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国家高技术研究发展计划(2007AA03Z443)

作品数:12 被引量:25H指数:4
相关作者:赵北君朱世富何知宇陈宝军赵欣更多>>
相关机构:四川大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学化学工程电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 12篇期刊文章
  • 7篇会议论文

领域

  • 15篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 8篇晶体
  • 6篇多晶
  • 5篇单晶
  • 5篇多晶合成
  • 5篇红外透过率
  • 5篇
  • 5篇
  • 4篇单晶生长
  • 4篇退火
  • 2篇点缺陷
  • 2篇电阻率
  • 2篇衍射
  • 2篇退火研究
  • 2篇密度泛函
  • 2篇密度泛函理论
  • 2篇晶体生长
  • 2篇红外
  • 2篇泛函
  • 2篇泛函理论
  • 2篇SINGLE...

机构

  • 17篇四川大学

作者

  • 17篇朱世富
  • 17篇赵北君
  • 14篇陈宝军
  • 9篇何知宇
  • 5篇李佳伟
  • 4篇孙永强
  • 4篇赵欣
  • 4篇张熠
  • 4篇杨登辉
  • 4篇程江
  • 4篇杜文娟
  • 3篇杨慧光
  • 3篇张建强
  • 3篇曹新玲
  • 3篇张羽
  • 2篇张顺如
  • 2篇曹礼强
  • 2篇邓江辉
  • 2篇郭楠
  • 1篇徐婷

传媒

  • 3篇人工晶体学报
  • 2篇无机材料学报
  • 2篇四川大学学报...
  • 2篇Rare M...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇无机化学学报
  • 1篇材料工程
  • 1篇第十六届全国...
  • 1篇第15届全国...
  • 1篇第十六届全国...

