您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(60678037)

作品数:3 被引量:3H指数:1
相关作者:梁宜勇杨国光陈龙江罗剑波张春辉更多>>
相关机构:浙江大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国航空科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇等离子体显示
  • 1篇等离子体显示...
  • 1篇旋涂
  • 1篇英文
  • 1篇球面
  • 1篇曲面
  • 1篇显示板
  • 1篇面光源
  • 1篇激光
  • 1篇激光直写
  • 1篇激光直写光刻
  • 1篇胶层厚度
  • 1篇光电
  • 1篇光刻工艺
  • 1篇光效
  • 1篇光效率
  • 1篇发光
  • 1篇发光效率

机构

  • 3篇浙江大学

作者

  • 3篇梁宜勇
  • 2篇陈龙江
  • 2篇杨国光
  • 1篇张春辉
  • 1篇马燕萍
  • 1篇罗剑波
  • 1篇尚学府
  • 1篇王鲲
  • 1篇顾征
  • 1篇顾智企
  • 1篇张春晖

传媒

  • 1篇光电子.激光
  • 1篇光电工程
  • 1篇电子器件

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
球面旋涂胶层厚度分布模型及其实验研究被引量:2
2009年
创建一种光刻胶离心式旋涂过程中基于流体力学分析的凸面胶厚分布及胶厚均匀性模型,根据曲面流体运动方程以及凸面基片的面型特征得到了凸面恒速甩胶过程中胶层厚度的分布公式,结合凸面流体层流条件和牛顿流体的质量连续方程推导出胶厚分布与胶液类型、初始胶液粘度和密度、转速、基片几何尺寸以及甩胶时间等参数的关系式,利用光谱椭偏仪和台阶仪所测得的结果对该模型进行了验证,两者有较好的吻合,同时建立了胶厚均匀性与甩胶转速、甩胶时间的关系式,该模型可跟踪、监控和改进预光刻过程中凸面胶层的均匀性,以便改善最后的光刻线条质量。
陈龙江罗剑波梁宜勇张春辉杨国光
双光谱法实现光刻工艺中的胶厚检测被引量:1
2009年
提出了一种光刻胶厚度测量方法,即双光谱法。采用AZ4620正型光刻胶甩胶于平面玻璃基片,以椭偏仪测量的结果为基准。通过双光谱法的测量,检测经过基片的出射光相对入射光强度的变化,达到测量胶厚的目的,结果偏差在2%以内。与传统的膜厚检测方法相比,有计算方法简便,可操作性强等优点。针对光刻胶有曝光的特性,双光谱法更适合于胶厚检测。
张春晖陈龙江梁宜勇杨国光
关键词:光刻
等离子体显示板面光源的制备技术及光电特性研究(英文)
2008年
利用等离子体显示板自发光、薄型、亮度高、发光均匀的特点,开发出基于等离子体显示机理的薄型等离子体面光源,用于需要薄型照明的特定场合。为克服等离子体显示板发光效率过低的不足,对面光源显示板的结构、材料、工艺和驱动电路诸方面进行多项改进,经改进后的等离子体面光源最小厚度不大于4mm,亮度>350cd/m2,色温为6500 K,发光效率>4Lm/W。光源型PDP显示板的研究结果对进一步提高图象型PDP显示板的光电性能提供了有益的启示。
梁宜勇顾征孙戎顾智企尚学府马燕萍王鲲
关键词:发光效率
共1页<1>
聚类工具0