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国家自然科学基金(XJ2008312)

作品数:5 被引量:3H指数:1
相关作者:孙伟锋刘斯扬钱钦松王佳宁易扬波更多>>
相关机构:东南大学安徽大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金江苏省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 5篇电子电信

主题

  • 1篇电路
  • 1篇氧化层
  • 1篇英文
  • 1篇应力条件
  • 1篇载流子
  • 1篇热载流子
  • 1篇终端结构
  • 1篇子电路
  • 1篇温度
  • 1篇温度范围
  • 1篇温度分布
  • 1篇胁迫
  • 1篇胁迫条件
  • 1篇结构参数
  • 1篇晶体管
  • 1篇SPICE模...
  • 1篇WIDE
  • 1篇
  • 1篇ESD
  • 1篇FET模型

机构

  • 3篇东南大学
  • 1篇安徽大学

作者

  • 3篇孙伟锋
  • 1篇易扬波
  • 1篇王佳宁
  • 1篇高珊
  • 1篇钱钦松
  • 1篇陈军宁
  • 1篇陆生礼
  • 1篇刘斯扬

传媒

  • 2篇Journa...
  • 1篇微电子学
  • 1篇中国工程科学
  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 3篇2009
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
新型PB-PSOI器件表面电场和温度分布模型研究
2009年
根据泊松方程和热扩散方程提出了新型PB-PSOI器件漂移区的二维表面电场分布模型和温度分布模型,模型计算结果与Medici模拟结果相一致。根据所提出的模型,重点研究了埋氧化层厚度及长度对漂移区表面电场分布和温度分布的影响,最后给出了PB-PSOI器件的埋氧化层厚度和长度的优化设计方法。
孙伟锋高珊陆生礼陈军宁
关键词:表面电场温度分布
单个浮置场限环终端结构击穿电压模型被引量:1
2009年
基于B.J.Baliga的击穿电压理论,通过求解双边突变圆柱结的泊松方程,提出了单个浮置场限环终端结构的击穿电压解析模型。该模型计算结果与模拟结果的误差在±7%之内,具有精度高、应用范围广等特点,可以帮助设计者初步确定浮置场限环注入窗口大小及与主结的间距等关键参数。
孙伟锋王佳宁易扬波
关键词:终端结构
A sub-circuit MOSFET model with a wide temperature range including cryogenic temperature被引量:1
2011年
A sub-circuit SPICE model of a MOSFET for low temperature operation is presented.Two resistors are introduced for the freeze-out effect,and the explicit behavioral models are developed for them.The model can be used in a wide temperature range covering both cryogenic temperature and regular temperatures.
贾侃孙伟锋时龙兴
关键词:FET模型温度范围子电路SPICE模型
Thermal characteristics investigation of high voltage grounded gate-LDMOS under ESD stress conditions
2009年
The thermal characteristics of high voltage gg-LDMOS under ESD stress conditions are investigated in detail based on the Sentaurus process and device simulators.The total heat and lattice temperature distributions along the Si–SiO2 interface under different stress conditions are presented and the physical mechanisms are discussed in detail.The influence of structure parameters on peak lattice temperature is also discussed,which is useful for designers to optimize the parameters of LDMSO for better ESD performance.
孙伟锋钱钦松王雯易扬波
关键词:LDMOS应力条件胁迫条件结构参数
带阶梯栅氧的N-LDMOS晶体管热载流子退化分析(英文)被引量:1
2010年
为了减小高压N-LDMOS器件的热载流子效应并维持其开态特性,提出了一种带有阶梯栅氧的新型N-LDMOS器件结构.与传统的N-LDMOS器件相比,其栅极下方Si-SiO2界面处的电场强度明显减弱,因而可以有效地减少器件的热载流子效应,而该阶梯栅氧结构可以通过功率集成电路工艺中普遍采用的栅氧生长方法进行2次栅氧生长来获得.采用TCAD仿真技术对传统的N-LDMOS器件和所提出的新型N-LDMOS器件的热载流子退化现象进行了对比和分析,并在维持原有器件特性参数的基础上得出了新型N-LDMOS器件中厚栅氧部分的最优长度.最后,通过选取某些特性参数进行了实际的器件退化测试,结果表明该新型N-LDMOS器件的热载流子退化现象得到了很大的改善.
刘斯扬钱钦松孙伟锋
关键词:热载流子
共1页<1>
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