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国家重点基础研究发展计划(2006CB604900)

作品数:12 被引量:17H指数:3
相关作者:韩平谢自力张荣王荣华郑有炓更多>>
相关机构:南京大学南京电子器件研究所江苏省光电信息功能材料重点实验室更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:电子电信理学化学工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 12篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 12篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇淀积
  • 4篇气相淀积
  • 4篇化学气相淀积
  • 3篇金薄膜
  • 3篇合金
  • 3篇合金薄膜
  • 3篇SI
  • 3篇4H-SIC
  • 2篇应变SI
  • 2篇势垒
  • 2篇势垒高度
  • 2篇碳化
  • 2篇肖特基
  • 2篇肖特基二极管
  • 2篇二极管
  • 2篇SIC
  • 2篇GAN
  • 2篇LIGHT_...
  • 2篇Y
  • 1篇氮化镓

机构

  • 10篇南京大学
  • 3篇南京电子器件...
  • 1篇中国科学院
  • 1篇江苏省光电信...

作者

  • 10篇韩平
  • 8篇谢自力
  • 6篇张荣
  • 6篇王荣华
  • 5篇郑有炓
  • 5篇夏冬梅
  • 4篇王琦
  • 3篇陈刚
  • 2篇柏松
  • 2篇陈雪兰
  • 2篇梅琴
  • 2篇葛瑞萍
  • 2篇吴军
  • 1篇张禹
  • 1篇陆海
  • 1篇陈敦军
  • 1篇江若琏
  • 1篇赵红
  • 1篇陈鹏
  • 1篇修向前

传媒

  • 5篇稀有金属
  • 2篇Chines...
  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇激光与红外