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 4篇2010
  • 5篇2009
  • 2篇2008
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Growth and characterizations of CdGeAs2single crystal by descending crucible with rotation method被引量:5
2014年
By the method of descending crucible with rotation, crack-free CdGeAs2single crystals of U15 mm 950 mm were grown in a furnace with three independen heating zones after optimizing the temperature field, and the descending and rotational speed to meet the need of CdGeAs2crystal growth. The properties of as-grown crysta were characterized by a variety of techniques. The results of X-ray diffraction(XRD) show that there are two cleavage faces, which are(110) and(101). The peaks are in high intensity and good symmetry, which demonstrates that the crystal is integral in structure and well crystallized. The energy-dispersive spectrometry results indicate that the wafer of the CdGeAs2crystal is closer to the stoichiometry The IR transmittance of the wafer is *48.6 % at 5.5 lm, and the maximum value is up to 51.6 % in the range of2.3–18.0 lm. Etch pits of(001) face are observed and the density of the etch pits is evaluated to be 1 9 105cm-2.
Wei HuangBei-Jun ZhaoShi-Fu ZhuZhi-Yu HeBao-Jun ChenJing-Jing TangWei-Jia Liu
CdGeAs_2多晶合成与单晶生长研究被引量:6
2010年
对新型中红外非线性光学材料CdGeAs2的多品合成和单品生长进行了研究.以高纯(99.9999%)As、Ge、Cd为原料,按照CdGeAs,化学计量比并适当富Cd、As配料,采用机械振荡与熔体温度振荡相结合的方法合成出CdGeAs2多品材料,使用改进的坩埚下降法生长山Ф15mm×45mm、外观完整无开裂的CdGeAs2单晶体.XRD全谱拟合精修、红外傅里叶分光光度计测试分析表明:合成的CdGeAs2晶体具有单相四方黄铜矿结构,晶格常数为a=b=0.5946nm,c=1.1217nm;生长出的CdGeAs2单晶体结构完整,结品性好,晶体的易解理面为(101)面,红外透明范围589-4250cm^-1,拟合计算出CdGeAs2晶体的禁带宽度为0.67eV.
何知宇赵北君朱世富陈宝军李佳伟张熠杜文娟
关键词:多晶合成单晶生长XRD分析
磷锗锌多晶合成过程的中间生成物研究
锌(ZnGeP2)晶体是一种性能优异的中远红外非线性光学材料,在红外对抗、红外遥控、卫星跟踪、激光武器和大气环境监测等领域具有广阔的应用前景[1,2].高质量的ZnGeP2单晶生长难度大,其中的一个重要原因是高纯单相的Z...
曹新玲朱世富赵北君陈宝军何知宇王志超张建强杨登辉
CdGeAs_2多晶合成研究被引量:2
2010年
以高纯(6N)Cd、Ge和As单质为原料,按CdGeAs_2的化学计量比配料,采用机械振荡和温度振荡相结合新方法合成出CdGeAs_2多晶锭,经X射线粉末衍射分析表明合成产物为高纯单相的CdGeAs_2多晶.用20℃/min的升温和降温速率对合成的CdGeAs_2多晶进行了DTA分析,结果显示CdGeAs_2多晶的熔化温度为669.24℃、结晶温度为615.55℃.根据DTA分析结果设计CdGeAs_2晶体生长温场,采用改进的Bridgman法生长出外观完整、尺寸为Φ15 mm× 45 mm的CdGeAs_2晶体,并对其进行解理实验,获得了完整、光滑的解理面,经XRD分析结果显示,连扫谱呈现{101}面的四级衍射峰,(101)面回摆谱峰尖锐、对称性好.
郭楠朱世富赵北君何知宇陈宝军李佳伟邓江辉
关键词:多晶合成单晶生长布里奇曼法
CdGeAs2多晶合成与单晶生长研究
CdGeAs2是一种性能优异的中红外非线性光学材料,属Ⅱ-Ⅳ-V2族黄铜矿类半导体化合物,42m点群,熔点约为662℃。在已知红外晶体中,CdGeAs2晶体具有最大的非线性光学系数(d36=236pm/V),宽的红外透过...
何知宇朱世富赵北君陈宝军李佳伟
关键词:多晶合成物相分析单晶生长
文献传递
ZnGeP_2晶体的热处理研究
磷锗锌(ZnGeP2,ZGP)晶体是一种性能优异的新型中红外高功率非线性光学材料,它具有红外透明范围宽、非线性光学系数大、导热率高、光损伤阈值高、耐腐蚀等优点,可用于制备中红外高功率激光频率转换器件,如差频、倍频、光参量...
张建强赵北君朱世富何知宇陈宝军王志超杨登辉曹新玲
关键词:退火工艺X射线衍射谱红外透过率电阻率
文献传递
ZnGeP_2单晶生长温场研究被引量:2
2009年
根据ZnGeP2(ZGP)晶体的生长特性,自行设计组装了三段式独立控温生长炉,优化了温场分布。采用改进的垂直布里奇曼法成功生长出外观完整、无裂纹的ZGP单晶体,尺寸达φ15 mm×35 mm。对晶体进行解理实验和X射线衍射分析,发现ZGP晶体易沿(101)面解理,其回摆峰尖锐无劈裂。对未经退火处理的晶片进行红外透过率测试,在2-12μm波段内红外透过率达45%以上。研究结果表明所设计的温场适合于ZGP单晶生长,生长出的ZGP晶体完整性好、质量较高。
孙永强赵北君朱世富赵欣杨慧光程江张羽陈宝军何知宇
关键词:晶体生长红外透过率X射线衍射
CdGeAs2晶体的光学性质研究
CdGeAs2晶体是一种性能优异的三元Ⅱ-Ⅳ-Ⅴ2族黄铜矿类半导体化合物。它具有非常优异的非线性光学性质,如极高的非线性光学系数(236pmV-1)、较宽的红外透过范围(2.3~18μm)以及相位匹配转换发生所必需的双折...
朱世富杜文娟赵北君何知宇李佳伟张顺如张熠
关键词:密度泛函理论光学性质
文献传递
砷锗镉多晶X射线衍射分析
砷锗镉(CdGeAs2)晶体是一种II-IV-V2族三元黄铜矿结构化合物半导体,熔点约为662℃,是已知非线性光学系数最大(d36=236pm/V)的一种红外非线性光学晶体材料,并具有红外透过范围宽(2.3~18μm),...
张熠朱世富赵北君何知宇陈宝军杜文娟
关键词:多晶合成X射线衍射分析
文献传递
通过退火研究ZnGeP_2晶体中点缺陷与红外透过率的关系被引量:2
2008年
以富P2‰配比合成的ZnGeP2多晶为原料,用改进的Bridgman法生长出外观完整的单晶体。霍尔效应和I-V曲线表明,生长的ZnGeP2晶体属于p型半导体,电阻率为7.5×106Ω.cm。经定向切割后,得到10mm×10mm×2mm的ZnGeP2晶片,分别置于高纯红磷和ZnGeP2同成分粉末的氛围,在550℃进行退火处理。结果表明,P气氛中退火,晶片红外透过率的提高不明显;而在ZnGeP2粉末包裹氛围中退火,晶片的红外透过率在短波范围内得到了有效提高,在2~10μm波段则提高到近60%左右,说明VZ-n对该条件下生长的ZnGeP2单晶红外透过率影响较大,而V0P的影响较小。
程江朱世富赵北君赵欣陈宝军何知宇杨慧光孙永强张羽
关键词:点缺陷退火红外透过率
共2页<12>
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