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国家自然科学基金(69876018)

作品数:9 被引量:120H指数:5
相关作者:冯博学陈冲何毓阳伞海生王君更多>>
相关机构:兰州大学中国科学院西安邮电学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金甘肃省自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 7篇理学
  • 3篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 6篇电致变色
  • 6篇溅射
  • 5篇射频溅射
  • 2篇导电
  • 2篇电解质
  • 2篇膜系
  • 2篇非晶
  • 2篇NIO
  • 2篇WO3
  • 2篇NIOX
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇导电机制
  • 1篇导电聚合物
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学沉积
  • 1篇电聚合
  • 1篇电学
  • 1篇电学性质
  • 1篇电致变色材料
  • 1篇电致变色器件

机构

  • 9篇兰州大学
  • 1篇西安邮电学院
  • 1篇中国科学院
  • 1篇北京机械工业...

作者

  • 9篇冯博学
  • 6篇陈冲
  • 5篇伞海生
  • 5篇何毓阳
  • 3篇唐为国
  • 3篇王君
  • 3篇刘金良
  • 3篇蒋生蕊
  • 2篇尹经敏
  • 2篇代富平
  • 2篇谢亮
  • 2篇刘化然
  • 2篇张欣
  • 2篇吕淑媛
  • 1篇甘润今
  • 1篇陈光华
  • 1篇李斌
  • 1篇李强

传媒

  • 4篇物理学报
  • 2篇功能材料
  • 1篇Journa...
  • 1篇兰州大学学报...
  • 1篇Acta M...

