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深圳市科技计划项目(200319)

作品数:4 被引量:21H指数:4
相关作者:齐红基邵建达易葵范平范正修更多>>
相关机构:中国科学院上海光学精密机械研究所深圳大学更多>>
发文基金:深圳市科技计划项目国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇理学

主题

  • 3篇光学
  • 2篇光学特性
  • 2篇尺寸效应
  • 1篇电学
  • 1篇电学特性
  • 1篇判据
  • 1篇物理学
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束溅射
  • 1篇离子束溅射沉...
  • 1篇纳米
  • 1篇金属
  • 1篇金属材料
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇光学常数
  • 1篇薄膜光学
  • 1篇薄膜物理
  • 1篇薄膜物理学
  • 1篇CO

机构

  • 4篇中国科学院上...
  • 3篇深圳大学

作者

  • 4篇范正修
  • 4篇范平
  • 4篇易葵
  • 4篇邵建达
  • 4篇齐红基

传媒

  • 1篇中国激光
  • 1篇光学学报
  • 1篇光子学报
  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 3篇2006
  • 1篇2005
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
纳米Mo膜的光学特性及最小连续膜厚研究被引量:5
2005年
利用Lambda-900分光光度计,在波长为310~1250 nm范围内测量了离子束溅射沉积不同厚度纳米Mo膜的反射率和透射率.选定波长为310 nm,350 nm,400 nm,500 nm,550 nm,632 nm,800 nm,1200 nm时对薄膜的反射率、透射率和吸收率随膜厚变化的关系进行了讨论.实验结果显示,纳米Mo膜的光学特性有明显的尺寸效应.提出将薄膜对光波长为550 nm时的反射率和透射率随Mo膜厚度变化关系的交点对应的厚度作为特征厚度,该厚度可认为是纳米Mo膜生长从不连续膜进入连续膜的最小连续膜厚.利用原子力显微镜(AFM)观测膜厚在15.76 nm时的表面形貌,此时表面形貌已呈现连续膜的特征.
范平邵建达易葵齐红基范正修
关键词:光学特性尺寸效应
Co和Cu薄膜电学特性和连续性特征的判据被引量:6
2006年
采用离子束溅射沉积了不同厚度的Co膜和Cu膜,利用四电极法测量了薄膜的电阻率,从而得到了Co膜和Cu膜的电导率随薄膜厚度的变化关系。实验结果表明,Co膜和Cu膜的电学特性都具有明显的尺寸效应。比较了同时考虑表面散射和晶界散射的电导理论得到的电导率公式与实验结果,不同薄膜厚度电导率的理论结果与实验结果符合较好。提出了厚度作为金属薄膜生长从不连续膜进入连续膜的一个特征判据,并利用原子力显微镜(AFM)观测了膜厚在特征厚度附近的Co膜和Cu膜的表面形貌。
范平易葵邵建达齐红基范正修
关键词:金属材料电学特性
Cu膜的光学特性尺寸效应及最小连续膜厚研究被引量:5
2006年
采用离子束溅射在K9玻璃基底上沉积了不同厚度的Cu膜,利用Lambda-900分光光度计,测量了波长为310nm到1300nm范围内Cu膜的反射率和透射率.选定波长为310、350、400、430、550、632、800、1200nm时对薄膜的反射率、透射率和吸收率随膜厚变化的关系进行研究.同时,对Cu膜的光学常量也进行了讨论.结果显示,Cu膜的光学特性都有明显的尺寸效应.将波长为550nm时的反射率和透射率随Cu膜厚度变化关系的交点对应厚度作为特征厚度,该厚度可认为是金属Cu膜生长从不连续膜进入连续膜的最小连续膜厚.根据这一特征判据,离子束溅射沉积Cu膜样品的最小连续膜厚为33nm.利用原子力显微镜观测了膜厚在特征厚度附近时Cu膜的表面形貌.
范平邵建达易葵齐红基范正修
关键词:薄膜物理学光学特性尺寸效应CU膜
离子束溅射沉积不同厚度铜膜的光学常数研究被引量:5
2006年
利用Lambda-900分光光度计对离子束溅射沉积不同厚度Cu膜测定的反射率和透射率,运用哈德雷方程,并考虑基片后表面的影响,对离子束溅射沉积的Cu膜光学常数进行了计算。结果表明,在同一波长情况下,膜厚小于100 nm的纳米Cu膜光学常数随膜厚变化明显;膜厚大于100 nm后,Cu膜的光学常数趋于一定值。Cu膜不连续时的光学常数与连续膜时的光学常数随波长变化规律不同;不同厚度的连续膜的光学常数随波长变化规律相同,但大小随膜厚变化而变化。
范平邵建达易葵齐红基范正修
关键词:薄膜光学光学常数离子束溅射
共1页<1>
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