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国防科技技术预先研究基金(51412020505DZ0202)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:吴传贵张万里卢肖李言荣何小祥更多>>
相关机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国防科技技术预先研究基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇漏电
  • 2篇漏电流
  • 2篇BST薄膜
  • 1篇射频
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇PT
  • 1篇PTCR
  • 1篇SR
  • 1篇BA

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇张万里
  • 2篇吴传贵
  • 1篇李言荣
  • 1篇卢肖
  • 1篇何小祥

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
射频溅射制备的BST薄膜介电击穿研究被引量:3
2006年
采用射频溅射制备BST薄膜,研究了薄膜的介电击穿特性.实验表明,在电压增大到传统击穿电压(电流密度出现瞬时增大时的电压)之前,薄膜性能已被破坏,发现在传统击穿状态之前存在另一个新状态———初始击穿状态.通过测试各状态的J-V(电流密度-电压)、J-T(电流密度-温度)特性分析其导电机理,建立了薄膜结构、漏电性能随电场强度增大而变化的模型.最后提出了确定实际意义上击穿电压的方法.
卢肖吴传贵张万里李言荣
关键词:BST薄膜漏电流
Pt/(Ba_(0.65)Sr_(0.35))TiO_3/Pt漏电流特性研究
2008年
利用射频(RF)溅射在Pt/Ti/SiO_2/Si衬底上沉积(Ba_(0.65)Sr_(0.35))TiO_3(BST)薄膜,制成Pt/BST/Pt平板电容,研究在正反偏压下BST薄膜漏电流的J-V和J-T特性。反偏压时,上电极Pt和BST薄膜形成肖特基接触,漏电流遵循肖特基发射机制。正偏压时,BST薄膜和下电极Pt界面存在大量的界面态,使得漏电流遵循空间电荷限制电流(SCLC)机制,漏电流密度随偏压的增加而急剧增加,随测试温度的增加而减小产生了PTCR效应。利用深陷阱空间电荷限制电流模型,解释了BST薄膜的PTCR效应受ε_r(T)和V^((Tc/T)+1)的共同作用,其中ε_r(T)的作用占优。
何小祥吴传贵张万里
关键词:PTCRBST薄膜
共1页<1>
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