国家自然科学基金(60376020)
- 作品数：4 被引量：10H指数：2
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- 侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应用
- 2006年
- 提出了一种全新的移相掩模--侧墙铬衰减型移相掩模(SCAPSM),相对于通常的衰减型移相掩模,其制造工艺仅多两步,却可以较大幅度提高光刻分辨率.采用PROLITH光学光刻模拟软件,参考ArF步进扫描投影光刻机TWINSCAN XT:1400E的曝光参数,对侧墙铬衰减型移相掩模的工艺进行了研究,证明SCAPSM+离轴照明的方案可以将干式193nm光学光刻的分辨率提高到50nm.
- 谢常青刘明陈宝钦叶甜春
- 关键词：离轴照明数值孔径PROLITH
- 100nm分辨率的移相掩模技术被引量：5
- 2003年
- 介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题。
- 陆晶陈宝钦刘明王云翔龙世兵李泠
- 关键词：分辨率移相掩模光刻交替式
- 193 nm光刻散射条技术研究被引量：3
- 2005年
- 介绍了193nm光刻中的散射条技术,并利用标量衍射和傅里叶光学理论,对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析,从理论上解释了散射条的工作原理。通过商用光刻模拟软件PROLITH,对散射条的参数进行了优化,并总结出193nm光刻中孤立线散射条的优化方法。
- 康晓辉张立辉范东升王德强谢常青刘明
- 关键词：光刻离轴照明分辨率增强
- 100 nm分辨率交替式移相掩模设计被引量：2
- 2005年
- 讨论了100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键问题,以及通过对版图的拓扑分析,建立自动化的解决相位冲突的各种方法。通过比较,确立了分层叠加曝光的方案,并针对分层叠加曝光技术,进行了100nm节点中分层技术中两种关键图形的模拟。得出了分层叠加曝光在100nm技术节点中也可以实现的结论。
- 陆晶陈宝钦刘明龙世兵李泠
