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基于球磨技术的α-C:H膜微粒磨损机理与实验研究被引量：2: 2013年; 膜层耐磨性能的测量与评价已成为硬质薄膜技术发展与应用的关键问题。球磨技术采用连续回转运动的GCr15轴承钢球带动悬浮液中的金刚石颗粒(直径为1.5μm)对试样进行球磨,通过对"圆环状"磨痕内外圈直径的测量,并利用提出的单位磨损率概念评价其耐磨性。以非平衡磁控溅射/阳极离子束沉积法在SKD11不锈钢基体上制备的Cr/α-C:H多层膜为研究对象,采用球磨法检测耐磨性能,磨球转速为200 r/min(0.26 m·s-1),对试样的压力载荷为0.45 N,球磨圈数在50～800之间。并通过体式显微镜,原子力显微镜以及扫描电镜对薄膜的磨损情况进行表面观察。经对实验数据的分析,球磨圈数350为耐磨临界值,测得Cr/α-C:H膜的单位磨损率δ为8.87×10-9(mm4·mm-2)。结果表明,薄膜在微粒磨损的作用下,其去除机制主要以微切削和犁沟为主。; 于斌斌袁军堂汪振华夏亮亮黄云林; 关键词：球磨金刚石颗粒耐磨性

Generation and storage of double slow light pulses in a solid: 2012年; We experimentally study the generation and storage of double slow light pulses in a pr^3＋：Y2SiO5 crystal. Under electromagnetically induced transparency, a single signal pulse is stored in the spin coherence of the crystal. By simultaneously switching on two control fields to recall the stored information, the spin coherence is converted into two slow light pulses with distinct frequencies. Furthermore, the storage and controlled retrieval of double slow light pulses are obtained by manipulating the control fields. This study of double slow light pulses may have practical applications in information processing and all-optical networks.; Fan Yun-FeiWang Hai-HuaWang RongZhang Xiao-JunKang Zhi-HuiWu Jin-HuiZhang Han-ZhuangGao Jin-Yue

阳极离子束在SKD11和YG6基体上沉积DLC膜及其机理被引量：1: 2013年; 利用阳极离子束技术在SKD11型不锈钢和YG6硬质合金上沉积类金刚石(DLC)薄膜,采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、Raman光谱分析薄膜微观结构和表面形貌;采用WS-2005型附着力划痕仪和洛氏压力机测试膜基结合强度;采用球磨仪测试膜层耐磨性能。结果表明:利用该技术所制DLC膜是一种非晶结构、表面平整的薄膜,粗糙度R a值仅为5.21nm。DLC/Cr/SKD11膜系Raman光谱I D/I G值(0.69)高于DLC/Cr/YG6膜系(1.54),说明SKD11高于YG6所制膜层的sp3C键含量;DLC/Cr/SKD11膜系结合强度(17.8 N)低于DLC/Cr/YG6膜系(39.2 N),且DLC/Cr/YG6膜系的洛氏压痕周围仅有放射状微细裂纹,而DLC/Cr/SKD11膜系的压痕周围存在膜层脱落现象;沉积在SKD11与YG6基体上DLC膜的单位磨损率分别为1.40E-4和8.81E-5,说明YG6基体上DLC膜层的耐磨性要优于SKD11基体上的DLC膜层。由此看出,不同基体上制备的DLC膜层微观结构不同,导致结合性能及耐磨性能不同。; 于斌斌袁军堂汪振华胡小秋王飞; 关键词：类金刚石膜耐磨性

多层等离子体蚀刻技术的研究被引量：7: 2013年; 干法刻蚀现已成为微小高深宽比结构加工与微细图形制作的重要手段。提出了一种新的干法刻蚀技术—多层等离子体蚀刻,充分利用腔体的空间布局,布置多层电极,并采用分层送气装置输送放电气体,实现多层同时进行刻蚀,可成倍提高产能。采用该技术刻蚀光阻为例,从空间与时间两个角度分析了工艺参数对刻蚀速率与均匀性的影响规律与作用机理。实验结果表明,极板间距为50/55/60mm(由下向上),工作压力为40 Pa,R[O2:Ar]为1/2,RF功率为600W时,整炉次刻蚀速率均值为14.395 nm/min,均匀性为9.8%,此时工艺最为合理。; 于斌斌袁军堂汪振华薛志松黄云林; 关键词：刻蚀速率均匀性光阻

新型界面结合强度检测技术理论及实验研究被引量：4: 2011年; 膜/基界面结合强度的测量与评价已成为硬质薄膜技术发展与应用的关键问题.提出了1种新的测量方法———激光冲击检测技术,分析了在脉冲激光作用下,薄膜脱落的机理与数学模型.以测定TiN薄膜界面结合强度为例,用650～1000 mJ的脉冲激光对膜层进行加载,并采用体式显微镜和扫描电镜对薄膜的脱落情况进行表面观察,根据反射信号检测法判别TiN薄膜的失效阈值.实验数据分析表明,测得膜/基界面的结合强度为4.954 GW/cm2,验证了该技术的可行性.; 于斌斌袁军堂孙淮阳吴笑天; 关键词：脉冲激光硬质薄膜

α-C:H膜系与氮化物膜系的结构性能比较及机理分析: 2013年; 采用非平衡磁控溅射与阳极离子束技术制备Cr/α-C:H膜系,同时采用多弧离子镀技术分别制备Cr/CrNx与Ti/TiNx膜系,膜层厚度均为2μm。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、Raman光谱、X射线衍射仪分析三种薄膜的微观结构和表面形貌;采用WS-2005型附着力划痕仪测试三种膜系与SKD11不锈钢基体的结合强度;采用自主研制的球磨仪测试制备在SKD11不锈钢与YG6硬质合金基体上的三种膜层耐磨性能。结果表明,利用阳极离子束技术制备的α-C:H膜是一种非晶结构、表面平滑的薄膜,粗糙度值仅为5.21 nm,划痕试验临界载荷为17.8 N。而晶态的TiNx与CrNx膜层粗糙度较高,且其表面存有'熔滴',但其结合强度较高,划痕试验临界载荷达80 N以上。α-C:H膜层的耐磨性能优于TiNx,CrNx,且沉积在YG6硬质合金基体上的膜层单位磨损率均比SKD11不锈钢基体上的膜层低。; 于斌斌袁军堂汪振华胡小秋王飞; 关键词：多弧离子镀 TIN膜

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中国博士后科学基金(2011M500924)