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氮等离子体辅助脉冲激光沉积生长p型ZnO∶N薄膜的光学和电学性质(英文)被引量：2: 2011年; 通过氮气等离子体辅助脉冲激光沉积(PLD)技术制备了氮掺杂氧化锌(ZnO∶N)薄膜。经过低温快速热退火(RTA)处理后,ZnO∶N薄膜呈现p型导电特性。利用X射线光电子能谱(XPS)、光致发光(PL)和霍尔测量对ZnO∶N薄膜中N的化学状态及其光学和电学性质进行了系列的研究。结果表明:所制得的p型ZnO∶N薄膜为高度补偿半导体;RTA工艺不仅可以激活薄膜中更多的N受主,还可以弱化由薄膜中的施主缺陷造成的自补偿效应。在低温PL光谱中观察到了3种与氮受主相关的光发射,并且通过自由电子-受主(FA)辐射复合光发射确定了薄膜中N受主的离化能(128 meV)。随着退火温度的升高,施主-受主对发射峰呈现了略微的红移现象,这可以通过势能波动模型加以理解。; 王雷徐海阳李兴华刘益春; 关键词：P型 PLD

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国家自然科学基金(60907016)