上海市科委纳米专项基金(0652nm001)
- 作品数：9 被引量：13H指数：3
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- 双功能苯并恶嗪聚合物的表面及热性能研究
- 合成了双功能苯并恶嗪单体,通过红外谱图表征其结构;考察了固化温度及固化时间对聚合物膜表面能的影响,并对其热稳定性进行了研究。结果表明,随着固化温度的升高,单体聚合所得聚合物的表面能先降低后略微增大,在200℃以上温度固化...
- 曲丽辛忠
- 关键词：纳米压印聚合物膜表面性能
- 文献传递
- 超细煤颗粒热加工特性的实验分析
- 2020年
- 为了研究超细粉碎处理对煤颗粒在热加工特性上的影响,利用热重-差热综合热分析仪分别对3种不同粒度的煤颗粒样品进行热解实验,并通过红外光谱测试分析煤粉颗粒表面分子结构的变化情况.结果表明,煤颗粒经过超细粉碎处理后,热重曲线(TG)向低温方向平移,差式扫描量热(DSC)曲线由近乎线性变为起伏剧烈,两者的微分曲线DTG和DDSC都产生波动峰的增加.这是由于超细煤颗粒的微观孔隙结构和表面分子结构发生显著变化,使得热分解反应所需温度降低,反应分散到多个温度段进行.
- 尹力陈镐余飞周邵萍葛晓陵
- 关键词：超细粉碎热解反应
- 机械剥离过程中石墨晶体结构内能量相互作用的机理分析（英文）被引量：2
- 2018年
- 通过分析机械剥离过程中石墨颗粒的厚度方向和横向尺寸分布变化,建立了计算石墨片体与石墨片单层之间能量相互作用的机械模型。表征分析了剥离过程中石墨晶体结构的变化趋势。分别分析计算了石墨片剥落过程中的范德华能、石墨片单层断裂过程中的共价键能、片体以及片单层各自团聚过程中的势能。结果表明,两个石墨片单层之间的范德华力作用是导致片单层团聚的关键因素;随着剥离过程的进行,团聚现象逐渐超过剥离现象。石墨片单层剥离过程中的范德华能是片单层团聚过程中的势能的1/4,并且比石墨块体断裂过程中的共价键能小2个数量级。随着剥离出的石墨片体和片单层数量的增加,由于晶体结构间范德华能的释放而导致团聚现象急剧增加;剥离过程中的库伦能比较微小可以忽略不计。该机械模型对于制备高纵横比和无团聚的石墨片层材料具有重要意义。
- 尹力邓钏邓斐葛晓陵
- 双功能苯并恶嗪聚合物的制备及抗粘性能研究被引量：4
- 2010年
- 合成了苯并恶嗪单体B-a,通过非等温和等温DSC测量考察了单体的热固化行为;考察了固化温度及固化时间对聚合物膜表面能的影响,并对其热稳定性进行了研究。结果表明,随着固化温度的升高,单体聚合所得聚合物的表面能先降低后基本保持不变,达到210℃后所得聚合物表面能即没有显著变化,在210℃下随着固化时间的增加,单体聚合所得聚合物的表面能先降低后升高,在固化时间为1h时所得聚合物表面能最低,单体在210℃固化1h所得聚合物膜的表面能为16.73mN/m,比纯的聚四氟乙烯的表面能(21mN/m)还要低,该条件下得到聚合物膜的表面粗糙度仅为0.204nm,玻璃化转化温度为161℃,失重5%的温度T5为334℃,可以作为抗粘材料应用在热压印技术中。
- 曲丽辛忠陆馨董会杰
- 关键词：纳米压印聚合物膜热稳定性
- 纳米压印用压印胶的研究进展
- 2014年
- 纳米压印需采用压印胶进行图案转移,作为压印技术的关键材料,压印胶的性能直接影响到纳米压印的质量。根据压印技术的工艺特点对压印胶进行了分类,介绍了纳米压印用热压印胶和紫外压印胶的发展研究现状和性能优缺点,分析了目前压印胶存在的主要问题,并指出压印胶的研究主要是提高压印胶的脱模性能、固化速率以及简化工艺,主要列举了含氟硅类压印胶、双表面能压印胶的性能特点,并展望了未来的发展方向。
- 董会杰辛忠陆馨
- 关键词：纳米压印脱模性表面能
- 新型含硅丙烯酸酯型纳米压印胶的研究与应用被引量：1
- 2012年