年份

  • 2篇2011
  • 6篇2008
  • 5篇2007
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Internal quantum efficiency drop induced by the heat generation inside of light emitting diodes (LEDs)被引量:3
2011年
The reasons for low output power of AlGaInP Light Emitting Diodes (LEDs) have been analysed.LEDs with AlGaInP material have high internal but low external quantum efficiency and much heat generated inside especially at a large injected current which would reduce both the internal and external quantum efficiencies.Two kinds of LEDs with the same active region but different window layers have been fabricated.The new window layer composed of textured 0.5 μm GaP and thin Indium-Tin-Oxide film has shown that low external quantum efficiency (EQE) has serious impaction on the internal quantum efficiency (IQE),because the carrier distribution will change with the body temperature increasing due to the heat inside,and the test results have shown the evidence of LEDs with lower output power and bigger wavelength red shift.
陈依新沈光地郭伟玲徐晨李建军
关键词:外部量子效率热量ALGAINP
4H-SiC欧姆接触与测试方法研究被引量:6
2008年
主要针对不同金属和工艺条件下的4H-SiC欧姆接触特性进行对比研究,形成4H-SiC的优良欧姆接触的最佳条件。通过TLM方法结合四探针测量得到特征接触电阻率,测得NiCr和Ni与4H-SiC的最佳特征接触电阻率分别达到ρc=9.02×10-6Ω.cm2,ρc=2.22×10-7Ω.cm2,能够很好满足SiC器件的需要。
陈刚柏松李哲阳韩平
关键词:碳化硅欧姆接触退火
4H-SiC外延中的缺陷及其对肖特基二极管的影响被引量:2
2008年
研究了4H-SiC外延片中的缺陷对制作出的Ni/4H-SiC肖特基势垒二极管的电学性能的影响。SiC的外延生长是通过LPCVD外延设备在偏8°的(0001)Si面4H-SiC单晶片上进行的,衬底材料来自外购,同质生长的SiC外延层掺杂为n型,掺杂浓度5×1015cm-3,厚度为10μm。通过对外延好的4H-SiC片进行2cm×2cm划片,使用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)及喇曼光谱多种测试手段对边长为2cm的方形SiC外延材料的表面形貌、缺陷和晶型进行了分析研究,制作了简单的Ni/4H-SiC肖特基势垒二极管,制造的二极管为直径110μm的圆形。简述了制作肖特基势垒二极管的相关工艺流程;通过电学测试得到了性能较好的特性参数为理想因子n=1.24,势垒高度=0.87eV,击穿电压在650V。
陈刚陈雪兰柏松李哲洋韩平
关键词:4H-SIC肖特基二极管势垒高度
GaN MOCVD生长速率及表面形貌随生长参数的变化被引量:4
2008年
根据现有氮化镓(GaN)金属有机物化学气相淀积(Metalorganic Chemical Vapor Deposition)生长动力学理论,结合具体的MOCVD反应腔体的构造,用计算流体力学和动力学蒙特卡罗方法对GaN MOCVD生长过程中的生长速率和表面形貌演变进行了计算机模拟。结果表明,在950-1350 K的温度范围内反应气体充分热分解,是适合GaN外延生长的温度区间;温度低于950 K,反应气体未能充分地分解,导致较低的生长速率;而温度高于1350 K则Ga组分的脱附现象开始变得严重,从而抑制GaN的生长速率。另一方面,较高的V/III也会抑制GaN的生长速率。生长过程中表面形貌随时间的演变结果显示,GaN薄膜在高温下(1073~1473 K)为2D层状生长,在1373 K的温度下生长的GaN薄膜表面最为平整。
符凯张禹陈敦军韩平谢自力张荣
关键词:氮化镓计算流体力学
AlGaInP-Si glue bonded high performance light emitting diodes被引量:1
2011年
We propose a new method of using conductive glue to agglutinate GaAs based AlGaInP light emitting diodes (LEDs) onto silicon substrate,and the absorbing GaAs layer is subsequently removed by grinding and selective wet etching.It was found that AlGaInP-Si glue agglutinated LEDs have larger saturation current and luminous intensity than the conventional LEDs working at the same injected current.The luminous intensity of the new device is as much as 1007.4 mcd at a saturation current of 125 mA without being encapsulated,while the conventional LEDs only have 266.2 mcd at a saturation current of 105 mA.The luminescence intensity is also found to increase by about 3.2% after working at 50 mA for 768 h.This means that the new structured LEDs have good reliability performance.
陈依新沈光地郭伟玲高志远
关键词:选择性湿法刻蚀饱和电流
生长参数对Si_(1-x)Ge_x∶C合金薄膜中元素分布的影响
2008年
用化学气相淀积方法在Si(100)衬底上外延生长Ge组分渐变的Si1-xGex∶C合金薄膜。本文通过能量色散谱仪(EDS)和扫描电子显微镜(SEM)对合金薄膜的元素深度分布和表面形貌进行了表征,分析研究了外延层的生长温度、生长时间对Si1-xGex∶C合金薄膜性质的影响。结果表明,Si1-xGex∶C外延层生长温度和生长时间一定范围内的增加加强了岛与岛之间的合并,促进了衬底Si原子向表面扩散、表面Ge原子向衬底扩散,且生长温度比生长时间对Si、Ge原子互扩散的影响大。
梅琴韩平王荣华吴军夏冬梅葛瑞萍赵红谢自力修向前张荣郑有炓
关键词:扩散化学气相淀积
GaN/Al_2O_3(0001)上Ge薄膜的CVD外延生长
2008年
本工作采用化学气相淀积方法,以GeH4为反应气源,以InN/GaN/Al2O3(0001)复合衬底作陪片,在GaN/Al2O3(0001)复合衬底上外延生长了Ge薄膜,并对生长机理进行了探讨。研究结果表明:直接在N2气氛下外延得到了多晶Ge薄膜,表面较平整,由吸收光谱得出其带隙宽度为0.78eV;经过H2预处理,GaN/Al2O3复合衬底表面出现金属In的沉积,外延Ge薄膜沿(111)方向择优生长,晶体质量较高。
王荣华韩平曹亮梅琴吴军葛瑞萍谢自力陈鹏陆海顾书林张荣郑有炓
关键词:化学气相淀积GAN
Si_(1-y)C_y合金薄膜中替位式C组分随生长温度的变化
2007年
用化学气相淀积方法,以乙烯为碳源、硅烷为硅源,在Si(100)衬底上外延生长了替位式C组分达1.22%的Si1-yCy合金薄膜,研究表明:处于替位式格点位置的C原子与Si原子成键,形成Si-C局域振动模;随着生长温度的降低,更多具有较低迁移率的C原子占据替位式格点,导致合金薄膜中的替位式C组分增加、间隙式缺陷减少,薄膜的晶体质量得到有效提高;相应地薄膜承受的张应力增大,外延层中Si(TO)声子模发生蓝移。
王荣华韩平王琦夏冬梅谢自力张荣
关键词:化学气相淀积
用于应变Si外延薄膜的SiC缓冲层的生长
2007年
用化学气相沉积方法对Si(111)衬底进行碳化处理,继而生长SjC外延层和应变Si薄膜.结果表明:随着碳化温度的降低,SiC薄层与Si衬底界面处的空洞有逐渐变小的趋势;在1100℃进行碳化处理可以有效减少界面处的空洞,得到较平整的sic薄层,在此条件下外延生长了高质量的SiC薄膜.在该SiC薄膜上外延获得了具有单一晶向的应变sj薄膜,其霍尔迁移率明显高于相同掺杂浓度的体Si材料,电学性能得到了有效改善.
王琦王荣华夏冬梅郑有炓韩平谢自力
关键词:碳化SIC应变SI
Mg掺杂的AlGaN的MOCVD生长被引量:1
2007年
文章主要研究利用金属有机物化学汽相沉积(MOCVD)方法制备的Mg掺杂A lGaN薄膜。根据Raman光谱对Mg掺杂A lGaN薄膜应力和X射线摇摆曲线对晶体质量的研究表明引入高温A lN插入层能有效调节应力,并提高薄膜质量,降低位错密度。实验发现在保持Mg掺杂量不变的情况下,随着A l组分的上升,材料中出现大量岛状晶核,粗糙度变大,晶体质量下降,由三维生长向二维生长的转变更加困难。同时研究发现A l组分的上升和Mg掺杂量的增加都会使得螺位错密度上升;Mg的掺杂对于刃位错有显著影响,而A l组分的上升对刃位错无明显影响。经过退火温度对空穴浓度影响的研究,发现对于P型A l0.1Ga0.9N样品,900℃为比较理想的退火温度。
姚靖谢自力刘斌韩平张荣江若琏刘启佳徐峰龚海梅施毅郑有炓
关键词:RAMAN光谱
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