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北京市优秀人才培养资助(20061D501500199)

作品数：1 被引量：0H指数：0
相关作者：董国波董培明张铭赵学平严辉更多>>
相关机构：北京工业大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金北京市优秀人才培养资助更多>>
相关领域：电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电性能
  • 1篇电性能研究
  • 1篇溅射
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇和光
  • 1篇发光
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇北京工业大学

作者

  • 1篇严辉
  • 1篇赵学平
  • 1篇张铭
  • 1篇董培明
  • 1篇董国波

传媒

  • 1篇郑州大学学报...

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
CuLaO_2薄膜的制备和光电性能研究
2008年
采用传统的固相烧结法制备出纯相CuLaO2粉末,以此为靶材,首次采用射频磁控溅射法制备CuLaO2薄膜并进行退火研究,得到了具有少量杂相的CuLaO2薄膜.其透过率在红外光区较高,近70%,可见光范围相对较低.CuLaO2薄膜的电导率约6.7×10-4S/cm.对比分析了CuLaO2粉末及薄膜室温光致发光性能.测试结果表明,粉末和薄膜在450 nm^650 nm范围都有明显的发光带,而薄膜有少量的杂峰,杂峰是由于La2O3、Cu的氧化物及石英衬底的影响.
董国波张铭董培明赵学平严辉
关键词：磁控溅射光致发光
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