年份

  • 3篇2005
  • 3篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 1篇2000
9 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
基于WO3/NiOx膜系的固态电致变色器件研究
2004年
氧化钨和氧化镍是目前研究最多、应用最广的两种电致变色材料.本文详细地介绍了本实验室射频溅射WO3和NiOx薄膜的制备和性能以及以它们为基的夹层式固态电致变色器件的制作和性能.
冯博学何毓阳陈冲伞海生刘化然张欣刘金良唐为国尹经敏
关键词:WO3NIOX电致变色射频溅射电解质
基于LabV IEW的电化学测控系统的设计与应用被引量:7
2002年
采用 L ab VIEW方便的图形化程序设计环境开发出了三电极体系中电化学测控系统(ECMS) ,可对极化反应过程进行适时控制 ,并实时采集极化电流与极化电压 ,得出极化曲线 .在兰州大学金属物理实验室 Ni Ox Hy 电致变色薄膜的电沉积制备及其特性研究中得到了很好的应用 .
代富平吕淑媛冯博学李强
关键词:LABVIEW极化曲线
基于WO3/NiOx膜系的固态电致变色器件研究
氧化钨和氧化镍是目前研究最多、应用最广的两种电致变色材料.本文详细地介绍了本实验室射频溅射WO3和NiOx薄膜的制备和性能以及以它们为基的夹层式固态电致变色器件的制作和性能。
冯博学何毓阳陈冲伞海生刘化然张欣刘金良唐为国尹经敏
关键词:WO3电致变色射频溅射电解质
文献传递
电化学沉积非晶NiO_xH_y膜的电致变色特性及其机理被引量:3
2001年
研究了用电化学方法在 Sn O2 基底上沉积的 Ni Ox Hy 膜电致变色特性 ,该膜是一种富氧结构 ,具有优良的变色特性 ,其透射式光密度ΔOD在可见光区可达 1以上 .Ni Ox Hy 膜在 KOH电解液中的电致变色行为是由质子的注入或萃取所决定 .H+注入并占据 Ni空位 ,会使一部分 Ni3+转化为 Ni2 + ,Ni3+的减少将导致光透性增强 ,这是因为Ni的 d电子能级在 Ni O6 八面体晶场中被分裂为 t2 g和 eg 能级 .H+的注入使 Ni3+的 t2 g能级被电子填满 ,变为 Ni2 + ,导致光学透明 .反之 ,H+ 的萃取使 t2 g能级出现空穴 ,即形成 Ni3+ 。
冯博学谢亮蔡兴民蒋生蕊甘润今
关键词:电化学沉积电致变色半导体材料
射频溅射微晶NiO_xH_y膜电致变色性能及其机理研究被引量:10
2000年
研究了射频溅射制备的NiOx 膜的电致变色性能 ,发现富氧非理想化学配比的NiOx(x >1)膜具有变色活性 ,这种膜出现Ni3 + 和Ni2 + 的混合价态 ,当H+ 注入并占据Ni空位时 ,导致Ni3 + 的t2g能级被填满 ,Ni3 + 被阴极还原为Ni2 + 引起光学透明 ,即为漂白态 ;反之 ,H+ 被萃取出NiOx 膜 ,导致Ni2 + 的t2g能级出现空穴 ,Ni2 + 被氧化为Ni3 + 引起光吸收 ,则为着色态 .
冯博学谢亮王君蒋生蕊陈光华
关键词:电致变色射频溅射微晶
EFFECT OF THE DEFECT STATES DENSITY ON OPTICAL BAND GAP OF CdIn_(2)O_(4)THIN FILM
2005年
Transparent conducting oxides CdIn2O4 thin films were prepared by radio-frequenc y reactive sputtering from a Cd-In alloy target in Ar+O2 atmosphere. By transmis sion spectrum and Hall measurement for different samples prepared at different s ubstrate temperatures, it could be found that the carrier concentration would in crease with the decrease of substrate temperature, but absorption edge showed an abrupt variation from a blue shift to a red shift. Theoretically, the paper for mulated the effect of high-density point defects on band structures; it embodied the formation of band tailing, Burstein-Moss shift and band-gap narrowing. The density of holes will influence the magnitude of optical band gap and transmitta nce of light. Since extrapolation method does not fit degenerate semiconductor m aterials, a more accurate method of obtaining optical band gap is curve fitting. In addition, ionized impurities scattering is the main damping mechanism of the free electrons in CdIn2O4 films, the density of ionized impurities induced by a ltering substrate temperature will affect the carriers mobility.
H.S.SanZ.G.WuB.LiB.X.Feng
关键词:SPUTTERING
n型透明导电薄膜CdIn_2O_4电学性质的研究和大面积制备的最佳条件被引量:2
2005年
在Ar +O2 气氛中 ,采用射频反应溅射Cd In靶制备CdIn2 O4 薄膜 .制得的薄膜经x射线衍射 (XRD)检测为CdIn2 O4 和CdO相组成的多晶 .从理论上分析了热处理前后氧空位、掺杂点缺陷和富氧电子陷阱在影响膜的载流子浓度和电子散射中所起的重要作用 .同时 ,对样品进行Hall效应、Seebeck效应测试并得出不同载流子浓度下的迁移率、有效质量、弛豫时间以及它们之间的相互关系 ,特别强调了弛豫时间的重要性 .为了提高导电膜的透射率 ,还分析了Burstein Moss漂移和带隙收缩对光带隙的影响 ,并在薄膜制备时选择了合适的衬底温度Ts≈ 2 80℃ .实验表明 ,在氧分压为 8%左右时制备的薄膜质量较好 ,热处理后的指标大约为迁移率 μH =31× 10 - 4m2 V·s ,电阻率 ρ =1 89× 10 - 5Ω·m .
伞海生陈冲何毓阳王君冯博学
关键词:透明导电薄膜电学性质导电机制
非晶态WO_3薄膜电致变色特性的研究被引量:33
2003年
采用射频溅射三氧化钨粉末靶的技术 ,在不同的氧分压条件下沉积得到非晶态WO3电致变色薄膜 ,分析得知氧分压为 1∶10的样品变色性能更好些 .采用x射线衍射 (XRD) ,原子力显微镜 (AFM) ,伏安特性曲线和分光光度计分析所制备薄膜的特性 .将薄膜在 1 5mol L的LiClO4 的丙稀碳酸脂 (PC)溶液进行电化学反应 .发现氧分压在 1∶10的情况下沉积得到的薄膜呈非晶态 ,薄膜有较多的孔隙 ,这有利于Li+ 的抽取 ,进而显示出很好的变色性能 .x射线光电子能谱 (XPS)成分分析表明WO3薄膜在原态中只有W和O两种原子电色反应后的主要成分为LixWO3,它是W6 + 和W5+ 的混合价态的钨青铜 .分别在 2 30和 4 0 0℃热处理 90min ,分析表明在 4 0 0℃热处理后循环
代富平吕淑媛冯博学蒋生蕊陈冲
关键词:非晶态射频溅射电致变色光学性能
电致变色材料及器件的研究进展被引量:58
2004年
 电致变色材料被认为是目前最有应用前景的智能材料之一,在过去几十年里被广泛研究,相关的电致变色器件也已经上市。本文在总结了各种电致变色材料的变色机理及其成膜方法(重点介绍了本实验室采用射频溅射制备的WO3膜和NiOx膜)的基础上,研究了材料的应用及器件的组装,并对器件组装中所需要的部分其它关键材料进行了介绍。最后对未来电致变色材料及其应用进行了展望。
冯博学陈冲何毓阳伞海生王君刘金良唐为国
关键词:电致变色射频溅射导电聚合物离子导体电致变色器件
由缺陷引起的Burstein-Moss和带隙收缩效应对CdIn_2O_4透明导电薄膜光带隙的影响被引量:18
2005年
在Ar+O2 气氛 ,采用射频反应溅射Cd In靶制备CdIn2 O4 (CIO)薄膜 .通过对不同衬底温度下制备和沉积后在氩气流中退火的薄膜进行透射、反射和Hall效应的测量和分析发现 ,随着衬底温度的降低 ,载流子浓度呈上升趋势 ,而吸收边呈现先是“蓝移”然后“红移”的现象 .从理论上阐述了高浓度的点缺陷对CIO氧化物薄膜的能带产生的重要影响 ,这些影响主要体现在带尾的形成 ,Burstein Moss(B M)漂移和带隙收缩 .另外 ,衬底温度的变化将对薄膜的迁移率有重要影响 .对于CIO薄膜 ,由缺陷产生的空穴浓度将对薄膜的带隙收缩产生重要影响并将直接影响到薄膜的光透性 .由于存在吸收带尾 ,利用传统的“外推法”获得薄膜的光带隙并不适合简并半导体 ,而应使用更为准确的“拟合法” .
伞海生李斌冯博学何毓阳陈冲
关键词:衬底温度简并反应溅射载流子浓度
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