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国家杰出青年科学基金(20425414)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：刘芬赵良仲闫寿科赵志娟宋小平更多>>
相关机构：北京化工大学中国科学院中国计量科学研究院更多>>
发文基金：国家杰出青年科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇氧化硅
  • 1篇光电子能谱
  • 1篇硅片
  • 1篇厚度测量
  • 1篇XPS
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...

机构

  • 1篇北京化工大学
  • 1篇中国计量科学...
  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇王海
  • 1篇宋小平
  • 1篇赵志娟
  • 1篇闫寿科
  • 1篇赵良仲
  • 1篇刘芬

传媒

  • 1篇光谱学与光谱...

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
硅片上超薄氧化硅层厚度测量的XPS标准曲线法被引量：1
2010年
提出一种新的处理方法-XPS标准曲线法来测量硅片上超薄氧化硅层(SiO2/Si)的厚度。该方法利用一系列氧化硅厚度(d)准确已知的SiO2/Si标准样品,分别记录其氧化硅和元素硅的Si(2p)谱线,并得到峰高比(R),然后将厚度(d)对峰高比(R)作图得到标准曲线。在相同的实验条件下,测得未知样品氧化硅和元素硅的Si(2p)谱线并计算其峰高比,通过插入法在标准曲线上得到相应的氧化硅层厚度。SiO2/Si标准样品由设备一流和经验丰富的权威实验室提供,其氧化硅厚度采用多种方法进行测量比对。实验表明:基于氧化硅厚度准确知道的标准样品制作的XPS标准曲线,用于硅片上超薄氧化硅层厚度测量时具有快速、简便和比较准确等优点,有较好的实用价值。
赵志娟刘芬王海赵良仲闫寿科宋小平
关键词：氧化硅厚度测量
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共1页<1>
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