋势。从薄膜的磁滞回线、矫顽力以及剩磁随溅射气压的变化规律可知,溅射气压较小时制备的薄膜软磁性能较好.
汤如俊谢巧英彭斌张万里张文旭蒋洪川
关键词:非晶薄膜溅射气压表面形貌矫顽力剩磁
应力生长FeCoSiB非晶薄膜的磁各向异性研究
采用应力生长方法,制备出受压应力和张应力作用的 FeCoSiB 非晶磁弹性薄膜,研究了薄膜中的应变大小对 FeCoSiB 薄膜的磁滞回线、剩磁、应力诱导各向异性场等磁特性的影响.结果表明,无应变薄膜在薄膜面内呈现各向同性...
彭斌张万里汤如俊蒋洪川兰中文
关键词:应力磁各向异性
文献传递
张应力对FeCoSiB非晶薄膜磁特性的影响被引量:1
2007年
采用磁控溅射方法,在弯曲的玻璃基片上制备出受张应力作用的FeCoSiB非晶薄膜,研究了张应力大小对FeCoSiB薄膜的磁畴、矫顽力、剩磁、各向异性场等磁特性的影响。结果表明,薄膜的畴结构显著依赖于张应力,其磁畴宽度随张应力增加而增加;张应力导致FeCoSiB薄膜内形成较强的磁各向异性,其各向异性随应力的增大而增大。
谢巧英张万里蒋洪川沈博侃彭斌
关键词:应力磁各向异性磁畴矫顽力
FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜的应力阻抗效应研究被引量:1
2010年
采用直流磁控溅射法在柔性Kapton基片上制备了三明治结构的FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜,研究了多层膜的交流阻抗随外加应力变化的规律。测试结果表明,三明治结构多层膜的阻抗随外加应力的增大而增大,应力阻抗效应随中间导电层厚度以及铁磁层厚度的增加而增强,同时应力阻抗效应也与测试频率密切相关。
刘均东张万里彭斌
溅射气压对FeCoSiB非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响
利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了 FeCoSiB 非晶薄膜,研究了溅射 Ar 气压强对薄膜表面形貌及磁特性的影响。结果表明,薄膜的表面形貌显著依赖于 Ar 气压强,随着 Ar 压强的增加,薄膜表面颗粒增大, 粗糙度...
汤如俊谢巧英彭斌张万里张文旭蒋洪川
关键词:溅射气压表面形貌矫顽力剩磁
文献传递
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