国家自然科学基金(50071068)
- 作品数：5 被引量：27H指数：3
- 相关作者：范松华张谷令杨思泽杨武保刘赤子更多>>
- 相关机构：中国科学院中国石油大学（北京）技术公司更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 非平衡磁控溅射法类金刚石薄膜的制备及分析被引量：13
- 2005年
- 利用非平衡磁控溅射物理气相沉积技术制备了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜.分析沉积工艺参数对所得类金刚石薄膜的电学特性的影响以及溅射粒子的大小、能量、碰撞及沉积过程中的相变机理后认为溅射粒子越小、与环境气体分子的碰撞次数越多、与衬底相互作用时具有适当动量等,能够有效提高薄膜中sp3杂化碳原子的含量.利用拉曼光谱、纳米力学探针、红外光谱、扫描电镜等分析了所得类金刚石膜的结构、力学及光学性能、表面形貌等特征.结果表明,类金刚石膜中sp3杂化碳原子的含量较高,显微硬度大于11GPa,薄膜光学透过率达到89·4%,折射系数为1·952,沉积速率为0·724μm/h,表面光滑、致密、均匀,不存在明显的晶粒特征.
- 杨武保范松华张谷令马培宁张守忠杜健
- 关键词：非平衡磁控溅射类金刚石膜类金刚石薄膜磁控溅射法表面光滑
- 金属管件内壁栅极增强等离子体源离子注入的轴向特性研究被引量：4
- 2007年
- 栅极增强等离子体源离子注入(GEPSII)一种新的金属管件内壁处理方法,该方法能够均匀地对金属管件内壁进行离子注入,并且能够生成二元金属化合物.在金属管件内轴向放置三块45号钢样品,利用GEPSII方法在金属管件内壁成功生长金黄色氮化钛(TiN)薄膜.结构分析显示TiN主要沿(111)和(200)晶面生长,深度分析显示膜的厚度大约二十几纳米,膜质地均匀且在基底有一定的嵌入深度.电化学腐蚀、硬度、磨擦学分析表明TiN薄膜很好地改善了45号钢的表面性能,并且表现出很高的轴向均匀性.
- 张谷令王久丽陈光良冯文然顾伟超牛二武范松华刘赤子杨思泽
- 关键词：内表面氮化钛
- 高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析被引量：6
- 2006年
- 利用自制高能等离子体辅助化学气相沉积设备在1Cr18Ni9Ti衬底上,在离子能量2keV、工作压力2Pa、工作气氛为CH4/H2=10%的工艺条件下得到了一种硬度高、导电性能良好、可能具有碳链结构的新型碳膜.工艺研究结果表明,衬底材料对制备该新型纳米碳膜具有关键作用,离子能量、工作压力及气氛等工艺因素也具有重要作用.原子力显微镜分析结果表明,该薄膜晶粒尺寸小于100nm,薄膜光滑、致密、均匀.拉曼光谱分析显示,该薄膜的拉曼光谱特征为中心峰在1580cm-1附近、显著宽化的单一峰.欧姆计测量表明该薄膜的薄膜电阻为1·6×104Ω/cm2.利用纳米力学探针测得该纳米碳膜的显微硬度为21·38GPa,体弹性模量为420·65GPa.
- 杨武保范松华戈敏张谷令沈曾民杨思泽
- 关键词：CVD法衬底材料
- 等离子体方法实现金属管件内表面改性研究进展被引量：2
- 2006年
- 综述了近年来国内外利用等离子体方法实现金属管件内表面强化的研究进展．介绍了几种管件内表面等离子体源离子注入和沉积技术,并对其优缺点分别加以分析．详细介绍了中国科学院物理研究所等离子体物理实验室先后提出的几种等离子体源离子注入方法用于金属管件内表面改性的原理、技术特点及最新研究进展．力图展望管件内壁离子注入技术研究的发展前景．
- 张谷令吴杏芳顾伟超陈光良冯文然牛二武李立吕国华陈皖范松华刘赤子杨思泽
- 关键词：等离子体源离子注入内表面表面改性
- 丙酮环境下ECR微波等离子体辅助化学气相沉积类金刚石薄膜研究被引量：3
- 2004年
- 利用电子回旋共振 (ECR)微波等离子体辅助化学气相沉积技术、工作气氛为丙酮 ,在光学玻璃衬底上得到了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜 .在工艺研究中 ,对等离子体中氧的存在及其作用进行了分析 .原子力显微镜分析表明 ,薄膜的表面粗糙度小于 1 0nm ,晶粒尺寸约为 1 0 0nm .拉曼光谱和中红吸收谱研究发现 ,薄膜具有强烈的荧光效应 ,含有sp1 ,sp2 ,sp3杂化C—C ,sp3杂化CH3,羰基CO、含氧多元环以及—COOH基等 .利用纳米力学探针以及近红区红外透射谱分析了薄膜的力学及光学性能 ,结果表明 ,薄膜的显微硬度接近 4GPa ,体弹性模量约为 1 1GPa ;薄膜在近红区完全没有吸收峰 ,折射系数为 1 .5 76 ;根据薄膜干涉花样 ,计算薄膜的沉积速率为 4 6 0nm h .
- 杨武保王久丽张谷令范松华刘赤子杨思泽
- 关键词：类金刚石薄膜红外光谱化学气相沉积法
