国家自然科学基金(60907017)
- 作品数：4 被引量：33H指数：4
- 相关作者：吴建宏陈新华刘全刘全汪海宾更多>>
- 相关机构：苏州大学江苏科技大学教育部更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省科技支撑计划项目中国人民解放军总装备部预研基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信更多>>
- Fabrication of the polarization independent spectral beam combining grating
- Owing to damage,thermal issues,and nonlinear optical effects,the output power of fiber laser has been proven t...
- 刘全JIN YunxiaWU JianhongGUO Peiliang
- 文献传递
- 用于强激光系统的光栅偏振器
- 利用严格耦合波理论分析了用于强激光系统的光栅偏振器的衍射特性及消光比,优化得到偏振光栅周期为600nm,占宽比在0.52-0.55之间,槽形深度在1370nm-1420nm之间时,才能保证在1053nm波长下,透射率高于...
- 刘全吴建宏郭培亮
- 关键词：光栅偏振器严格耦合波理论全息光刻离子束刻蚀
- 文献传递
- Ar^+离子束刻蚀制作凸面闪耀光栅被引量：9
- 2011年
- 凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小,制作工艺难度大,其衍射效率与理论值有较大差距,一直制约其应用。针对上述问题与难点进行了分析,通过光刻胶光栅掩模制作和Ar+离子束刻蚀等工艺制作了凸面闪耀光栅。针对离子束大掠入射刻蚀凸球面时槽形闪耀角不易一致的难题,利用转动扫描刻蚀实现了球面上的闪耀光栅刻蚀,最终制作出了约4.3°闪耀角的凸面闪耀光栅,在400～800nm波段范围内,其+1级衍射光效率均值达40%以上。
- 汪海宾刘全吴建宏
- 关键词：衍射光栅全息光刻衍射效率
- 高衍射效率凸面闪耀光栅的研制被引量：16
- 2019年
- 基于严格耦合波分析,研究凸面闪耀光栅的衍射特性;采用全息光刻-离子束刻蚀法制作中心周期为2.45μm、曲率半径为51.64 mm、口径为17 mm的凸面闪耀光栅,闪耀角为6.4°,顶角为141°。结果表明,在整个可见-近红外波段,所制作光栅的1级衍射效率大于40%,在闪耀波长处1级衍射效率大于75%。
- 刘全刘全郭培亮吴建宏
- 关键词：光栅全息光刻离子束刻蚀衍射效率
- 用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制被引量：6
- 2020年
- 利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息光刻-离子束刻蚀技术,制作了用于520 nm波长飞秒激光的周期为1067 nm、有效面积大于40 mm×30 mm的相位掩模。实际制作的相位掩模是梯形槽形,槽深是0.665μm,分析了梯形槽形中梯形角对衍射效率的影响。实验测量表明,该相位掩模的零级衍射效率小于2%,±1级衍射效率大于40%,满足飞秒激光制作光纤光栅的需要。
- 刘全刘全鲁金超陈新华吴建宏
- 关键词：全息光刻相位掩模严格耦合波理论离子束刻蚀衍射效率
- Fabrication of the convex blazed grating
- The convex grating is one of the key elements in hyperspectral imaging spectrometers.In this paper the diffrac...
- LIU Quan a
- 文献传递
- Study on the polarization grating working in 1053 nm wavelength
- A fused-silica polarization grating at a wavelength of 1053 nm was designed.To achieve a high extinction ratio...
- LIU Quan a
- 文献传递
- 用于强激光系统的光栅偏振器被引量：5
- 2016年
- 针对强激光系统中常用的1 053nm激光器进行了偏振光栅结构的优化设计。利用严格耦合波理论分析了光栅偏振器的衍射特性及消光比,分析显示偏振光栅周期为600nm,占宽比为0.535~0.55,槽形深度为1 395nm^1 420nm时,可保证其在1 053nm波长下,透射率高于95%,消光比大于1 500。基于分析结果,利用全息光刻技术制作了高质量光刻胶光栅掩模,并采用倾斜转动的离子束刻蚀结合反应离子束刻蚀的方法对该光刻胶光栅掩模进行图形转移,制作了底部占宽比为0.54,槽形深度为1 400nm的光栅偏振器。实验测量显示其透射率为92.9%,消光比达到160。与其他制作光栅偏振器方法相比,采用单光刻胶光栅掩模结合倾斜转动的离子束刻蚀工艺,不但简化了制作工艺,而且具有激光损伤阈值高、成本低的优点。由于该技术可制作大面积光栅,特别利于在强激光系统中应用。
- 刘全吴建宏郭培亮
- 关键词：高功率激光系统严格耦合波理论全息光刻离子束刻蚀
- 凸面分区复用型光栅的研制
- 适用于深空探测的可见-短波红外成像光谱仪需要同时满足宽谱段覆盖、高光谱分辨率和轻小型化要求。本文采用凸面分区复用型光栅设计,实现了在可见-短波红外(400nm-2500nm)的宽波段高衍射效率,保证了光谱仪紧凑光路布局,...
- 刘全郭培亮吴建宏
- 关键词：凸面光栅全息光刻离子束刻蚀衍射效率
- 文献传递