- 纳米压印技术因其成本低、产量高的优点广受关注,而开发可适用于纳米压印的压印胶成为该工艺的关键。合成了一种硅含量高的单体三(三甲基硅氧基)甲基丙烯酰氧丙基硅烷(TRIS),制备了一种新型紫外纳米压印用含硅丙烯酸酯型压印胶,用四点弯曲实验机和接触角测试仪表征了压印胶与模板的黏附性能,研究了配方组成对模板黏附性能的影响,优化得到了抗黏附性能优异的配方。压印实验结果表明,该压印胶与模板分离时无粘连。AFM与SEM测试结果表明,压印胶上复制得到了线宽149 nm、周期298 nm、深宽比为1的纳米光栅图形,图形结构完整。
- 董会杰辛忠陆馨吕宇皓王磊
- 关键词：紫外纳米压印表面能
- 含氟硅烷抗粘材料的合成及其抗粘性能被引量：3
- 2008年
- 以1-辛烯、含氟烯烃和三氯硅烷为原料,以氯铂酸为催化剂合成了辛基三氯硅烷(OTS),全氟己基三氯硅烷(FHTS),全氟辛基三氯硅烷(FOTS)3种抗粘材料。采用溶液沉积方法将合成材料沉积在载玻片上,考察其抗粘性能及热稳定性,结果表明FHTS与FOTS的抗粘效果及热稳定性优于OTS。
- 孙琪辛忠
- 关键词：纳米压印
- 含氟硅聚苯并噁嗪材料的制备及其表面性能被引量：3
- 2012年
- 合成了含氟硅氧烷苯并噁嗪单体,在采用光学显微镜等考察水解沉积条件对单体在羟基化基片表面化学成膜的影响的基础上,考察了温度、时间等对聚苯并噁嗪成膜后表面能的影响,并对聚苯并噁嗪材料在不同热处理温度(100～350℃)下表面能的热稳定性能进行了研究。结果表明用pH=2的盐酸溶液调节沉积液所得单体膜最均一完整,聚合物的表面能随着固化时间的增加先降低后升高,固化温度越高,达到完全固化所需要的固化时间越短,在160、190、220、240℃下固化所得聚合物最低表面能分别是15.6mJ.m-2(4h)、15.0mJ.m-2(1h)、15.3mJ.m-2(15min)、15.5mJ.m-2(5min),均低于Teflon的表面能(22.0mJ.m-2)。聚合物膜表面能在低于200℃的温度下处理其表面能可基本保持不变,可以作为抗黏材料应用于纳米压印技术中。
- 曲丽周长路辛忠刘娟
- 关键词：聚苯并噁嗪表面性能热稳定性能
- 聚苯并噁嗪材料PB-m和PB-a的制备及其表面性能被引量：2
- 2011年
- 合成了以双酚A为骨架,含甲基的B-m苯并噁嗪单体和含苯基的B-a苯并噁嗪单体,考察了温度、时间等因素对聚苯并噁嗪成膜后表面能的影响,并对聚苯并噁嗪材料的成膜性能、热稳定性能进行了研究。结果表明:苯并噁嗪单体B-m和B-a在210℃固化1 h后得到聚苯并噁嗪膜层的表面能最低,分别为16.0 mJ/m2和16.6 mJ/m2,显著低于单纯聚四氟乙烯膜层的表面能(22.0 mJ/m2),相应得到聚苯并噁嗪膜的表面粗糙度分别为0.4 nm和0.2 nm,PB-m和PB-a失重5%时的温度分别为279℃和335℃。PB-a聚合物具有更好的热稳定性。
- 曲丽周长路辛忠
- 关键词：聚苯并噁嗪表面性能热稳定性表面自由能
- 紫外纳米压印用PMMA转移层膜的制备及性能
- 2009年
- 以苯甲醚为溶剂,采用旋涂法制备PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)转移层膜。当PMMA的质量分数为5%、旋涂速度为2000～6000r/min时,转移层膜的厚度为90～150nm,粗糙度为0.3nm,可满足纳米压印要求。采用接触角测量仪测试计算出PMMA、PS转移层膜的表面能,并通过转移层膜与压印胶之间的粘附功和界面张力的计算,评价了PMMA、PS和Si片对压印胶的润湿和粘附性能。结果表明,PMMA膜可改善压印胶在基片上的润湿铺展性能和粘附性能,而PS膜虽能改善基片的润湿铺展性能,却不利于压印胶的粘附。
- 董会杰辛忠陆馨
- 关键词：紫外纳米压印聚甲基丙烯酸甲酯
