国家自然科学基金(60678004)
- 作品数：14 被引量：87H指数：6
- 相关作者：邵建达范正修易葵薛春荣齐红基更多>>
- 相关机构：中国科学院上海光学精密机械研究所常熟理工学院中国科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>
- 不同退火过程对紫外HfO_2/SiO_2,Y_2O_3/SiO_2多层膜性能的影响被引量：1
- 2009年
- 采用直升式和阶梯式加热法对电子束热蒸发镀制出的HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2多层膜进行了400℃的退火处理,发现采用阶梯式加热法退火后多层膜在190～300 nm范围内的峰值反射率均得到提高,说明此种后处理方法可能会改善膜层在紫外波段的光学性能。再对HfO2,,2O3的单层膜进行行相应的退火处理,发现退火后HfO2膜层的物理厚度减小从而发生蓝移现象;直升式退火使Y2O3膜层的折射率变小引起蓝移,阶梯式退火使得Y2O3膜层的物理厚度减小引起蓝移。对退火前后样品的微结构进行X射线衍射(XRD)法测量发现,退火可以使材料进行晶化,并且采用直升式加热法后材料的结晶度更大,从而膜内散射变大,会引起膜层反射率的轻微降低。
- 袁景梅贺洪波易葵邵建达范正修
- 关键词：光学薄膜紫外退火
- 193nm氟化物增透膜的特性被引量：2
- 2011年
- 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性,以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上,设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%,单面镀膜增透膜的透射率为93.85%,增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6%。要得到高性能的193 nm增透膜,应选用超级抛光基底。
- 薛春荣易葵邵建达
- 关键词：基底
- 193nm氟化物高反膜研究被引量：4
- 2010年
- 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物高反膜,对193 nm氟化物高反膜的设计、制备与性能分析进行了深入探讨。用挡板法和预镀层技术相结合,实现了在现有镀膜机上对193 nm薄膜的膜厚控制。在熔石英基底(JGS1)上,用热舟蒸发制备了不同氟化物材料组合高反膜,对不同氟化物材料组合高反膜的反射率、透射率和光学损耗等光学特性,横截面形貌和表面粗糙度等微结构以及应力等特性进行了讨论和比较。在对不同材料组合高反膜性能分析比较的基础上,对应用于高反膜膜材料组合进行了优化选择,以NdF3/AlF3为材料对,设计制备了193 nm高反膜。193 nm氟化物高反膜的反射率达到96%。
- 薛春荣易葵邵建达范正修
- 关键词：高反膜
- 几种氟化物薄膜材料的光学特性被引量：6
- 2009年
- 为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底温度镀制了3种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和3种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;在国家同步辐射真空紫外实验站测定了它们120～300nm的透射光谱曲线,用商用lambda900光谱仪测量了它们190～500nm的透射光谱曲线,两者相结合标定了透射率的准确值。用包络法和模拟退火相结合研究了它们在120～500nm的折射率和消光系数,给出了6种氟化物材料的光谱色散曲线。结果显示,3种高折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.77～1.89,而3种低折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.44～1.48;研究表明,选用折射率相差较大的高、低折射率氟化物薄膜,可在膜系设计中组成高低折射率材料对,用于设计各种实用的薄膜器件。
- 薛春荣易葵邵建达范正修
- 关键词：真空紫外光学特性
- 157nm氟化物光学薄膜制备被引量：1
- 2010年
- 为了研制低损耗、高性能的157nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和增透膜的反射率、透射率、光学损耗等特性.结果表明,采用NdF3/AlF3材料对设计制备的157nm高反膜的透过率为1.7%,反射率接近93%,散射损耗为2.46%,已经与吸收损耗相当;以AlF3/LaF3材料对设计制备的157nm增透膜的剩余反射率低于0.17%.
- 薛春荣易葵邵建达
- 关键词：高反膜增透膜
- 1064nm和532nm激光共同辐照薄膜的损伤被引量：19
- 2009年
- 建立了两个不同波长激光同时辐照薄膜的损伤阈值测试装置,实验研究和对比1064nm激光,532nm激光,1064nm和532nm激光共同作用3种不同方式辐照1064nm和532nm增透膜(ARF)的损伤阈值及其损伤形貌。结果表明,1064nm和532nm激光共同作用损伤形貌和532nm激光单独作用下的形貌相似,532nm激光在诱发薄膜损伤因素中起主导作用。1064nm激光单独辐照薄膜的损伤阈值高于532nm激光,而1064nm和532nm激光共同作用下薄膜的阈值介于这两者之间。
- 周明赵元安李大伟范正修邵建达
- 关键词：激光损伤阈值
- 真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性被引量：15
- 2009年
- 研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料，给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长，测量了这些材料在120～500nm的透过率，给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法，并用该方法得到了熔石英、氟化镁晶体、氟化钙晶体、氟化锂晶体在120～500nm的折射率和消光系数，对这些常用基底的使用范围和特点进行了一定的比较和分析，并将所得基底的光学常数与公开发表的文献进行了比较，证明了所得结果的可靠性。
- 薛春荣易葵魏朝阳邵建达范正修
- 关键词：深紫外真空紫外透过率消光系数
- 不同波长激光同时辐照薄膜热效应研究被引量：4
- 2009年
- 通过分析两个不同波长激光同时辐照下薄膜体内驻波场分布并求解热传导方程,得到1064nm激光和355nm激光在三倍频分离膜内共同作用下二维温度场分布.研究表明:1064nm激光和355nm激光共同作用引起薄膜体内的温升峰值高于相同能量1064nm激光单独作用引起的薄膜体内的温升峰值,低于相同能量355nm激光单独作用引起的薄膜体内的温升峰值.
- 周明范正修邵建达赵元安李大伟
- 关键词：温度场分布
- 355nm增透膜的设计、制备与性能被引量：7
- 2008年
- 用热舟蒸发法结合修正挡板技术制备了355 nm LaF3/MgF2增透膜,并对部分样品进行了真空退火。采用Lambda 900光谱仪测试了增透膜的低反光谱和透射光谱,并考察了其光谱稳定性;使用脉冲8 ns的355 nm激光测试了增透膜的激光损伤阈值(LIDT);采用Normarski显微镜对增透膜的表面缺陷密度和破斑形貌进行了观察。实验结果表明,制备得到的增透膜的剩余反射率较低,光谱稳定性好;真空退火对增透膜的激光损伤阈值没有改善;增透膜的破环形貌为散点形式,结合破斑深度测试表明薄膜的破坏源于薄膜和基底界面的缺陷点。JGS1熔石英基底由于有好的表面状况、固有的高激光损伤阈值和以其为基底的增透膜具有更低的表面场强,使得其上的增透膜有更高的抗激光损伤能力。
- 余华崔云申雁鸣齐红基易葵邵建达范正修
- 关键词：增透膜真空退火激光损伤阈值
- 氟化物材料在深紫外波段的光学常数被引量：8
- 2009年
- 研究了紫外领域常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,在氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3,NdF3,GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2,AlF3,Na3AlF6;用商用lambda900光谱仪测量了它们在190—500 nm范围的透射率光谱曲线;用包络法研究了它们的折射率和消光系数,研究了影响透射率和光学常数的主要因素,给出了6种氟化物材料的光学常数公式和光谱色散曲线,为紫外技术与应用研究提供了参考.
- 薛春荣易葵齐红基邵建达范正修
- 关键词：光学常数包络法深紫外
