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温度对磁控溅射法制备的NiO薄膜的影响被引量：1: 2013年; 采用射频磁控溅射法,以NiO靶材为溅射靶材,在不同温度玻璃衬底上制备了NiO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计以及四探针测试系统研究了温度对薄膜结构、光学和电学性能的影响。结果分析表明所有NiO薄膜都具有(111)方向的择优取向,并且晶格常数随温度升高而减小。NiO薄膜的晶粒尺寸和粗糙度也随着温度的升高而增大。由于NiO薄膜中镍空位和间隙氧的减少,薄膜的透过率、禁带宽度以及电阻率都随温度的升高而增大。; 耿广州单福凯张倩刘国侠Shin B.C.Lee W.J.Kim I.S.; 关键词：NIO 磁控溅射

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山东省自然科学基金(ZR2012FM02)