国家自然科学基金(50375040)
- 作品数：6 被引量：10H指数：1
- 相关作者：张飞虎张华丽杨帆栾殿荣闫永达更多>>
- 相关机构：哈尔滨工业大学兰州理工大学南通大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国人民解放军总装备部预研基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术电子电信更多>>
- 计算机控制纳米胶体射流抛光的实验研究被引量：1
- 2012年
- 将所设计的纳米颗粒胶体射流加工系统与计算机控制技术结合,实现了计算机控制纳米颗粒胶体射流加工,可将其应用于小曲率半径非球面和自由曲面元件的超光滑表面加工。本试验对一非球曲面高纯石英玻璃元件进行纳米颗粒胶体射流超光滑表面加工,用表面轮廓仪测量了纳米颗粒胶体射流加工前后该高纯石英玻璃元件的表面轮廓曲线。实验结果表明:计算机控制纳米颗粒胶体射流加工,实现了可控的微/纳米材料去除,该非球曲面元件轴向最大去除量为900 nm。原子力显微镜检测结果表明:该元件轮廓截面曲线上的表面粗糙度由Ra2.860 nm降低到Ra0.460 nm。采用纳米颗粒胶体射流技术对小曲率曲面及自由曲面进行超光滑表面加工,是一种确定性超光滑表面的加工方法。
- 宋孝宗张飞虎龚翔宇栾殿荣
- 关键词：超光滑表面抛光胶体射流
- 基于Nano Indenter的纳米刻划性能试验研究被引量：8
- 2006年
- 概述了纳米划痕试验在研究材料纳米刻划性能方面的研究进展,着重介绍了材料刻划破裂机理和刻划临界载荷,以及薄膜材料厚度效应和基底效应对纳米刻划性能的影响等方面的研究状况,讨论了今后尚需进一步研究的问题.
- 张华丽张飞虎
- 关键词：纳米划痕临界载荷
- 以工件材料作为修整电极的球面ELID精密磨削试验研究
- 2010年
- 针对小球面硬质合金精密磨削的技术难题,尝试对硬质合金做ELID(Electrolytic In-process Dressing)成形范成法凹球面磨削试验。因为被加工凹球面直径小,受空间限制无法解决修整电极的安装问题,又由于硬质合金工件自身导电性良好,因此采用以工件做电极的ELID磨削试验方案。考虑到磨削过程中的火花放电现象对磨削表面质量的负面影响,设计"间歇电解修锐ELID磨削"(简称ELID-Ⅱ)和"连续电解修锐ELID磨削"(简称ELID-Ⅲ)两种方案进行试验。初步试验结果为:"ELID-Ⅱ"磨削后表面粗糙度值为Ra0.12μm和球面度误差6.99μm,"ELID-Ⅲ"获得表面粗糙度值为Ra0.53μm和球面度误差57.76μm,"ELID-Ⅱ"优于"ELID-Ⅲ"。
- 佟富强张勇张飞虎
- 关键词：ELID磨削修整电极
- 基于AFM的纳米级表面加工中切屑形成的影响因素(英文)被引量：1
- 2008年
- 以原子力显微镜(AFM)为加工工具进行了纳米级加工实验,对不同加工条件下的材料去除过程和切屑形态进行了研究.切屑形态通过扫描电子显微镜(SEM)进行观察,分析了不同垂直载荷、循环次数和针尖加工方向下铝铜被加工表面的切屑形成过程.实验结果表明:低载下切屑呈细小断屑,散布在加工区域周围;随着垂直载荷的增加,切屑逐渐变成连续的带状切屑.不同循环次数、针尖加工面对切屑形成都有很大影响.在此基础上,对比分析了相同实验条件下,不同力学性能材料的切屑形成过程.最后,通过检测被加工表面得出被加工表面质量与切屑的数量和形态之间的关系,提出了改善被加工表面质量的方法,以帮助人们更好地理解基于AFM的纳米级加工技术.
- 张华丽张飞虎杨帆闫永达
- 关键词：原子力显微镜扫描电子显微镜切屑形成
- 焊接凝固裂纹数值模拟的研究进展及前景展望
- 焊接凝固裂纹的产生与否取决于两个方面的因素,材料凝固裂纹阻力和凝固裂纹驱动力,凝固裂纹阻力可以通过实验方法来获得,而凝固裂纹驱动力主要采用有限元计算方法得到。文中对焊接凝固裂纹的形成机理、凝固裂纹驱动力曲线和焊接凝固裂纹...
- 魏艳红董志波刘仁培董祖珏
- 关键词：凝固裂纹数值模拟
- 文献传递
- STM针尖-样品相互作用实验研究
- 2007年
- 研究了大气状态下应用扫描隧道显微镜(STM)对金薄膜和单晶硅材料进行了纳米级电场加工实验。分析了针尖和样品表面的相互作用机理,以及隧道间隙、隧道电流反馈、脉冲个数等因素对纳米点结构的加工产生的影响,并探讨了针尖磨损对纳米结构一致性的影响。
- 张飞虎张华丽石美英
- 关键词：STM磨损
- 单晶硅表面STM成像理论模型与实验分析
- 2012年
- 结合扫描隧道显微镜(STM)成像实验和第一性原理原子级模拟计算的方法已经成为材料界面表征的重要手段。超高真空条件下的STM可用于直接观察单原子等微观结构,但其成像原理还未被理解清楚。STM扫描测得的试件表面原子级图像并不直接反映材料原子的形态,实际上是表面形貌和表面电子态局域密度的综合结果。为了解释STM成像,采用第一性原理Siesta方法,研究了Si(001)面STM成像过程的电子结构,对表面粒子的原子轨道和相应的电荷密度进行计算。讨论了等高模式下扫描高度对局域电子云密度分布的影响,并分析了STM针尖几何形状对模拟结果的影响。研究表明,材料表面原子的电子云密度分布可以用来解释STM成像精度和扫描高度对比的变化。
- 张华丽张飞虎
- 关键词：第一性原理计算电子密度电子结构单晶硅
