江苏省普通高校研究生科研创新计划项目(CXZZ12-0717)
- 作品数：4 被引量：14H指数：2
- 相关作者：喻利花鞠洪博许俊华陈超更多>>
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- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 不同调制周期TiAlSiN/Mo_2N多层膜的微观结构、力学和摩擦性能研究被引量：6
- 2014年
- 采用射频磁控溅射制备不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜。利用X射线衍射,扫描电镜,能量弥散X射线谱,纳米压痕仪及摩擦试验机对薄膜的成分,相结构,力学及室温摩擦性能进行分析。结果表明,不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜为fcc与hcp混合结构,不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜硬度均大于单层TiAlSiN和Mo2N薄膜,且TiAlSiN/Mo2N多层膜的硬度与弹性模量随调制周期的影响不大,硬度稳定在29 GPa左右,室温条件下,以Al2O3为摩擦副的TiAlSiN/Mo2N多层膜平均摩擦系数平均摩擦系数均低于单层TiAlSiN、Mo2N薄膜,且随调制周期的增大逐渐降低,其最低平均摩擦系数为0.42,对应调制周期为12 nm。
- 鞠洪博喻利花许俊华
- 关键词：射频磁控溅射相结构
- 制备工艺对磁控溅射Mo-N薄膜微结构和性能的影响被引量：2
- 2014年
- 采用射频磁控溅射法,研究靶功率、氩氮比对Mo-N薄膜相结构、显微硬度和摩擦性能的影响。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、摩擦磨损测试仪和扫描电子显微镜对薄膜的成分、结构和性能进行表征。研究表明:靶功率对Mo-N薄膜相结构、硬度和摩擦性能的影响不大;随氩氮比的降低,薄膜相结构由单一的立方γ-Mo2N转变为立方γ-Mo2N与六方δ-MoN两相共存,硬度发生大幅下降,薄膜平均摩擦系数升高。
- 鞠洪博喻利花许俊华
- 关键词：磁控溅射相结构
- V含量对CrSiVN薄膜微观结构和摩擦性能的影响被引量：2
- 2013年
- 采用射频磁控溅射制备不同V含量的CrSiVN薄膜。利用X射线衍射、扫描电镜、X射线能量色散谱、纳米压痕仪和摩擦磨损实验对薄膜的相结构、形貌、成分和摩擦性能进行分析。结果表明,CrSiVN薄膜为fcc结构,具有(200)择优取向。薄膜晶格常数受V含量的影响不大。随V含量的增加,薄膜晶粒尺寸逐渐升高,显微硬度逐渐降低。由于在磨痕表面生成了具有润滑作用的氧化物,薄膜体现出较低的平均摩擦系数。
- 陈超鞠洪博喻利花许俊华
- 关键词：射频磁控溅射
- 不同调制比NbSiN/VN多层膜微观结构、力学和摩擦性能研究被引量：5
- 2014年
- 采用多靶共焦射频磁控溅射制备不同调制比的NbSiN/VN多层膜。利用X射线衍射、扫描电镜、能量色散谱、纳米压痕仪及摩擦试验机对薄膜的成分、相结构、力学及摩擦性能进行分析。结果表明,NbSiN/VN多层膜为fcc与hcp混合结构,NbSiN/VN多层膜的显微硬度随VN调制层厚度的增加而逐渐降低,室温条件下,以Al2O3为摩擦副的NbSiN/VN多层膜平均摩擦系数受调制比影响显著,随VN层厚度的增加,多层膜平均摩擦系数先降低后保持稳定。
- 鞠洪博喻利花许俊华
- 关键词：射频磁控溅射相结构力学性能
