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博士科研启动基金(YD2010-03)

作品数：1 被引量：1H指数：1
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电容
  • 1篇介电
  • 1篇介电常数
  • 1篇MOS工艺

机构

  • 1篇延安大学

作者

  • 1篇曹新亮
  • 1篇崔巍

传媒

  • 1篇电子设计工程

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
MOS工艺下叉指夹心集成电容的结构及其模拟分析被引量：1
2014年
针对较大电容难以集成的实际,提出叉指夹心集成电容结构,采用横向电通量增加电容策略,在顶层上布铝导线呈平铺叉指夹心结构,涂盖Si3N4为介质,通过选择考虑边缘效应的模型进行仿真模拟,观测这种结构下两种连接方式电容的大小,得到了一定叉指电极长度的电容值可达到约15.3 pF.
曹新亮崔巍
关键词：MOS工艺介电常数
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共1页<1>
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